專利名稱：光源模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種光源模塊(Light Source Module)，特別關(guān)于一種具有較佳的出 光效益的光源模塊。
背景技術(shù)：
隨著平面顯示技術(shù)的蓬勃發(fā)展，液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)已 逐漸成為顯示技術(shù)的主流，其普遍地被使用于日常生活當(dāng)中，并取代了傳統(tǒng)陰極射線管 (cathode ray tube, CRT)。由于液晶顯示器中的液晶面板不會(huì)自行發(fā)光，因此需要采用光 源模塊來(lái)提供背光源。光源模塊依照發(fā)光組件的擺設(shè)位置可分為直下式光源模塊與側(cè)邊入 光式光源模塊，其中側(cè)邊入光式光源模塊能夠把來(lái)自側(cè)面的光導(dǎo)向正面而形成面光源的關(guān) 鍵因素，是在于其具有導(dǎo)光板。
圖IA為已有的一種側(cè)邊入光式光源模塊的俯視圖，而圖IB為沿圖IA的AA’線所 示的光源模塊的剖示圖。請(qǐng)同時(shí)參考圖IA與圖1B，光源模塊100包括一光源110、一導(dǎo)光 板120、一反射片130以及一光學(xué)擴(kuò)散片140。導(dǎo)光板120具有一上表面122、一相對(duì)于出光 面122的下表面124，以及一連接上表面122與下表面124的入光面126，其中上表面122 與下表面124例如都垂直于入光面126。在光源模塊100中，導(dǎo)光板120的入光面126旁通常設(shè)置有光源110，其中光源110 可以是發(fā)光二極管或冷陰極熒光燈管。而導(dǎo)光板120的下表面124具有多個(gè)凸起部121，其 中每一凸起部121可具有相同高度。來(lái)自光源110的光束112通過(guò)入光面126并進(jìn)入導(dǎo)光 板120后，因上述凸起部121而破壞光束112在導(dǎo)光板120內(nèi)的全反射現(xiàn)象，使導(dǎo)光板120 內(nèi)的光束112得以被導(dǎo)弓丨，并可均勻地由上表面122出射而離開(kāi)導(dǎo)光板120。一般而言，光源模塊100通常會(huì)配置一反射片130于導(dǎo)光板120的下表面124，以 使部分通過(guò)下表面124而離開(kāi)的光束112得以被反射而再傳遞回導(dǎo)光板120內(nèi)，藉以提升 光源模塊100的背光亮度。另外，為了提升光源模塊100整體的光均勻度，光源模塊100還 可設(shè)置有一光學(xué)擴(kuò)散片140于導(dǎo)光板120的上表面122，以提升背光均勻度。然而，光源模塊100采用如圖IB所示的導(dǎo)光板的光反射結(jié)構(gòu)(即凸起部121)，對(duì) 于其整體的背光亮度增益仍有所限制，因此，如何設(shè)計(jì)一種導(dǎo)光板上的微結(jié)構(gòu)以更進(jìn)一步 地提升光源模塊的背光亮度實(shí)為各家廠商所努力的目標(biāo)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光源模塊，具有較佳的出光效益。本發(fā)明提出一種光源模塊，該光源模塊包括一導(dǎo)光板及一光源裝置。導(dǎo)光板具有 一出光面、與出光面相對(duì)的一光反射面，以及連接于出光面與光反射面之間的至少一入光 面，且導(dǎo)光板具有多個(gè)光反射結(jié)構(gòu)在光反射面上。每一光反射結(jié)構(gòu)包括一封閉的光作用區(qū) 以及位于光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)凸起，其中光作用區(qū)與光反射面不共面，而這些凸起朝向?qū)Ч?板外延伸。光源裝置對(duì)應(yīng)于入光面設(shè)置。光源裝置提供一光線由入光面進(jìn)入導(dǎo)光板，并且被光反射面上的其中一個(gè)凸起改變方向(redirect)后，再由出光面射出導(dǎo)光板。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)是由多個(gè)點(diǎn)狀圖案所構(gòu)成，且任兩相鄰 的點(diǎn)狀圖案局部重疊。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一點(diǎn)狀圖案為位于光反射面上的一凹陷部，且每一點(diǎn) 狀圖案的邊緣凸出于光反射面。這些點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集區(qū)域形成光作用區(qū)，而這些點(diǎn)狀圖案 的交集區(qū)域的邊緣形成這些凸起。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一點(diǎn)狀圖案為位于光反射面上的一凸出部，且每一點(diǎn) 狀圖案的邊緣凹陷于光反射面。這些點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集區(qū)域形成光作用區(qū)，而這些點(diǎn)狀圖案 的交集區(qū)域的邊緣形成分離這些凸起的多個(gè)溝槽。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，組成每一光反射結(jié)構(gòu)的這些點(diǎn)狀圖案沿一直線排列，且 直線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于光線的行進(jìn)方向。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，各點(diǎn)狀圖案為圓形。