專利名稱：等離子顯示屏及其前基板介質(zhì)層的制作工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明具體涉及一種等離子顯示屏及其前基板介質(zhì)層的制作工藝。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)的等離子顯示屏，該裝置的結(jié)構(gòu)是前基板和后基板之間所設(shè)置的隔壁形成一個單位的單元，并且當(dāng)各個單元內(nèi)的氦氙(He-Xe)等惰性氣體在高頻電壓的作用下放電時，產(chǎn)生真空紫外線，從而使設(shè)置在隔墻之間的熒光體發(fā)光進(jìn)而顯示出圖像?，F(xiàn)有技術(shù)等離子顯示屏的結(jié)構(gòu)是用于顯示圖像的顯示面的前基板和形成后面的后面基板間隔一定的距離平行結(jié)合在一起。前基板的下方設(shè)置有在一個像素下相互放電來維持單元發(fā)光的維持電極，即設(shè)置有包括用透明的納米銦錫金屬氧化物的物質(zhì)制成的透明電極和用金屬材料制成的總線電極的成對維持電極。上述維持電極形成壁電荷，在放電維持電壓的作用下維持放電，在等離子放電時保護(hù)電極免受離子沖擊，并被起防擴(kuò)散膜作用的前基板介質(zhì)層所覆蓋，而且在前基板介質(zhì)層的上設(shè)置了氧化鎂介質(zhì)保護(hù)層，以創(chuàng)造有利的放電條件。其中，介質(zhì)保護(hù)層的表面積影響等離子放電開始電壓，隨之影響等離子顯示屏驅(qū)動所導(dǎo)致的電力消耗及顯示屏的放電效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種等離子顯示屏及其前基板介質(zhì)層的制作工藝，以解決現(xiàn)有技術(shù)中等離子顯示屏的放電效率低的問題。為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種等離子顯示屏，等離子顯示屏包括前基板和前基板介質(zhì)層；前基板介質(zhì)層設(shè)置在前基板的一側(cè)；前基板介質(zhì)保護(hù)層覆蓋在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上，前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上形成有多個第一凹陷；前基板介質(zhì)保護(hù)層背向前基板介質(zhì)層的表面上形成有對應(yīng)第一凹陷的第二凹陷。進(jìn)一步地，多個第一凹陷均勻分布在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上。進(jìn)一步地，各個第一凹陷的形狀相同且尺寸相同。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種等離子顯示屏的前基板介質(zhì)層的制作工藝， 包括以下步驟在等離子顯示屏的前基板的一側(cè)上形成前基板介質(zhì)層；在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上形成多個第一凹陷；在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上形成前基板介質(zhì)保護(hù)層，并形成與第一凹陷對應(yīng)的第二凹陷。進(jìn)一步地，在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上形成多個第一凹陷的步驟中進(jìn)一步包括以下步驟向形成前基板介質(zhì)層的漿料中添加活性劑；利用漿料制成前基板介質(zhì)層，使前基板介質(zhì)層形成為表面具有多個第一凹陷的結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步地，在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上形成多個第一凹陷的步驟中進(jìn)一步包括以下步驟利用漿料制成前基板介質(zhì)層，使前基板介質(zhì)層具有平滑表面；在平滑表面上進(jìn)行表面處理以在平滑表面上形成多個第一凹陷。進(jìn)一步地，在平滑表面上進(jìn)行表面處理以在平滑表面上形成多個第一凹陷的步驟中，通過溶液腐蝕形成前基板介質(zhì)層表面上的多個第一凹陷。進(jìn)一步地，溶液為酸性溶液或者堿性溶液。進(jìn)一步地，在平滑表面上進(jìn)行表面處理以在平滑表面上形成多個第一凹陷的步驟中，通過噴砂形成前基板介質(zhì)層表面上的多個第一凹陷。應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，等離子顯示屏包括前基板；前基板介質(zhì)層設(shè)置在前基板的一側(cè)；前基板介質(zhì)保護(hù)層覆蓋在前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上，前基板介質(zhì)層背向前基板的表面上形成有多個第一凹陷；前基板介質(zhì)保護(hù)層背向前基板介質(zhì)層的表面上形成有對應(yīng)第一凹陷的第二凹陷。上述等離子顯示屏增加了前基板介質(zhì)保護(hù)層的表面積，因此減少了放電開始電壓和維持電壓，降低等離子顯示屏驅(qū)動所帶來的電力消耗，從而提高了等離子顯示屏的放電效率。


構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中圖1示出了本發(fā)明的等離子顯示屏的實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2示出了圖1的等離子顯示屏的前基板介質(zhì)層結(jié)構(gòu)示意圖；以及圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示屏的前基板介質(zhì)層制造工藝的實施例的流程示意圖。
