專利名稱：：平臺機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明是關(guān)于一種平臺(stage)機構(gòu)，特別是關(guān)于一種設(shè)置于真空裝置，尤其是包括加熱機構(gòu)的真空裝置內(nèi)的平臺機構(gòu)。
背景技術(shù)：
：眾所周知一種真空裝置，其在真空室內(nèi)包括平臺機構(gòu)，并將載置于此平臺機構(gòu)上的對象物于真空狀態(tài)下進行加工或檢查。作為如此真空裝置，有液晶制造裝置或檢查裝置，例如，將電子束或離子束等荷電粒子束照射至對象物上，藉此進行對象物的測定、分析、及檢查，此外對對象物實施加工。作為如此荷電粒子束裝置的一例，例如眾所周知一種TFT基板檢查裝置，其于TFT基板上照射電子束，并檢出自TFT基板所放出的二次電子，藉此進行TFT基板的缺陷;險查。除TFT基板檢查裝置以外，使用荷電粒子束的測定裝置或檢查裝置、或者加工裝置等，在上述真空狀態(tài)下所進行的加工或檢查一般是在常溫下實施。如此真空裝置中，研討將對象物在高溫狀態(tài)下進行測定或加工。例如，由于在高溫狀態(tài)下檢查TFT基板，對于常溫下難以檢出的TFT基板的缺陷，可容易地檢出，并有望提高缺陷的檢出效率。如此，在真空裝置中，將平臺在高溫狀態(tài)下加工或檢查時，平臺的構(gòu)造體因高溫而熱膨脹，可能成為影響平臺平穩(wěn)驅(qū)動或者平臺耐久性的重要因素。圖8(a)、圖8(b)是用以說明包括加熱裝置的真空裝置的一結(jié)構(gòu)例的說明圖。圖8(a)表示真空裝置101的概略剖面。真空裝置101包括于真空室102內(nèi)載置基板105等對象物的平臺機構(gòu)104;以及對基板105加熱的加熱裝置103。平臺機構(gòu)104包括調(diào)整傾斜度(e)的e平臺104a、以及在X方向及Y方向上移動的X-Y平臺104b，將上述多個移動組合，以調(diào)整基板105的位置。e平臺104a包括加熱裝置103,其加熱載置于平臺的臺(table)上的基板105。圖8(b)是用以說明由包括真空裝置的加熱裝置對平臺機構(gòu)傳熱的說明圖。圖8(b)中，加熱裝置103散發(fā)的熱，除經(jīng)熱傳導(dǎo)而加熱載置于e平臺104a的臺上的基板105以夕卜，亦經(jīng)熱輻射而加熱X-Y平臺104b。在6平臺104a與X-Y平臺104b之間，因插入有隔熱材而可降低熱傳導(dǎo)，但是由于輻射熱在真空中亦傳導(dǎo)，因此X-Y平臺104b是利用來自6平臺104a的熱輻射而加熱。如此，當(dāng)平臺機構(gòu)為高溫時，構(gòu)成平臺機構(gòu)的構(gòu)造物產(chǎn)生熱膨脹，難以平穩(wěn)驅(qū)動平臺。近年來，伴隨基板的大型化，設(shè)置于真空室內(nèi)的平臺機構(gòu)亦大型化。此平臺機構(gòu)的大型化，使得平臺機構(gòu)的高溫對熱膨脹的影響更加顯著。圖9(a)、圖9(b)是用以說明平臺機構(gòu)高溫的影響的概略圖。圖9(a)表示加熱前的狀態(tài)，圖9(b)表示加熱后的狀態(tài)。再者，此處表示相對于Y臺驅(qū)動X臺的才幾構(gòu)。平臺機構(gòu)100包括第1線性導(dǎo)軌111、第2線性導(dǎo)軌112此一對線性導(dǎo)軌，X臺100a利用此一對線性導(dǎo)軌111、112,于X方向上可滑動地支持Y臺100b，并藉由驅(qū)動;f幾構(gòu)113而驅(qū)動。