專利名稱：一種等離子體表面改性裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及ー種等離子體表面改性裝置，尤其涉及ー種用于提高透明導(dǎo)電膜玻璃表面濕潤性的裝置。
背景技術(shù)：
透明導(dǎo)電膜玻璃具有較好的光電性能，廣泛應(yīng)用于用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置、觸摸式開關(guān)和建筑玻璃等領(lǐng)域。但透明導(dǎo)電膜玻璃較低的表面濕潤性限制了其在相關(guān)產(chǎn)業(yè)中的進(jìn)ー步應(yīng)用，如對于具有三明治結(jié)構(gòu)的有機(jī)電致發(fā)光器件 OLED來說，電極的表面濕潤性直接影響了載流子注入的勢壘，從而很大程度上決定了器件的發(fā)光亮度和效率。鐘志有在氧等離子體處理改善ITO電極表面濕潤性中提出了采用氧等離子體處理對有機(jī)發(fā)光器件ITO電極進(jìn)行表面改性，研究了氧等離子體處理對ITO電極表面濕潤性的影響，該技術(shù)屬于小面積處理，處理效率低，且設(shè)備無法實現(xiàn)エ業(yè)化生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于針對透明導(dǎo)電膜玻璃表面濕潤性等問題，提供一種等離子體表面改性裝置，提高透明導(dǎo)電膜玻璃的表面濕潤性，與其它方法或裝置相比具有能同時進(jìn)行各類透明導(dǎo)電膜玻璃大面積表面改性處理，且與透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)エ藝相兼容。本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的一種等離子體表面改性裝置，包括第一封頭、第二封頭、導(dǎo)電膜玻璃預(yù)放區(qū)和導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)，離子輝光放電區(qū)；所述離子輝光放電區(qū)底部的內(nèi)表面上設(shè)一能在所述裝置的軸向作水平移動的導(dǎo)電膜玻璃支架；在所述離子輝光放電區(qū)的頂部粘結(jié)電極組件固定架；所述電極組件固定架上的粘結(jié)多對電極組件， 所述電極組件由屏蔽金屬層、絕緣材料層和放電電極依次粘結(jié)而成，沿等離子體表面改性裝置軸向豎立平行排列；所述導(dǎo)電膜玻璃支架上表面設(shè)有多個與導(dǎo)電膜玻璃厚度一致的凹槽。所述的電極組件固定架上設(shè)有3對電極組件；導(dǎo)電膜玻璃支架上表面設(shè)有3個與導(dǎo)電膜玻璃厚度一致的凹槽。所述的離子體表面改性裝置為真一直徑為1000mm,長度為4500mm,壁厚為IOmm的
真空容器。所述的電極組件之間的距離為40臟，放電電極尺寸均為500mmX500mm。本實用新型涉及的是ー種等離子體表面改性裝置，能夠很方便地進(jìn)行透明導(dǎo)電膜玻璃的大面積表面的等離子體改性，結(jié)構(gòu)簡單、操作方便、穩(wěn)定性好、處理結(jié)果重復(fù)性好、能同時進(jìn)行各類透明導(dǎo)電膜玻璃的表面改性。本裝置解決了透明導(dǎo)電膜玻璃連續(xù)性ェ業(yè)化處理等問題，同時也與透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)ェ藝相兼容，能夠減少中間環(huán)節(jié)，提高生產(chǎn)效率。

[0009]
以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例作進(jìn)ー步的詳細(xì)描述。圖I是本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1.第一封頭；2.導(dǎo)電膜玻璃預(yù)防區(qū)；3離子輝光放電區(qū).；4.導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)；I’ 第二封頭；圖2是本實用新型的離子輝光放電區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中5.電極組件固定架；6.電極組件；7.導(dǎo)電膜玻璃；8.導(dǎo)電膜玻璃支架；
9.凹槽圖3是本實用新型的電極組件結(jié)構(gòu)示意圖。圖中6-1.屏蔽金屬層；6_2.絕緣材料層；6_3.放電電極
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例作詳細(xì)說明本實施例在以本實用新型技術(shù)方案為前提下進(jìn)行實施，給出了詳細(xì)的實施方式和具體的操作過程，但本實用新型的保護(hù)范圍不限于下述的實施例。如圖I至圖3所示一種等離子體表面改性裝置，包括第一封頭I和第二封頭I’、 導(dǎo)電膜玻璃預(yù)放區(qū)2、導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)4和離子輝光放電區(qū)3 ;在所述離子輝光放電區(qū)3 的底部的內(nèi)表面上設(shè)一能在所述裝置的軸向作水平移動的導(dǎo)電膜玻璃支架8 ;在離子輝光放電區(qū)3頂部粘結(jié)電極組件固定架5 ;所述電極組件固定架5上的粘結(jié)多對電極組件6，所述電極組件6由屏蔽金屬層6-1、絕緣材料層6-2和放電電極6-3依次粘結(jié)而成，沿所述裝置的軸向豎立平行排列；所述導(dǎo)電膜玻璃支架8上表面設(shè)有多個與導(dǎo)電膜玻璃7厚度一致的凹槽9，凹槽9位于電極組件6兩兩形成的間隙的正下方。