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括多個(gè)內(nèi)部圖案，分別位于這些點(diǎn) 狀圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案的邊緣凸出或凹陷于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，各內(nèi)部圖案為圓形。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些點(diǎn)狀圖案的數(shù)量是沿遠(yuǎn)離光源 裝置的方向逐漸增加。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，任兩相鄰的光反射結(jié)構(gòu)的間距是沿遠(yuǎn)離光源裝置的方向 逐漸變小。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)的這些凸起是由位于光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè) 點(diǎn)狀圖案所構(gòu)成，每一點(diǎn)狀圖案為位于光反射面上的一凹陷部，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凸 出于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案局部重疊，且這些點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集 區(qū)域與交集區(qū)域的邊緣形成這些凸起。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)更包括多個(gè)內(nèi)部圖案，分別位于這些點(diǎn) 狀圖案內(nèi)，且每一內(nèi)部圖案的邊緣凸出或凹陷于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，任兩點(diǎn)狀圖案相鄰且不相交。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些點(diǎn)狀圖案沿一直線排列，且直 線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于光線的行進(jìn)方向。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些點(diǎn)狀圖案呈陣列排列。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)的這些凸起是由位于光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè) 點(diǎn)狀圖案所構(gòu)成，每一點(diǎn)狀圖案為位于光反射面上的一凸出部，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凹 陷于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案局部重疊，且這些點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集 區(qū)域與交集區(qū)域的邊緣形成分離這些凸起的多個(gè)溝槽。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)更包括多個(gè)內(nèi)部圖案，分別位于這些點(diǎn) 狀圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案的邊緣凸出或凹陷于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，任兩點(diǎn)狀圖案相鄰且不相交。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些點(diǎn)狀圖案沿一直線排列，且直
6線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于光線的行進(jìn)方向。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些點(diǎn)狀圖案呈陣列排列。本發(fā)明另提出一種光源模塊，該光源模塊包括一導(dǎo)光板以及一光源裝置。導(dǎo)光板 具有一出光面、與出光面相對(duì)的一光反射面，以及連接于出光面與光反射面之間的至少一 入光面，且導(dǎo)光板的光反射面形成有多個(gè)光反射結(jié)構(gòu)。每一光反射結(jié)構(gòu)包括相交或相切的 兩個(gè)以上的封閉的子圖案，且各子圖案凹陷或凸出于出光面。光源裝置對(duì)應(yīng)于入光面設(shè)置。 光源裝置提供一光線由入光面進(jìn)入導(dǎo)光板， 并且被光反射面上的其中一個(gè)光反射結(jié)構(gòu)改變 方向(redirect)后，再由出光面射出導(dǎo)光板。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一子圖案為點(diǎn)狀圖案，且任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案相交或 相切。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一點(diǎn)狀圖案為位于光反射面上的凹洞，且每一點(diǎn)狀圖 案的邊緣凸出于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一點(diǎn)狀圖案為位于光反射面上的一凸起，且每一點(diǎn)狀 圖案的邊緣凹陷于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，組成每一光反射結(jié)構(gòu)的這些點(diǎn)狀圖案沿一直線排列，且 直線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于光線的行進(jìn)方向。