第1線性導(dǎo)軌111包括沿X方向固定于Y臺100b的軌道部llla、以及沿X方向固定于X臺100a的滑動部lllb，并使滑動部111b自由滑動于軌道部llla而構(gòu)成。又，第2線性導(dǎo)軌112包括沿X方向固定于Y臺100b的軌道部112a、以及沿X方向固定于X臺100a的滑動部112b，并使滑動部112b自由滑動于軌道部112a而構(gòu)成。此平臺坤幾構(gòu)100的結(jié)構(gòu)中，利用加熱裝置對X臺100a加熱時，因加熱而產(chǎn)生熱膨脹。圖9(b)表示熱膨脹對平臺機構(gòu)的影響。圖9(b)中，X臺100a藉由第l、第2線性導(dǎo)軌111、112而自由滑動于X方向，故不受X方向熱膨脹的影響。另一方面，X臺100a在Y方向，藉由第1、第2線性導(dǎo)軌lll、112而固定于Y臺100b上，故Y方向的熱膨脹使X臺100a、平臺第1、第2線性導(dǎo)軌111、112、以及Y臺100b產(chǎn)生變形。圖9(a)中a-g概略地表示產(chǎn)生于各部分的變形。此變形除對線性導(dǎo)軌的平穩(wěn)驅(qū)動造成影響以外，亦可能由于應(yīng)力而使臺自身產(chǎn)生變形。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明以解決上述問題為目的，旨在降低高溫對平臺機構(gòu)的熱膨脹造成的影響，更詳細而言，其目的在于防止因平臺機構(gòu)的線性導(dǎo)軌的熱膨脹而妨礙其平穩(wěn)驅(qū)動。本發(fā)明的平臺機構(gòu)包括至少一個臺；于直線方向上引導(dǎo)此臺的一對臺用線性導(dǎo)軌；以及補償因臺的熱膨脹而導(dǎo)致位移的補償用線性導(dǎo)軌。補償用線性導(dǎo)軌于支持一對臺用線性導(dǎo)軌的支持部，固定其中一個臺用線性導(dǎo)軌，并使另一個臺用線性導(dǎo)軌在與此直線方向正交的方向上自由移動。臺因為熱膨脹而向各個方向位移。將此位移于臺用線性導(dǎo)軌引導(dǎo)的直線方向、以及與此直線方向正交的方向上分解后，臺用線性導(dǎo)軌引導(dǎo)的直線方向的位移，與臺用線性導(dǎo)軌具有相同的移動方向，故不妨礙線性導(dǎo)軌的驅(qū)動。另一方面，與直線方向正交的方向的位移，與臺用線性導(dǎo)軌的驅(qū)動方向正交，因此是妨礙其驅(qū)動的方向。本發(fā)明的平臺機構(gòu)在一對臺用線性導(dǎo)軌內(nèi)，其中一個臺用線性導(dǎo)軌固定于支持部，而另一個臺用線性導(dǎo)軌于支持部，在與直線方向正交的方向，即在妨礙驅(qū)動的方向上自由移動，故不妨礙臺的位移而移動，并吸收變形。由于吸收此變形，使臺用線性導(dǎo)軌或臺上不會產(chǎn)生應(yīng)力，因此平臺可不受妨礙地平穩(wěn)驅(qū)動。此平臺機構(gòu)可適用于在上下方向上重迭有2個臺，如X臺與Y臺而構(gòu)成的X-Y平臺。補償用線性導(dǎo)軌可為設(shè)置于X臺或者Y臺的任一臺的結(jié)構(gòu)，此外亦可為設(shè)置于X臺及Y臺兩個臺的結(jié)構(gòu)。補償用線性導(dǎo)軌，藉由固定其中一個臺用線性導(dǎo)軌，并且使另一個臺用線性導(dǎo)軌在與直線方向正交的方向上自由移動，而補償臺的位移。補償用線性導(dǎo)軌的結(jié)構(gòu)可包括滑動部，此滑動部在與直線方向的軌道部正交的方向上，隨著臺的位移而移動。當(dāng)補償用線性導(dǎo)軌適用于上方的臺時，固定其中一個上臺用線性導(dǎo)軌于下臺，并且使另一個上臺用線性導(dǎo)軌在與直線方向正交的方向上自由移動。