具體實施例方式需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。如圖1所示，本實施例提供的等離子顯示屏的結(jié)構(gòu)是用于顯示圖像的顯示面的前基板5和形成后面的后基板6間隔一定的距離平行結(jié)合在一起。前基板5的下方設(shè)置有在一個像素下相互放電來維持單元發(fā)光的維持電極，即設(shè)置有包括用透明的納米銦錫金屬氧化物的物質(zhì)制成的透明電極1和用金屬材料制成的總線電極的成對維持電極7、10。上述維持電極7、10形成壁電荷，在放電維持電壓的作用下維持放電，在等離子放電時保護(hù)電極免受離子沖擊，并被起防擴(kuò)散膜作用的前基板介質(zhì)層8所覆蓋，而且在前基板介質(zhì)層8的上設(shè)置了前基板介質(zhì)保護(hù)層11，以創(chuàng)造有利的放電條件。后基板6由用于形成多個放電空間即單元的條紋式或井式障壁4維持平行排列， 在與上述維持電極7、10交叉的部位進(jìn)行尋址放電以產(chǎn)生真空紫外線，多個尋址電極2與障壁4平行設(shè)置。另外，上述尋址電極2上面設(shè)置有下部電介質(zhì)層3，上述后板電介質(zhì)層上面涂有尋址放電時射出用于顯示圖像的可視光線的R、G、B熒光粉。從具有以上結(jié)構(gòu)的現(xiàn)有等離子顯示屏的操作原理看，相向成對設(shè)置的維持電極7、 10之一的電極提供放電開始電壓，同時向?qū)ぶ冯姌O2提供地址信號，將在單元內(nèi)部形成寫放電，即在單元內(nèi)部產(chǎn)生電場，放電氣體中的微量電子加速，上述加速的電子和氣體中的中性粒子發(fā)生碰撞，電離成電子和離子，電離的電子和中性粒子又一次碰撞，中性粒子逐漸以飛快的速度電離成電子和離子，在放電氣體變成離子狀態(tài)的同時，在上述前基板介質(zhì)層8 和前基板介質(zhì)保護(hù)層11的表面放電區(qū)域產(chǎn)生沿面放電，并產(chǎn)生真空紫外線；等離子顯示屏的黑條9設(shè)置在前基板5上，且位置設(shè)置在兩個維持電極之間。發(fā)明人經(jīng)過一系列的試驗驗證，發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中的前基板介質(zhì)保護(hù)層表面積為常規(guī)平滑表面，由于介質(zhì)保護(hù)層表面積不足，提高了等離子放電開始電壓和維持電壓，加大了驅(qū)動的電力消耗，導(dǎo)致顯示屏的放電效率低。如圖2所示，本實施例提供了一種等離子顯示屏，包括前基板5、前基板介質(zhì)層8和前基板介質(zhì)保護(hù)層11 ；前基板介質(zhì)層8設(shè)置在前基板5的一側(cè)；前基板介質(zhì)保護(hù)層11覆蓋在前基板介質(zhì)層8背向前基板5的表面上，前基板介質(zhì)層8背向前基板5的表面上形成有多個第一凹陷12 ；前基板介質(zhì)保護(hù)層11背向前基板介質(zhì)層8的表面上形成有對應(yīng)第一凹陷12的第二凹陷13。本實施例的等離子顯示屏，通過在設(shè)置的第一凹陷12和第二凹陷13，使前基板介質(zhì)保護(hù)層11的表面積增加，從而減少了放電開始電壓和維持電壓，降低了等離子顯示屏驅(qū)動所帶來的電力消耗，提高了等離子顯示屏的放電效率。優(yōu)選地，多個第一凹陷12均勻分布在前基板介質(zhì)層8背向前基板5的表面上。這樣設(shè)置有效的增加了前基板介質(zhì)層8的表面積，從而加大了前基板介質(zhì)保護(hù)層11的表面積。優(yōu)選地，第一凹陷12的形狀相同且尺寸相同。這樣設(shè)置最大程度上增加了前基板介質(zhì)層8的表面積，從而加大了前基板介質(zhì)保護(hù)層11的表面積。如圖3所示，本發(fā)明提供了一種等離子顯示屏的前基板介質(zhì)層的制作工藝，根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示屏的實施例，制作工藝包括以下步驟SlO 在等離子顯示屏的前基板5的一側(cè)上形成前基板介質(zhì)層8。S20 在前基板介質(zhì)層8背向前基板5的表面上形成多個第一凹陷12。形成多個第一凹陷12的方式有多種，在一種優(yōu)選的實施例中，S20的步驟中進(jìn)一步包括以下步驟向形成前基板介質(zhì)層的漿料中添加活性劑；利用漿料制成前基板介質(zhì)層 8，使前基板介質(zhì)層形成為表面具有多個第一凹陷12的結(jié)構(gòu)。這樣，在前基板介質(zhì)層8形成之前，將前基板介質(zhì)層8注塑成具有多個第一凹陷12的結(jié)構(gòu)，制作工藝方便快捷。或者在另一種優(yōu)選的實施例中，與上述制作工藝的區(qū)別在于，S20的步驟中進(jìn)一步包括以下步驟利用漿料制成前基板介質(zhì)層8，使前基板介質(zhì)層8具有平滑表面；在平滑表面上進(jìn)行表面處理以在平滑表面上形成多個第一凹陷12。優(yōu)選地，在平滑表面上進(jìn)行表面處理以在平滑表面上形成多個第一凹陷12的步驟中，通過溶液腐蝕形成前基板介質(zhì)層8表面上的多個第一凹陷12。優(yōu)選地，溶液為酸性溶液或者堿性溶液。采用溶液腐蝕的制作工藝來形成第一凹陷12的過程更加簡便，效率更