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)的這些點(diǎn)狀圖案呈陣列排列。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，各點(diǎn)狀圖案為圓形。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)更包括多個(gè)內(nèi)部圖案，分別位于這些子 圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案凸出或凹陷于光反射面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，各內(nèi)部圖案為圓形。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些子圖案的數(shù)量是沿遠(yuǎn)離光源裝 置的方向逐漸增加。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，任兩相鄰的光反射結(jié)構(gòu)的間距是沿遠(yuǎn)離光源裝置的方向 逐漸變小。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括一封閉的基底圖案，基底圖案凹 陷或凸出于光反射面，并且涵蓋所述光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的這些子圖案的聯(lián)集區(qū)域。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，基底圖案為矩形。本發(fā)明實(shí)施例的有益效果在于，本發(fā)明的光源裝置利用導(dǎo)光板上具有多個(gè)光反射 結(jié)構(gòu)，且每一光反射結(jié)構(gòu)包括一封閉的光作用區(qū)以及位于光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)凸起，因此當(dāng) 光線于導(dǎo)光板內(nèi)傳遞至位于光反射面上的光反射結(jié)構(gòu)時(shí)，光線會(huì)被凸起反射而經(jīng)由出光面 射出導(dǎo)光板，從而可提高出光效益。


圖1A為已有的一種側(cè)邊入光式光源模塊的俯視圖。圖1B為沿圖1A的AA’線所示的光源模塊的剖示圖。圖2A為本發(fā)明一實(shí)施例的光源模塊的俯視示意圖。圖2B為沿圖2A的BB’線所示的光源模塊的剖面示意圖。圖2C為沿圖2A的CC’線所示的光源模塊的剖面示意圖。
圖3A為沿圖2A的BB’線所示的另一實(shí)施形態(tài)的光源模塊的剖面示意圖。圖3B為沿圖2A的CC’線所示的另一實(shí)施形態(tài)的光源模塊的剖面示意圖。圖4為圖2A中光反射結(jié)構(gòu)的點(diǎn)狀圖案局部重疊的示意圖。圖5 圖7分別為光源模塊中光反射結(jié)構(gòu)的排列與點(diǎn)狀圖案的數(shù)量采用不同實(shí)施 形態(tài)的俯視示意圖。圖8A 圖8E分別為圖2A中光反射結(jié)構(gòu)采用不同實(shí)施形態(tài)的示意圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明100,200 光源模塊110:光源112:光束120,210 導(dǎo)光板121:凸起部122 上表面124 下表面126 入光面130,230 反射片140,240 光學(xué)擴(kuò)散片220 光源裝置212:出光面214 光反射面216 入光面213 光反射結(jié)構(gòu)213a:光作用區(qū)213b:凸起215 點(diǎn)狀圖案215a:凸出部215b 邊緣217 溝槽219:內(nèi)部圖案215c:凹陷部222 發(fā)光二極管Ml 聯(lián)集區(qū)域M2 交集區(qū)域L1 光線P1 延伸方向X、Y 軸r 半徑d 徑長(zhǎng)dl、d2 間距
具體實(shí)施例方式圖2A為本發(fā)明一實(shí)施例的光源模塊的俯視示意圖，圖2B為沿圖2A的BB’線所示 的光源模塊的剖面示意圖，而圖2C為沿圖2A的CC’線所示的光源模塊的剖面示意圖，其中 為了方便說(shuō)明，圖2A僅示出光源裝置與導(dǎo)光板而省略位于導(dǎo)光板上下可能的光學(xué)構(gòu)件。請(qǐng) 同時(shí)參考圖2A、圖2B與圖2C，本實(shí)施例的光源模塊200包括一導(dǎo)光板210及一光源裝置 220。導(dǎo)光板210具有一出光面212、與出光面212相對(duì)的一光反射面214，以及連接于 出光面212與光反射面214之間的至少一入光面216，且導(dǎo)光板210具有多個(gè)光反射結(jié)構(gòu) 213在光反射面214上。每一光反射結(jié)構(gòu)213包括一封閉的光作用區(qū)213a以及位于光作用 區(qū)213a內(nèi)的多個(gè)凸起213b，其中光作用區(qū)213a與光反射面214不共面，而這些凸起213b 朝向?qū)Ч獍?10外延伸。在本實(shí)施例中，每一光反射結(jié)構(gòu)213是由多個(gè)點(diǎn)狀圖案215所構(gòu) 成，且兩相鄰的點(diǎn)狀圖案215可以是局部重疊或是相切，如圖2A所示。由另一角度來(lái)說(shuō)，每 一光反射結(jié)構(gòu)213可以是包括有相交或相切的兩個(gè)以上的封閉的子圖案，其中各子圖案可 視為上述的各點(diǎn)狀圖案215。換句話說(shuō)，每一光反射結(jié)構(gòu)213中的子圖案可以是凹陷或凸出 于出光面212，端視其形成方法而定，其中相關(guān)描述可參考后續(xù)段落中的說(shuō)明。另外，本實(shí)施 例所述的各點(diǎn)狀圖案215可等效視為上述各子圖案，其相關(guān)描述可參考以下說(shuō)明。