又，當(dāng)補償用線性導(dǎo)軌適用于下方的臺時，于支持引導(dǎo)下臺的一對下臺用線性導(dǎo)軌的支持部，固定其中一個下臺用線性導(dǎo)軌，并使另一個下臺用線性導(dǎo)軌在與上述直線方向正交的方向上自由移動。根據(jù)本發(fā)明，可降低高溫對平臺機構(gòu)的熱膨脹造成的影響。又可防止因平臺機構(gòu)的線性導(dǎo)軌的熱膨脹而妨礙平穩(wěn)驅(qū)動。圖1是用以說明本發(fā)明的平臺機構(gòu)的一結(jié)構(gòu)例的說明圖。圖2(a)、圖2(b)是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第1形態(tài)的斗既略立體圖。圖3(a)、圖3(b)是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第1形態(tài)的概略立體圖。圖4(a)、圖4(b)是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第l形態(tài)，而自下面所觀察的圖。圖5(a)、圖5(b)是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第l形態(tài)，而自下面所觀察的圖。圖6是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第2形態(tài)的概略立體圖。圖7是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第3形態(tài)的概略立體圖。圖8(a)、圖8(b)是用以說明包括加熱裝置的真空裝置的一結(jié)構(gòu)例的說明圖。圖9(a)、圖9(b)是用以說明平臺機構(gòu)的高溫所造成的影響的概略圖。圖10(a)、圖10(b)是用以說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的2個實施態(tài)樣的圖。1:平臺機構(gòu)2:真空室3:e平臺4:平臺才幾構(gòu)4a:X臺4b:X驅(qū)動馬達4c:滾珠螺桿4d:X軸5:Y平臺5a:Y臺5b:Y驅(qū)動馬達5c:滾珠螺桿5d:X軸6:加熱裝置7:反射板8:間隔件9:基板11:第1X線性導(dǎo)軌lla:第14九道lib:第1滑動器12:第2X線性導(dǎo)軌12a:第2軌道12b:第2滑動器13:第3線性導(dǎo)軌13a:槽13b:間隙14:第3X線性導(dǎo)軌14a:槽14b:滑動器15:第3X線性導(dǎo)軌15a:凸部15b:槽21:第1Y線性導(dǎo)軌21a:第1軌道21b第l滑動器22:第2Y線性導(dǎo)軌22a:第2軌道22b:第2滑動器23:第3Y線性導(dǎo)軌23a:槽100:平臺才幾構(gòu)100a:X臺100b:Y臺101:真空裝置102:真空室103:加熱裝置104:平臺機構(gòu)104a:e平臺104b:X-Y平臺105:基板111:第1線性導(dǎo)軌lllb:滑動器部112a:軌道111a:軌道部112:第2線性導(dǎo)軌112b:滑動器113:驅(qū)動才幾構(gòu)具體實施方式以下，就本發(fā)明的實施形態(tài)，參照圖式加以詳細說明。圖1是用以說明本發(fā)明平臺機構(gòu)的一結(jié)構(gòu)例的說明圖，表示設(shè)置于真空室內(nèi)的例。圖1中，平臺機構(gòu)4設(shè)置于真空室2內(nèi)，并載置基板9等對象物。