為了提高處理效率保證處理質(zhì)量，電極組件固定架5上設(shè)有3對電極組件6 ;導(dǎo)電膜玻璃支架8的上表面設(shè)有3個與導(dǎo)電膜玻璃7厚度一致的凹槽9。將3塊導(dǎo)電膜玻璃作為ー組共3組的導(dǎo)電膜玻璃7插在導(dǎo)電膜玻璃預(yù)放區(qū)2位置上的導(dǎo)電膜玻璃支架8上的凹槽9內(nèi)，真空容器通過抽氣系統(tǒng)達(dá)到極限真空后，第一組導(dǎo)電膜玻璃7進(jìn)入離子輝光放電區(qū)3，通入工作氣體，達(dá)到工作氣壓時，調(diào)節(jié)射頻電源的功率可實現(xiàn)等離子體對導(dǎo)電膜玻璃 7的表面改性。處理完成后，第一組導(dǎo)電膜玻璃7進(jìn)入導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)4，第二組導(dǎo)電膜玻璃7進(jìn)入離子輝光放電區(qū)3，如此反復(fù)，以實現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn)，由于連續(xù)放電，出于安全考慮放電電極6-3需冷卻，三組導(dǎo)電膜玻璃處理完成后停止放電，分別打開導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)4 和的導(dǎo)電膜玻璃預(yù)放區(qū)2的封頭I’和封頭1，取出處理好的導(dǎo)電膜玻璃7，重新放置導(dǎo)電膜玻璃7。聚四氟こ烯作為介電材料，聚四氟こ烯在較寬頻率范圍內(nèi)的介電常數(shù)和介電損耗都很低，而且擊穿電壓、體積電阻率和耐電弧性都較高。因此電極組件6中的絕緣材料層 6-2優(yōu)選聚四氟こ烯。等離子體表面改性真空容器為一直徑為1000mm，長度為4500mm，壁厚為IOmm的真
空容器。 電極組件6之間的距離為40mm，放電電極6_3尺寸和被處理導(dǎo)電膜玻璃相適應(yīng),根據(jù)導(dǎo)電膜玻璃的尺寸制造放電電極6-3尺寸。
權(quán)利要求1.一種等離子體表面改性裝置，包括第一封頭(I)、第二封頭(I’)、導(dǎo)電膜玻璃預(yù)放區(qū)(2)、導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)(4)和離子輝光放電區(qū)(3)，其特征在于在所述的離子輝光放電區(qū)(3)底部的內(nèi)表面上設(shè)一能在所述裝置的軸向作水平移動的導(dǎo)電膜玻璃支架(8);在所述離子輝光放電區(qū)(3)的頂部粘結(jié)電極組件固定架(5);所述電極組件固定架(5)上的粘結(jié)多對電極組件(6)，所述電極組件(6)由屏蔽金屬層(6-1)、絕緣材料層(6-2)和放電電極(6-3) 依次粘結(jié)而成，沿所述裝置的軸向豎立平行排列；所述導(dǎo)電膜玻璃支架(5)上表面設(shè)有多個與導(dǎo)電膜玻璃(7)厚度一致的凹槽(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的等離子體表面改性裝置，其特征在于電極組件固定架(5)上設(shè)有3對電極組件(6);導(dǎo)電膜玻璃支架(8)上表面設(shè)有3個與導(dǎo)電膜玻璃(7)厚度一致的凹槽(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的等離子體表面改性裝置，其特征在于所述電極組件(6) 的屏蔽金屬層(6-1)由聚四氟こ烯制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的等離子體表面改性裝置，其特征在于所述等離子體表面改性裝置為真一直徑為1000mm,長度為4500mm,壁厚為IOmm的真空容器。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的等離子體表面改性裝置，其特征在于電極組件(6)之間的距離為40mm，放電電極(6-3)的尺寸與導(dǎo)電膜玻璃尺寸相適應(yīng)。
專利摘要本實用新型涉及一種等離子體表面改性裝置，尤其涉及一種用于提高透明導(dǎo)電膜玻璃表面濕潤性的裝置，包括第一封頭、第二封頭、導(dǎo)電膜玻璃預(yù)放區(qū)和導(dǎo)電膜玻璃取樣區(qū)，離子輝光放電區(qū)，離子輝光放電區(qū)底部的內(nèi)表面上設(shè)一能在裝置的軸向作水平移動的導(dǎo)電膜玻璃支架；離子輝光放電區(qū)的頂部粘結(jié)電極組件固定架；電極組件固定架上的粘結(jié)多對由屏蔽金屬層、絕緣材料層和放電電極依次粘結(jié)而成電極組件。本實用新型解決了透明導(dǎo)電膜玻璃連續(xù)性工業(yè)化處理等問題，同時也與透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)工藝相兼容，能夠減少中間環(huán)節(jié)，提高生產(chǎn)效率。
文檔編號H01J37/32GK202339899SQ20112041095
公開日2012年7月18日 申請日期2011年10月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月25日
發(fā)明者姜清, 張波, 朱葛俊, 沈俊, 虞文武, 陸建軍, 陳曉勇 申請人:常州機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院