在圖2B的實(shí)施形態(tài)中，每一點(diǎn)狀圖案215例如是位于光反射面214上的一凸起， 且每一點(diǎn)狀圖案215可包括有凸出部215a以及邊緣215b。詳細(xì)而言，凸出部215a位于光 反射面214上且朝向?qū)Ч獍?10外延伸而凸出于光反射面214，因此，凸出部215a并未與光 反射面214共面，其中所謂的共面是指共平面。由于每一點(diǎn)狀圖案215是凸起結(jié)構(gòu)，因此每 一點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b便會(huì)凹陷于光反射面214。此外，在每一光反射結(jié)構(gòu)213中，這 些局部重疊或相切的點(diǎn)狀圖案215的聯(lián)集區(qū)域Ml (也可參考圖4所示的外圍區(qū)域Ml)可形 成光反射結(jié)構(gòu)213的光作用區(qū)213a，而這些點(diǎn)狀圖案215的交集區(qū)域M2的邊緣215b則可 形成分離這些凸起213b的多個(gè)溝槽217，如圖2C所示。詳細(xì)而言，形成上述凸出部215a結(jié)構(gòu)的方式可以是先使用一激光束(未示出)打 點(diǎn)于一鋼板(未示出)上，其中每一鐳射光點(diǎn)的位置同于圖2A所示的分布，也就是說(shuō)打點(diǎn) 于鋼板上的鐳射光點(diǎn)會(huì)互相局部重疊或相切。接著，再將鋼板模印于一導(dǎo)光基材后便可形 成如圖2B與圖2C所示的導(dǎo)光板210。這里需要說(shuō)明的是，由于打在鋼板上的激光束是采用 鐳射燒蝕的方式，因此，形成于鋼板上的圖樣便會(huì)有類似火山口的構(gòu)造，如此一來(lái)，當(dāng)鋼板 模印于導(dǎo)光基材后，便會(huì)形成圖2B中點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b凹陷于光反射面214的結(jié) 構(gòu)。然而，在其它實(shí)施形態(tài)中，導(dǎo)光板210的制作方式也可以是在一導(dǎo)光基材上直接 地使用激光束進(jìn)行前述的打點(diǎn)制程，如此一來(lái)，導(dǎo)光板210上所形成的點(diǎn)狀圖案215便會(huì)是 位于光反射面214上的一凹陷部215c，而每一點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b則會(huì)凸出于光反射 面214，如圖3A與圖3B所示，其中圖3A為沿圖2A的BB’線所示的另一實(shí)施形態(tài)的光源模 塊的剖面示意圖，而圖3B為沿圖2A的CC’線所示的另一實(shí)施形態(tài)的光源模塊的剖面示意 圖。在圖3A與圖3B的實(shí)施形態(tài)中，由于是使用激光束直接地打點(diǎn)于導(dǎo)光基板的光反射面214上，因此其所形成的每一光反射結(jié)構(gòu)213中的點(diǎn)狀圖案215便可視為位于光反射 面214上的凹洞，且每一點(diǎn)狀圖案215的邊緣可凸出于光反射面214。此外，每一光反射結(jié) 構(gòu)213中局部重疊或相切的點(diǎn)狀圖案215的聯(lián)集區(qū)域Ml可形成前述的光作用區(qū)213a，而 這些局部重疊或相切的點(diǎn)狀圖案215的交集區(qū)域M2 (也可參考圖4所示的區(qū)域M2)的邊緣 215b可形成有多個(gè)凸起213b結(jié)構(gòu)。同樣地，由于直接打在導(dǎo)光基材上的激光束是采用鐳射燒蝕的方式，因此，形成于 導(dǎo)光板210上的圖樣便會(huì)有類似火山口的構(gòu)造，如圖3A中點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b會(huì)凸 出于光反射面214的結(jié)構(gòu)。需要注意的是，形成本實(shí)施例光反射結(jié)構(gòu)213的方式并不一定 要采用鐳射燒蝕的方式，也可以采用一般鐳射制程、一般蝕刻制程或是其它適當(dāng)?shù)闹瞥?，?此一來(lái)，便不會(huì)形成圖2B中的點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b會(huì)凹陷于光反射面214的結(jié)構(gòu)，或 者是形成如圖3A中的點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b會(huì)凸出于光反射面214的結(jié)構(gòu)。另外，光源裝置220對(duì)應(yīng)于導(dǎo)光板210的入光面216設(shè)置，如圖2A、圖2B與圖3A 所示。光源裝置220提供一光線L1由入光面216進(jìn)入導(dǎo)光板210，并且被光反射面214上 的其中一個(gè)光反射結(jié)構(gòu)213 (如凸起213b)改變方向后，再由出光面212射出導(dǎo)光板210， 如圖2B與圖3B所示。詳細(xì)而言，由于導(dǎo)光板210上的每一光反射結(jié)構(gòu)213是由多個(gè)點(diǎn)狀 圖案215局部重疊或相切所構(gòu)成，因此當(dāng)光線L1于導(dǎo)光板210內(nèi)傳遞至位于光反射面214 上的光反射結(jié)構(gòu)213時(shí)，光線L1便很容易地會(huì)被凸起213b全反射而經(jīng)由出光面212射出 導(dǎo)光板210，從而可提高出光效益。另外，部分的光線L1若穿透光反射面214而射出導(dǎo)光 板210時(shí)，光源模塊200可設(shè)置一反射片230于光反射面214上，以將光線L1傳遞回導(dǎo)光 板210中，藉以提高光線的利用率。舉例而言，若光源模塊200采用上述的導(dǎo)光板210后， 將可提升其整體的開(kāi)口率外，也可提升其整體的出光亮度，其中在實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)中顯示出光源 模塊200若采用上述具有多個(gè)點(diǎn)狀圖案215重疊的導(dǎo)光板210結(jié)構(gòu)時(shí)，其整體出光亮度相 較傳統(tǒng)如圖1A所示的導(dǎo)光板120將可提升至少10. 