平臺機構(gòu)4可設(shè)為在X-Y方向上可移動的X-Y平臺機構(gòu)、調(diào)整傾斜度的e平臺機構(gòu)、或者將e平臺與x-Y平臺組合而成的e及x-Y平臺機構(gòu)。此處，對將e平臺機構(gòu)與x-y平臺機構(gòu)組合而成的結(jié)構(gòu)加以說明。平臺機構(gòu)i包括調(diào)整傾斜度(e)的e平臺3與在x方向及y方向上移動的X-Y平臺4，將0方向上的移動與在X、Y方向上的移動加以組合，以此調(diào)整基板5的位置。各平臺設(shè)為自上方依序重迭e平臺3、X平臺4、及Y平臺的結(jié)構(gòu)?；?載置于e平臺3上，利用此e平臺調(diào)整傾斜度，利用x平臺4進行X方向上的定位，利用Y平臺5進行Y方向上的定位。此處，e平臺3包括加熱裝置6。加熱裝置6設(shè)置于e平臺3內(nèi)，以此加熱載置于e平臺3上的基板9。此加熱裝置6可為例如IR燈等的加熱器。再者，加熱裝置6于此處是設(shè)置于e平臺3內(nèi)的結(jié)構(gòu)，然而加熱裝置6的設(shè)定位置并非限于e平臺3內(nèi)，亦可為使加熱裝置6自平臺機構(gòu)i分離的結(jié)構(gòu)，例如，可將設(shè)置于e平臺3的上方的光源作為加熱裝置。利用光源構(gòu)成加熱裝置時，載置于e平臺3上的基板9藉由從光源(未圖示)所散發(fā)的輻射熱而自上方加熱。由加熱裝置6所散發(fā)的熱，經(jīng)熱傳導(dǎo)而以特定溫度加熱載置于e平臺3臺上的基板9，加熱裝置6的加熱溫度，可考慮加熱的基板9的溫度或者熱傳導(dǎo)中的溫度下降而設(shè)定。又，在e平臺3與X平臺4之間，為降低平臺間的熱傳導(dǎo)，夾持包含陶瓷材料等絕熱素材的間隔件8而設(shè)置。又，將反射板7設(shè)置為使來自e平臺3的輻射熱不會到達X平臺4。X平臺4包括X臺4a;在X方向上引導(dǎo)X臺4a的一對線性導(dǎo)軌(第IX線性導(dǎo)軌11及第2X線性導(dǎo)軌12);用以驅(qū)動X臺4a的X驅(qū)動馬達4b;滾珠螺桿4c、以及X軸4d。又，Y平臺5包括Y臺5a;在Y方向上引導(dǎo)Y臺5a的一對線性導(dǎo)軌(第1Y線性導(dǎo)軌21及第2Y線性導(dǎo)軌22);用以驅(qū)動Y臺5a的Y驅(qū)動馬達5b;滾珠螺桿5c;以及Y軸5d。因此，X平臺4以Y臺5a為支持部在X方向上自由移動，Y平臺5以真空室2等空間部分為支持部在Y方向上自由移動。本發(fā)明的平臺機構(gòu)1包括第3線性導(dǎo)軌13,該第3線性導(dǎo)軌13是對于X方向上引導(dǎo)X臺4a的一對線性導(dǎo)軌的任一個，在與此線性導(dǎo)軌(第IX線性導(dǎo)軌11或者第2X線性導(dǎo)軌12)的引導(dǎo)方向正交的方向上，引導(dǎo)此線性導(dǎo)軌(第IX線性導(dǎo)軌11或者第2X線性導(dǎo)軌12)。又，本發(fā)明的平臺機構(gòu)1包括第3線性導(dǎo)軌23,該第3線性導(dǎo)軌23是對于Y方向上引導(dǎo)Y臺5a的一對線性導(dǎo)軌的任一個，在與此線性導(dǎo)軌(第1Y線性導(dǎo)軌21或者第2Y線性導(dǎo)軌22)的引導(dǎo)方向正交的方向上，引導(dǎo)此線性導(dǎo)軌(第1Y線性導(dǎo)軌21或者第2Y線性導(dǎo)軌22)。是否設(shè)置第3線性導(dǎo)軌23，可根據(jù)加熱裝置6對Y臺5a產(chǎn)生的熱膨脹的影響程度而決定。