尚ο優(yōu)選地，在平滑表面上進(jìn)行表面處理以在平滑表面上形成多個第一凹陷12的步驟中，通過噴砂形成前基板介質(zhì)層8表面上的多個第一凹陷12。采用噴砂的制作工藝，使制作工藝效率更高。S30 在前基板介質(zhì)層8背向前基板5表面上形成前基板介質(zhì)保護(hù)層11，并形成與第一凹陷12對應(yīng)的第二凹陷13。這樣，可以達(dá)到增加前基板介質(zhì)保護(hù)層11表面積的目的。采用本發(fā)明的上述的技術(shù)方案設(shè)計的用于試驗的等離子顯示屏，具體如下
試驗例1 參見表1，將一定濃度HNO3溶液霧化，將其均勻的分散到已經(jīng)燒結(jié)形成的前基板介質(zhì)層8上，保持一定的時間，通過清洗設(shè)備，用去離子水沖洗，將殘留的硝酸溶液完全清除后經(jīng)風(fēng)刀干燥，在其表面形成均勻穩(wěn)定的第一凹陷12 ；然后按照前基板介質(zhì)保護(hù)層11的相應(yīng)工藝(電子蒸鍍或磁控濺射等方式)制備前基板介質(zhì)保護(hù)層11。表中的點火電壓與維持電壓比較對象為與采用除上述工藝外其他相同的工藝條件下制備的等離子顯示屏。表 權(quán)利要求
1.一種等離子顯示屏，包括前基板(5)；前基板介質(zhì)層(8)，設(shè)置在所述前基板(5)的一側(cè)；前基板介質(zhì)保護(hù)層(11)，覆蓋在所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板( 的表面上， 其特征在于，所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成有多個第一凹陷(12)；所述前基板介質(zhì)保護(hù)層(11)背向所述前基板介質(zhì)層(8)的表面上形成有對應(yīng)所述第一凹陷(12)的第二凹陷(13)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示屏，其特征在于，多個所述第一凹陷(12)均勻分布在所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板(5)的表面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子顯示屏，其特征在于，各個所述第一凹陷(12)的形狀相同且尺寸相同。
4.一種等離子顯示屏的前基板介質(zhì)層的制作工藝，其特征在于，包括以下步驟在等離子顯示屏的前基板(5)的一側(cè)上形成前基板介質(zhì)層(8)；在所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成多個第一凹陷(12)；在所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成前基板介質(zhì)保護(hù)層(11)， 并形成與所述第一凹陷(12)對應(yīng)的第二凹陷(13)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制作工藝，其特征在于，在所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成多個第一凹陷(1 的步驟中進(jìn)一步包括以下步驟向形成所述前基板介質(zhì)層的漿料中添加活性劑；利用所述漿料制成所述前基板介質(zhì)層(8)，使所述前基板介質(zhì)層形成為表面具有多個所述第一凹陷(12)的結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制作工藝，其特征在于，在所述前基板介質(zhì)層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成多個第一凹陷(1 的步驟中進(jìn)一步包括以下步驟利用漿料制成前基板介質(zhì)層(8)，使所述前基板介質(zhì)層(8)具有平滑表面；在所述平滑表面上進(jìn)行表面處理以在所述平滑表面上形成多個所述第一凹陷(12)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制作工藝，其特征在于，在所述平滑表面上進(jìn)行表面處理以在所述平滑表面上形成多個所述第一凹陷(1 的步驟中，通過溶液腐蝕形成所述前基板介質(zhì)層(8)表面上的多個所述第一凹陷(12)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制作工藝，其特征在于，所述溶液為酸性溶液或者堿性溶液。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制作工藝，其特征在于，在所述平滑表面上進(jìn)行表面處理以在所述平滑表面上形成多個所述第一凹陷(1 的步驟中，通過噴砂形成所述前基板介質(zhì)層(8)表面上的多個所述第一凹陷(12)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種等離子顯示屏及其前基板介質(zhì)層的制作工藝。其中，等離子顯示屏包括前基板(5)；前基板介質(zhì)層(8)，設(shè)置在前基板(5)的一側(cè)；前基板介質(zhì)保護(hù)層(11)，覆蓋在前基板介質(zhì)層(8)背向前基板(5)的表面上，前基板介質(zhì)層(8)背向前基板(5)的表面上形成有多個第一凹陷(12)；前基板介質(zhì)保護(hù)層(11)背向前基板介質(zhì)層(8)的表面上形成有對應(yīng)第一凹陷(12)的第二凹陷(13)。本發(fā)明有效地解決了現(xiàn)有技術(shù)中等離子顯示屏的放電效率低的問題。
文檔編號H01J11/38GK102496549SQ201110458179
公開日2012年6月13日 申請日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月31日
發(fā)明者丁海泉 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司