8%以上。換句話說(shuō)，由于光線L1會(huì)被點(diǎn)狀圖案215局部重疊或相切所構(gòu)成的凸起213b改 變方向并經(jīng)由出光面212射出導(dǎo)光板210，因此，采用本實(shí)施例的導(dǎo)光板210將可提高光源 模塊200整體的出光效益。在本實(shí)施例中，光源裝置220以多個(gè)陣列排列的發(fā)光二極管222 作為舉例說(shuō)明，但不限于此。在其它實(shí)施例中，光源裝置220也可以是采用冷陰極熒光燈管 或是其它適當(dāng)?shù)墓庠础Ｔ诒緦?shí)施例中，上述組成每一光反射結(jié)構(gòu)213的這些點(diǎn)狀圖案215是沿一直線排 列，且直線的延伸方向P1實(shí)質(zhì)上垂直于光線L1的行進(jìn)方向，意即延伸方向P1例如為X軸 方向，如圖2A所示。另外，光反射結(jié)構(gòu)213中的點(diǎn)狀圖案215局部重疊的程度將會(huì)對(duì)光源模塊200所 提供的出光增益有所影響。以下將以圖4為舉例說(shuō)明，在本實(shí)施例中，若點(diǎn)狀圖案215是以 圓形為舉例并具有一半徑r，且相鄰的點(diǎn)狀圖案215所重疊的徑長(zhǎng)定義為d，其中徑長(zhǎng)定義 為兩相鄰點(diǎn)狀圖案215半徑重疊的最大長(zhǎng)度。若任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案215局部重疊是落在 r/3 < d < 2r的范圍內(nèi)，則導(dǎo)光板210所能提升光源模塊200整體的出光效益便可具有較 佳的表現(xiàn)，反之若重疊量是小于r/3以下時(shí)，則導(dǎo)光板210所能提升的光源模塊200的出光 效益相對(duì)來(lái)說(shuō)便會(huì)較小。在本實(shí)施例中，除了光反射結(jié)構(gòu)213中的點(diǎn)狀圖案215的重疊程度會(huì)對(duì)光源模塊200的出光效益產(chǎn)生影響外，各光反射結(jié)構(gòu)213之間沿X軸方向上的間距dl或沿Y軸方向 上的間距d2也會(huì)對(duì)光源模塊200的出光效益有所影響。舉例而言，在圖2A中，各光反射結(jié) 構(gòu)213之間沿Y軸方向上的間距d2例如是隨著遠(yuǎn)離光源裝置220的方向而漸小，這樣，可 使得離光源裝置220較遠(yuǎn)的出光面212仍可提供足夠的亮度。換句話說(shuō)，導(dǎo)光板210若是 采用如圖2A所示的光反射結(jié)構(gòu)213的分布時(shí)，將可使光源模塊200具有較佳的整體出光效 益以及較佳的出光均勻度。在另一實(shí)施形態(tài)中，導(dǎo)光板210上的光反射結(jié)構(gòu)213的排列方式也可以是采用如 圖5所示的排列。在圖5中，各光反射結(jié)構(gòu)213沿X軸方向上的間距d2也可以是沿Y軸方 向漸小，意即遠(yuǎn)離光源裝置220的方向。采用如圖5的光反射結(jié)構(gòu)213的排列同樣也可使 光源模塊200具有較佳的整體出光效益以及較佳的出光均勻度。另外，在圖2與圖5中，各光反射結(jié)構(gòu)213的點(diǎn)狀圖案215的數(shù)量皆為相同，而其 變化形態(tài)僅是改變各光反射結(jié)構(gòu)之間的間距dl、d2。在又一實(shí)施形態(tài)中，光反射結(jié)構(gòu)213中 的點(diǎn)狀圖案215的數(shù)量也可隨著遠(yuǎn)離光源模塊的方向而改變，如圖6與圖7所示。在圖6 中，各光反射結(jié)構(gòu)213中的點(diǎn)狀圖案215的數(shù)量是隨著遠(yuǎn)離光源模塊220的方向逐漸增加， 且各光反射結(jié)構(gòu)213沿Y軸方向上的間距d2是沿遠(yuǎn)離光源裝置220的方向逐漸變小，而各 光反射結(jié)構(gòu)213沿X軸方向上的間距dl則是沿遠(yuǎn)離光源裝置220的方向逐漸變小。圖7 與圖6的光反射結(jié)構(gòu)213的排列方式相似，二者不同之處在于，圖7中的各光反射結(jié)構(gòu)213 沿Y軸方向上的間距d2是固定。同樣地，光源模塊200中的導(dǎo)光板210無(wú)論是采用如圖6 或圖7的光反射結(jié)構(gòu)213的排列，都可使光源模塊200具有較佳的整體出光效益以及較佳 的出光均勻度。在本實(shí)施例中，位于導(dǎo)光板210的光反射面214上的光反射結(jié)構(gòu)213除了可以采 用如圖2A、圖5、圖6以及圖7所示的點(diǎn)狀圖案215的設(shè)計(jì)夕卜，其也可采用如圖8A 圖8E所 示的光反射結(jié)構(gòu)213，其中圖8A 圖8E中的光反射結(jié)構(gòu)213的制作方式可采用前述的鐳射 燒蝕的方式，或者是采用一般鐳射制程或蝕刻制程。以下將分別詳細(xì)說(shuō)明圖8A 圖8E中 的光反射結(jié)構(gòu)213的結(jié)構(gòu)。在圖8A中，每一光反射結(jié)構(gòu)213還可包括多個(gè)內(nèi)部圖案219，其中每一內(nèi)部圖案 219分別位于點(diǎn)狀圖案215內(nèi)，且每一內(nèi)部圖案219的邊緣可凸出或凹陷于光反射面214。 需要說(shuō)明的是，內(nèi)部圖案219是凸出或凹陷于光反射面214可取決于或使用前述形成點(diǎn)狀 圖案215的方式。舉例而言，若點(diǎn)狀圖案215是采用前述鋼板模印的方式形成，則內(nèi)部圖案 219也可同于方式，又或者是采用其它鐳射制程或蝕刻制程。在本實(shí)施例中，前述的內(nèi)部圖 案219的圖樣可以是一圓形，但不限于此。在圖8B中，每一光反射結(jié)構(gòu)213還可包括一封閉的基底圖案218，其中基底圖案 218可以凹陷或凸出于光反射面214，并且涵蓋所述光反射結(jié)構(gòu)213內(nèi)的點(diǎn)狀圖案215的聯(lián) 集區(qū)域Ml。同樣地，基底圖案218是凸出或凹陷于光反射面214可取決于或使用前述形成 點(diǎn)狀圖案215的方式，在此不再贅述。在本實(shí)施例中，基底圖案218的圖樣可以是一矩形， 但不限于此。從另一角度來(lái)說(shuō)，圖8B的每一光反射結(jié)構(gòu)213的這些凸起213b可以由位于光作 用區(qū)213a內(nèi)的多個(gè)點(diǎn)狀圖案215所構(gòu)成。舉例而言，若圖8B的光反射結(jié)構(gòu)213是采用圖 3A所示的制作方式時(shí)，則每一點(diǎn)狀圖案215是位于光反射面214上的一凹陷部215c，且每