圖1所示的例中，X平臺4及Y平臺5共同包括第3線性導(dǎo)軌。于X平臺4中，第2X線性導(dǎo)軌12包括第2軌道12a與第2滑動器12b。第2軌道12a沿X方向安裝于Y臺5a的上面，第2滑動器12b沿X方向安裝于X臺4a的下面。第2滑動器12b在X方向上，自由滑動于第2軌道12a上，并在Y方向上^皮固定。另一方面，第1X線性導(dǎo)軌11包括第l軌道lla與第l滑動器llb。第l軌道lla沿X方向安裝于Y臺5a的上面，第1滑動器lib沿X方向，藉由第3線性導(dǎo)軌13而安裝于X臺4a的下面。第1滑動器llb在X方向上，藉由此第3線性導(dǎo)軌13而可自由滑動于第1軌道lla上，并且在Y方向上，于吸收熱膨脹所導(dǎo)致的X平臺4的位移的程度內(nèi)可移動。關(guān)于Y平臺，在X方向與Y方向有所不同，但與X平臺為同樣的結(jié)構(gòu)。于Y平臺5上，第2Y線性導(dǎo)軌22包括第2軌道與第2滑動器。第2軌道沿Y方向安裝于基底部(未圖示)，第2滑動器沿Y方向安裝于Y臺5a的下面。第2滑動器在Y方向，自由滑動于第2軌道上，并在X方向上被固定。另一方面，第1Y線性導(dǎo)軌21包括第1軌道與第1滑動器。第1軌道沿Y方向安裝于基底部(未圖示)，第1滑動器沿Y方向，藉由第3線性導(dǎo)軌23安裝于Y臺5a的下面。第1滑動器在Y方向，藉由此第3線性導(dǎo)軌23而自由滑動于第1軌道上，并且在X方向上，于吸收熱膨脹所造成的Y平臺5的位移的程度內(nèi)可移動。上述第IX線性導(dǎo)軌11及第2X線性導(dǎo)軌12構(gòu)成臺用線性導(dǎo)軌，此臺用線性導(dǎo)軌在X方向上，于Y臺5a上引導(dǎo)X臺4a,第1Y線性導(dǎo)軌21及第2Y線性導(dǎo)軌22構(gòu)成臺用線性導(dǎo)軌，此臺用線性導(dǎo)軌在Y方向上，于基底部引導(dǎo)Y臺5a。又，第3X線性導(dǎo)軌13構(gòu)成補償用線性導(dǎo)軌，此補償用線性導(dǎo)軌吸收X臺4a在Y方向上的位移，第3Y線性導(dǎo)軌23構(gòu)成補償用線性導(dǎo)軌，此補償用線性導(dǎo)軌吸收Y臺5a在X方向上的位移。本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌，可藉由各種形態(tài)而實現(xiàn)吸收位移機構(gòu)，此位移是所安裝的線性導(dǎo)軌在與滑動方向正交的方向上的位移。以下，利用圖2(a)、圖2(b)-圖5(a)、(b)，就補償用線性導(dǎo)軌的第1形態(tài)加以說明，利用圖6，就補償用線性導(dǎo)軌的第2形態(tài)加以說明，利用圖7，就補償用線性導(dǎo)軌的第3形態(tài)加以說明。以下，就補償用線性導(dǎo)軌的第l形態(tài)，利用圖2(a)、圖2(b)~圖5(a)、圖5(b)加以說明。圖2(a)、圖2(b)、圖3(a)、圖3(b)中，第IX線性導(dǎo)軌11將第1軌道lla固定于Y臺5a的上面，并且使第1滑動器llb在X方向上，滑動自由地保持于此第l軌道lla上。圖2(a)、(b)表示X臺4a向X方向移動的移動狀態(tài)的前后。X臺4a向X方向(圖2(a)中箭頭A)的移動，可按照以下方法而實施藉由X驅(qū)動馬達4b而使X軸4d旋轉(zhuǎn)，并使安裝于此X軸4d上的滾珠螺桿4c驅(qū)動。滾珠螺桿4c固定于X臺4a上，滾珠螺桿4c移動于X軸4d上，可使X臺4a移動。圖2(b)表示使X臺化在X方向上(圖2(b)中箭頭B)移動的狀態(tài)。第3X線性導(dǎo)軌13以第1滑動器llb為軌道部，以X臺4a側(cè)為滑動部，并使X臺4a在Y方向上自由滑動于第l滑動器llb，以構(gòu)成補償用線性導(dǎo)軌。第3X線性導(dǎo)軌13中，于X臺4a上，包括沿X方向形成于與第l滑動器llb對向的部分的槽13a,并使此槽13a在Y方向上的寬度形成為大于第1滑動器lib的寬度，且與第1滑動器llb之間設(shè)置有間隙13b。當(dāng)X臺4a在Y方向上位移時，此間隙13b避免X臺4a的槽13a的側(cè)面與第1滑動器lib的側(cè)面相抵接，故可補償沿第1滑動器lib的第1軌道lla向X方向平穩(wěn)移動。圖3(a)、圖3(b)表示X臺4a熱膨脹的狀態(tài)。進一步，圖3(a)表示熱膨脹前的狀態(tài)，圖3(b)表示熱膨脹后的狀態(tài)。X臺4a因熱膨脹而在Y方向上(圖3(b)的箭頭C)發(fā)生位移時，由于藉由槽13a與第1滑動器llb之間的間隙13b，使槽13a內(nèi)的側(cè)面與第1滑動器llb的側(cè)面未抵接，因此Y方向的應(yīng)力未施加至第1滑動器lib,第l滑動器llb與第l軌道lla之間不產(chǎn)生應(yīng)力，故可補償?shù)趌滑動器llb的沿第1軌道lla向X方向的平穩(wěn)移動。此間隙13b的大小，可根據(jù)X臺4a的熱膨脹所引起的位移而設(shè)定。再者，雖然此時第2X線性導(dǎo)軌12的第2滑動器12b固定于X臺4a上，但是因設(shè)置于第IX線性導(dǎo)軌11上的第3X線性導(dǎo)軌13吸收位移，故而補償?shù)?X線性導(dǎo)軌12的平穩(wěn)移動。圖4(a)、圖4(b)為自里面?zhèn)?Y臺5a側(cè))觀察X臺4a的觀察圖，圖4(a)表示X臺4a位移前的狀態(tài)，圖4(b)表示X臺4a位移后的狀態(tài)。圖4(a)、4(b)中，第1X線性導(dǎo)軌11的結(jié)構(gòu)為，于第l軌道lla上設(shè)置有一對第1滑動器llb，并且于各第1滑動器lib上，于X臺4a上形成有一對槽13a，構(gòu)成第3X線性導(dǎo)軌13。又，第2X線性導(dǎo)軌12于第2軌道12a上設(shè)置有一對第2滑動器12b，并將此第2滑動器12b固定于X平臺4a的下面。X臺4a位移時(圖4(b)中的箭頭D)，雖然X臺4a的其中一個藉由第2滑動器12b固定于X平臺4a，但是由于另一個藉由第1滑動器lib于槽13a內(nèi)移動(圖4(b)中的箭頭E，F(xiàn))，因此可補償對于第1線性導(dǎo)軌11的應(yīng)力或變形等的影響。雖然圖2(a)、圖2(b)~圖4(a)、(b)僅表示設(shè)置于X平臺4上的第3X線性導(dǎo)軌，關(guān)于Y平臺5，亦可同樣地設(shè)置第3Y線性導(dǎo)軌。圖5(a)與圖4(a)、圖4(b)同樣地，表示X臺4a的下面，圖5(b)表示Y臺5a的下面。設(shè)置于Y臺5a下面的第1Y線性導(dǎo)軌21及第2Y線性導(dǎo)軌22僅在如下幾方面與上述第1X線形導(dǎo)軌11、12不同，即移動方向為Y方向；滑動部安裝于X臺4a上；以及軌道部由真空室等的基底部而支持，其他結(jié)構(gòu)與上述第IX線性導(dǎo)軌11、12大致同樣。圖5(b)中，第1Y線性導(dǎo)軌21為在第1軌道21a上設(shè)置有一對第1滑動器21b的結(jié)構(gòu)，并且對于各第1滑動器21b,于Y臺5a上形成有一對槽23a，構(gòu)成第3Y線性導(dǎo)軌23。