11一點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b凸出于光反射面214 ；反之，若圖8B的光反射結(jié)構(gòu)213是采用 圖2B所示的制作方式時(shí)，每一點(diǎn)狀圖案215則是位于光反射面214上的一凸出部215a，且 每一點(diǎn)狀圖案215的邊緣215b凹陷于光反射面214。此外，若在圖8B中的光反射結(jié)構(gòu)213 中加入圖8A所提及的內(nèi)部圖案219的設(shè)計(jì)，則可形成如圖8C所示的光反射結(jié)構(gòu)213。另外，圖8D的光反射結(jié)構(gòu)213與圖8B的光反射結(jié)構(gòu)213相似，二者不同之處在于， 圖8D中的任兩點(diǎn)狀圖案215相鄰且相切。而圖8E的光反射結(jié)構(gòu)213則是與圖8D的光反 射結(jié)構(gòu)213相似，圖8E的點(diǎn)狀圖案215是呈現(xiàn)陣列排列。在光源模塊200中，導(dǎo)光板210 上的光反射結(jié)構(gòu)213除了采用如圖2A、圖5、圖6以及圖7所示的點(diǎn)狀圖案215的設(shè)計(jì)而可 具有前述所提及的優(yōu)點(diǎn)外，光反射結(jié)構(gòu)213若是采用圖8A 圖8E的結(jié)構(gòu)，也可提供光源模 塊整體的出光效益。在本實(shí)施例中，光源模塊200也可包括有一光學(xué)擴(kuò)散片240，配置于導(dǎo)光板210的 出光面212上，這樣，將可進(jìn)一步地均勻化光源模塊200所提供的光線。綜上所述，本發(fā)明的光源模塊至少具有下列優(yōu)點(diǎn)。首先，導(dǎo)光板具有多個(gè)光反射結(jié) 構(gòu)在光反射面上，且每一光反射結(jié)構(gòu)包括一封閉的光作用區(qū)以及位于光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)凸 起，因此當(dāng)光線于導(dǎo)光板內(nèi)傳遞至位于光反射面上的光反射結(jié)構(gòu)時(shí)，光線會(huì)被凸起反射而 經(jīng)由出光面射出導(dǎo)光板，從而可提高出光效益。由另一角度來(lái)說(shuō)，由于每一光反射結(jié)構(gòu)包括 相交或相切的兩個(gè)以上的封閉的子圖案，且各子圖案可凹陷或凸出于出光面，因此光線在 被光反射結(jié)構(gòu)改變方向而經(jīng)由出光面射出導(dǎo)光板后，可提高導(dǎo)光板整體的出光效益。另外，通過(guò)設(shè)計(jì)各光反射結(jié)構(gòu)之間的間距除了可進(jìn)一步地提升導(dǎo)光板的出光增益 外，也可使得出射于導(dǎo)光板的光線更為均勻化。此外，適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)各光反射結(jié)構(gòu)中的點(diǎn)狀圖 案的數(shù)量變化，如遠(yuǎn)離光源裝置的方向逐漸變多，也可達(dá)到提升出光增益及均勻化出射光 線的效果。再者，光反射結(jié)構(gòu)也可以是采用其它適當(dāng)?shù)膱D樣以于光作用區(qū)內(nèi)形成多個(gè)凸起， 這樣也可有助于出光效益的提升。另外，光源模塊可設(shè)置一反射片于光反射面上，以將穿透 光反射面而射出導(dǎo)光板的光線傳遞回導(dǎo)光板中，藉以提高光線的利用率。以上所述內(nèi)容，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實(shí)施的范 圍，即大凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍及發(fā)明說(shuō)明內(nèi)容所作的簡(jiǎn)單的等效變化與修飾，皆仍屬 本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。另外本發(fā)明的任一實(shí)施例或申請(qǐng)專利范圍不須達(dá)成本發(fā)明所揭 露的全部目的或優(yōu)點(diǎn)或特點(diǎn)。此外，摘要部分和標(biāo)題僅是用來(lái)輔助專利文件搜尋之用，并非 用來(lái)限制本發(fā)明的權(quán)利范圍。
權(quán)利要求
一種光源模塊，其特征在于，所述光源模塊包括一導(dǎo)光板，所述導(dǎo)光板具有一出光面、與所述出光面相對(duì)的一光反射面，以及連接于所述出光面與所述光反射面之間的至少一入光面，且所述導(dǎo)光板具有多個(gè)光反射結(jié)構(gòu)在所述光反射面上，每一光反射結(jié)構(gòu)包括一封閉的光作用區(qū)以及位于所述光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)凸起，其中所述光作用區(qū)與所述光反射面不共面，而所述凸起朝向所述導(dǎo)光板外延伸；以及一光源裝置，對(duì)應(yīng)于所述入光面設(shè)置，所述光源裝置提供一光線由所述入光面進(jìn)入所述導(dǎo)光板，并且被所述光反射面上的其中一個(gè)凸起改變方向后，再由所述出光面射出所述導(dǎo)光板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)是由多個(gè)點(diǎn)狀圖案 所構(gòu)成，且任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案局部重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，每一點(diǎn)狀圖案為位于所述光反射面 上的一凹陷部，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凸出于所述光反射面，所述點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集區(qū)域形 成所述光作用區(qū)，而所述點(diǎn)狀圖案的交集區(qū)域的邊緣形成所述凸起。