又，第2Y線性導(dǎo)軌22于第2軌道22a上設(shè)置一對第2滑動器22b，并將此第2滑動器22b固定于Y平臺5a的下面。Y臺4a位移時(圖5(b)中的箭頭G),雖然其中一個由第2滑動器22b固定于Y平臺5a上，但是另一個由于第1滑動器21b在槽23a內(nèi)移動(圖5(b)中的箭頭H,I),故可補償對于第1線性導(dǎo)軌21的應(yīng)力或變形等的影響。以下，就本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第2形態(tài)，使用圖6加以說明。圖6中，第1X線性導(dǎo)軌11將第l軌道lla固定于Y臺5a的上面，并且使第l滑動器llb在X方向上可自由滑動并保持于此第l軌道lla上。第3X線性導(dǎo)軌14在Y方向，于第1滑動器lib上設(shè)置有槽14a以作為軌道部，并于X臺4a側(cè)安裝有可使此槽14a自由滑動的滑動器14b,使X臺4a在Y方向自由滑動于第l滑動器llb,以構(gòu)成補償用線性導(dǎo)軌。第3X線性導(dǎo)軌14中，當(dāng)X臺4a在Y方向上位移時，安裝于X臺4a上的滑動器14b在設(shè)置于第1滑動器lib的槽14a內(nèi)于Y方向上滑動，以避免X臺4a的位移傳至第1滑動器lib,藉此，可補償?shù)?滑動器lib的沿第1軌道lla向X方向的平穩(wěn)移動。以下，就本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的第3形態(tài)，利用圖7加以說明。圖7中，第IX線性導(dǎo)軌11將第1軌道lla固定于Y臺5a的上面，使第1滑動器lib在X方向上可自由滑動并保持于此第1軌道lla上。第3X線性導(dǎo)軌15在Y方向，于第1滑動器lib上設(shè)置有凸部15a作為軌道部，并于X臺4a側(cè)形成用以使此凸部15a自由滑動的槽滑動器15b,使X臺4a在Y方向上，自由滑動于第1滑動器lib,以構(gòu)成補償用線性導(dǎo)軌。第3X線性導(dǎo)軌15中，當(dāng)X臺4a在Y方向上位移時，形成于X臺4a的槽15b,將設(shè)置于第l滑動器llb的凸部15a在Y方向上引導(dǎo)，以避免X臺4a的位移傳至第1滑動器lib,藉此，可補償?shù)?滑動器lib的沿第1軌道lla向X方向的平穩(wěn)移動。其次說明本發(fā)明的補償用線性導(dǎo)軌的2個實施態(tài)樣。首先，第1實施態(tài)樣如圖10(a)所示，第1X線性導(dǎo)軌11的第l軌道lla以及第2X線性導(dǎo)軌12的第2滑動器12b固定于X臺4a的下面，第IX線性導(dǎo)軌11的第1滑動器lib相對于Y臺5a能夠于與X方向正交的方向(箭頭方向)移動，另一方面，第2X線性導(dǎo)軌12的第2軌道12a固定于Y臺5a的上面。依此，在X臺4a于與X方向正交的方向位移時，補償用線性導(dǎo)軌能吸收此位移。其次，第2實施態(tài)樣如圖10(b)所示，第1X線性導(dǎo)軌11的第1滑動器lib以及第2X線性導(dǎo)軌12的第2滑動器12b固定于X臺4a的下面，第IX線性導(dǎo)軌11的第1軌道lla以及第2X線性導(dǎo)軌12的第2軌道12a固定于Y臺5a的上面。第1X線性導(dǎo)軌11的第1滑動器llb相對于第1軌道lla能夠于與X方向正交的方向(箭頭方向)移動。依此，在X臺4a于與X方向正交的方向位移時，補償用線性導(dǎo)軌能吸收此位移。尚且，本發(fā)明并不限定于以上詳述的實施型態(tài)。