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，每一點(diǎn)狀圖案為位于所述光反射面 上的一凸出部，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凹陷于所述光反射面，所述點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集區(qū)域形 成所述光作用區(qū)，而所述點(diǎn)狀圖案的交集區(qū)域的邊緣形成分離所述凸起的多個(gè)溝槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，組成每一光反射結(jié)構(gòu)的所述點(diǎn)狀圖 案沿一直線排列，且所述直線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于所述光線的行進(jìn)方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述點(diǎn)狀圖案為圓形。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括多個(gè)內(nèi)部圖 案，分別位于所述點(diǎn)狀圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案的邊緣凸出或凹陷于所述光反射面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光源模塊，其特征在于，所述內(nèi)部圖案為圓形。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述點(diǎn)狀圖案 的數(shù)量是沿遠(yuǎn)離所述光源裝置的方向逐漸增加。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源模塊，其特征在于，任兩相鄰的光反射結(jié)構(gòu)的間距是沿 遠(yuǎn)離所述光源裝置的方向逐漸變小。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)的所述凸起是由位 于所述光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)點(diǎn)狀圖案所構(gòu)成，每一點(diǎn)狀圖案為位于所述光反射面上的一凹陷 部，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凸出于所述光反射面。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源模塊，其特征在于，任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案局部重疊，且 所述點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集區(qū)域與交集區(qū)域的邊緣形成所述凸起。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括多個(gè)內(nèi)部 圖案，分別位于所述點(diǎn)狀圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案的邊緣凸出或凹陷于所述光反射面。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源模塊，其特征在于，任兩點(diǎn)狀圖案相鄰且不相交。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述點(diǎn)狀圖 案沿一直線排列，且所述直線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于所述光線的行進(jìn)方向。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述點(diǎn)狀圖 案呈陣列排列。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)的所述凸起是由位于所述光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)點(diǎn)狀圖案所構(gòu)成，每一點(diǎn)狀圖案為位于所述光反射面上的一凸出 部，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凹陷于所述光反射面。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光源模塊，其特征在于，任兩相鄰的點(diǎn)狀圖案局部重疊，且 所述點(diǎn)狀圖案的聯(lián)集區(qū)域與交集區(qū)域的邊緣形成分離所述凸起的多個(gè)溝槽。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括多個(gè)內(nèi)部 圖案，分別位于所述點(diǎn)狀圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案的邊緣凸出或凹陷于所述光反射面。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光源模塊，其特征在于，任兩點(diǎn)狀圖案相鄰且不相交。
21.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述點(diǎn)狀圖 案沿一直線排列，且所述直線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于所述光線的行進(jìn)方向。
22.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述點(diǎn)狀圖 案呈陣列排列。
23.一種光源模塊，其特征在于，所述光源模塊包括一導(dǎo)光板，所述導(dǎo)光板具有一出光面、與所述出光面相對(duì)的一光反射面，以及連接于所 述出光面與所述光反射面之間的至少一入光面，且所述導(dǎo)光板的所述光反射面形成有多個(gè) 光反射結(jié)構(gòu)，每一光反射結(jié)構(gòu)包括相交或相切的兩個(gè)以上的封閉的子圖案，且所述子圖案 凹陷或凸出于所述出光面；以及一光源裝置，對(duì)應(yīng)于所述入光面設(shè)置，所述光源裝置提供一光線由所述入光面進(jìn)入所 述導(dǎo)光板，并且被所述光反射面上的其中一個(gè)光反射結(jié)構(gòu)改變方向后，再由所述出光面射 出所述導(dǎo)光板。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光源模塊，其特征在于，每一子圖案為點(diǎn)狀圖案，且任兩相 鄰的點(diǎn)狀圖案相交或相切。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光源模塊，其特征在于，每一點(diǎn)狀圖案為位于所述光反射 面上的凹洞，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凸出于所述光反射面。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光源模塊，其特征在于，每一點(diǎn)狀圖案為位于所述光反射 面上的一凸起，且每一點(diǎn)狀圖案的邊緣凹陷于所述光反射面。
27.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光源模塊，其特征在于，組成每一光反射結(jié)構(gòu)的所述點(diǎn)狀 圖案沿一直線排列，且所述直線的延伸方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于所述光線的行進(jìn)方向。
28.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)的所述點(diǎn)狀圖案 呈陣列排列。
29.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光源模塊，其特征在于，所述點(diǎn)狀圖案為圓形。
30.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括多個(gè)內(nèi)部 圖案，分別位于所述子圖案內(nèi)，每一內(nèi)部圖案凸出或凹陷于所述光反射面。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的光源模塊，其特征在于，所述內(nèi)部圖案為圓形。
32.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述子圖案 的數(shù)量是沿遠(yuǎn)離所述光源裝置的方向逐漸增加。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的光源模塊，其特征在于，任兩相鄰的光反射結(jié)構(gòu)的間距是 沿遠(yuǎn)離所述光源裝置的方向逐漸變小。
34.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光源模塊，其特征在于，每一光反射結(jié)構(gòu)還包括一封閉的 基底圖案，所述基底圖案凹陷或凸出于所述光反射面，并且涵蓋所述光反射結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述子圖案的聯(lián)集區(qū)域。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的光源模塊，其特征在于，所述基底圖案為矩形。
全文摘要
本發(fā)明實(shí)施例提供一種光源模塊，該光源模塊包括一導(dǎo)光板及一光源裝置。導(dǎo)光板具有一出光面、與出光面相對(duì)的一光反射面，以及連接于出光面與光反射面之間的至少一入光面。導(dǎo)光板具有多個(gè)光反射結(jié)構(gòu)在光反射面上。每一光反射結(jié)構(gòu)包括一封閉的光作用區(qū)以及位于光作用區(qū)內(nèi)的多個(gè)凸起，其中光作用區(qū)與光反射面不共面，而這些凸起朝向?qū)Ч獍逋庋由臁９庠囱b置對(duì)應(yīng)于入光面設(shè)置。光源裝置提供一光線由入光面進(jìn)入導(dǎo)光板，并且被光反射面上的其中一個(gè)凸起改變方向后，再由出光面射出導(dǎo)光板。通過(guò)本發(fā)明實(shí)施例，可提供較佳的出光效益。
文檔編號(hào)F21S2/00GK101858508SQ20101015943
公開(kāi)日2010年10月13日 申請(qǐng)日期2010年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月6日
發(fā)明者王炯翰, 顏俊翔, 黃任偉 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司