各部的具體構(gòu)成并不限定于上述實施型態(tài)，在不脫離本發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)可為各種的變形。本申請案基于2005年6月9曰申請的曰本專利申^"號2005-169973而主張有優(yōu)先權(quán)，同申請案的說明書、圖式以及申請專利范圍皆被參照而包含于其中。本發(fā)明適用于使用荷電粒子束的測定裝置、檢查裝置、或者加工裝置等的真空裝置中帶有加熱的裝置。權(quán)利要求1.一種平臺機構(gòu)，包括至少一個臺；一對臺用線性導(dǎo)軌，在直線方向上引導(dǎo)上述臺；支持部，支持上述一對臺用線性導(dǎo)軌；以及補償用線性導(dǎo)軌，此補償用線性導(dǎo)軌將上述一對臺用線性導(dǎo)軌中的一個，相對于上述支持部以及上述臺，以不可移動于與上述直線方向正交的方向的狀態(tài)進行固定，對于上述一對臺用線性導(dǎo)軌中的另一個，使上述臺在與上述直線方向正交的方向上自由移動，以補償臺的位移。2.—種平臺機構(gòu)，包括上臺及下臺，重迭配置于上下方向上；一對臺用線性導(dǎo)軌，在直線方向上引導(dǎo)上述上臺或下臺；上補償用線性導(dǎo)軌，此上補償用線性導(dǎo)軌于上述下臺上，固定一個上臺用線性導(dǎo)軌，并且使另一個上臺用線性導(dǎo)軌在與上述直線方向正交的方向上自由移動，以補償上臺的位移；以及/或者，下補償用線性導(dǎo)軌，此下補償用線性導(dǎo)軌于支持引導(dǎo)上述下臺的一對下臺用線性導(dǎo)軌的支持部，固定其中一個下臺用線性導(dǎo)軌，并使另一個下臺用線性導(dǎo)軌在與上述直線方向正交的方向上自由移動，以補償下臺的位移。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的平臺機構(gòu)，其中包括6臺，設(shè)置于上述上臺的上方；加熱機構(gòu)，設(shè)置于上述6臺；以及反射板，設(shè)置于上述6臺與上述加熱機構(gòu)之間，上述補償用線性導(dǎo)軌補償因上述加熱機構(gòu)所引起的臺的位移。4.根據(jù)權(quán)利要求1~3的任一項所述的平臺機構(gòu)，其中上述補償用線性導(dǎo)軌包括滑動部，在與上述直線方向的軌道部正交的方向上，隨著臺的位移而移動。5.根據(jù)權(quán)利要求1~4的任一項所述的平臺機構(gòu)，其中上述上下臺是包括X平臺的X臺或者包括Y平臺的Y臺，并形成X-Y平臺。全文摘要本發(fā)明提供一種平臺機構(gòu)，其可防止因平臺機構(gòu)的線性導(dǎo)軌的熱膨脹而影響平穩(wěn)驅(qū)動。本發(fā)明的平臺機構(gòu)(1)包括至少一個臺(4，5)；于直線方向上引導(dǎo)此臺的一對臺用線性導(dǎo)軌(11，12，21，22)；以及補償因臺的熱膨脹導(dǎo)致位移的補償用線性導(dǎo)軌(13，23)。一側(cè)的臺用線性導(dǎo)軌(11，12，21，22)固定于支持部與臺，另一側(cè)的臺用線性導(dǎo)軌(11，21)通過補償用線性導(dǎo)軌(13，14，15，23)在與上述直線方向正交的方向上自由移動。或者是，通過補償用線性導(dǎo)軌(13，23)，對支持部使另一側(cè)的臺用線性導(dǎo)軌在與上述直線方向正交的方向上自由移動。文檔編號B23Q1/58GK101128908SQ20068000561公開日2008年2月20日申請日期2006年5月30日優(yōu)先權(quán)日2005年6月9日發(fā)明者小西康雄申請人:株式會社島津制作所