專利名稱：具有光阻擋層的顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示裝置。更具體而言，本發(fā)明涉及一種光阻擋層，其防止環(huán)境光在顯示裝置中形成的電極的反射面上反射。
背景技術(shù)：
等離子體顯示面板(PDP)裝置是一種平板顯示器，近年來，它已經(jīng)在和LCD和投影電視進(jìn)行競(jìng)爭(zhēng)，其市場(chǎng)已經(jīng)快速膨脹。
PDP裝置典型的包括具有透明電極(維持電極)和輔助(bus)電極的前板，以及具有單元結(jié)構(gòu)的后板，該單元結(jié)構(gòu)包括定址電極、介電層、阻隔壁以及熒光層。
施加電壓到兩個(gè)基板的電極之間，以使得單元中放電，并產(chǎn)生紫外線。單元中的紫外線激發(fā)熒光材料，因此發(fā)出光。在前板上顯示由發(fā)光板的紅綠藍(lán)(RGB)單元組合而成的圖像。
前板上典型地由金屬形成的輔助電極使得環(huán)境光通過前板反射回來。該問題使得圖像質(zhì)量惡化，包括對(duì)比度。為了改進(jìn)圖像的質(zhì)量(對(duì)比度)，可以使用黑電極或?qū)觼矸乐馆o助電極引起的反射。
已經(jīng)有人提出了在透明電極和輔助電極之間形成黑電極的多種過程。已經(jīng)有人采用這樣的形成黑電極層的過程，其采用具有導(dǎo)電性的黑色金屬氧化物及其混合物，以及主要由沒有導(dǎo)電性的金屬氧化物組成的黑色顏料。此外，已經(jīng)有人采用這樣的過程來制造等離子體顯示器，即，順序地形成黑電極層和輔助電極層，然后將它們?cè)诓ＡЩ迳细邷責(zé)Y(jié)，從而減小該電極通過后表面的可見度。然而，這些方法都比較昂貴，因?yàn)槠湓诤陔姌O層中采用了金屬氧化物，例如RuO2或ITO。
如果采用黑色金屬氧化物來作為光敏黑電極材料，則隨著時(shí)間變化粘性會(huì)大大改變，這是因?yàn)樵诤谏伭喜牧虾凸饷粲袡C(jī)材料之間會(huì)發(fā)生反應(yīng)。因此，非想望的，僅僅非常有限種類的金屬氧化物可以用作黑色顏料。
此外，如果使用典型的銀粉來為透明電極層提供導(dǎo)電性，則會(huì)出現(xiàn)某些問題，例如變黃或者黑色減弱。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種制造等離子體顯示裝置的方法，包括提供基板，可視圖像將顯示在該基板上；在該基板上方提供放電維持電極，該放電維持電極基本上是透明的；在該放電維持電極上方提供用于光阻擋層的第一層，該層基本上沒有包含光敏材料；在該光阻擋層上方提供用于輔助電極的第二層；利用光刻法有選擇地蝕刻第二層，從而形成輔助電極；以及有選擇地蝕刻第一層，從而形成光阻擋層。
在該方法中，第一層包括含量為大約5wt％到大約30wt％的有機(jī)粘結(jié)劑以及含量為大約30wt％到大約50wt％的玻璃粉，上述含量均參照光阻擋層的總重來計(jì)算。有選擇地蝕刻第一層包括利用輔助電極作為蝕刻掩模來蝕刻第一層。有選擇地蝕刻第一層是在有選擇地蝕刻第二層曝光出第一層的表面時(shí)進(jìn)行的，并且至少一部分蝕刻第一層的過程和蝕刻第二層同時(shí)進(jìn)行。第二層包括光敏材料，而有選擇地蝕刻第二層包括將光掩模置于第二層上方，該光掩模包括多個(gè)圖案化的開口；經(jīng)光掩模的多個(gè)開口投射光線到第二層上，從而第二層的曝光區(qū)中的光敏材料發(fā)生光激活的反應(yīng)；以及將蝕刻劑接觸到第二層，從而該蝕刻劑有選擇地蝕刻第二層以留下輔助電極。
該方法還包括燒結(jié)導(dǎo)電層和光阻擋層。第二層基本上沒有包含光敏材料，而有選擇地蝕刻第二層包括在第二層上方利用光刻法形成蝕刻掩模；以及將蝕刻劑接觸到第二層，從而該蝕刻劑有選擇地蝕刻第二層以在蝕刻掩模下留下輔助電極。
在該方法中，在第二層上方形成蝕刻掩模包括在第二層上方形成光致抗蝕層；將光掩模置于該光致抗蝕層上方，該光掩模包括多個(gè)圖案化開口；經(jīng)光掩模的多個(gè)開口投射光線到該光致抗蝕層上；以及去除該光致抗蝕層的至少一部分，以形成用于有選擇地蝕刻第二層的蝕刻掩模。第二層基本上沒有包含光敏材料。輔助電極比放電維持電極導(dǎo)電率更高。該光阻擋層構(gòu)造成基本吸收沿朝向輔助電極的一般方向入射到基板上的環(huán)境光。
在該方法中，提供第一層和提供第二層包括將預(yù)制膜結(jié)構(gòu)置于放電維持電極上，該預(yù)制膜結(jié)構(gòu)包括第一層和第二層。該預(yù)制膜結(jié)構(gòu)還可以進(jìn)一步包括第二層上方的第三層，第三層對(duì)于有選擇地蝕刻第二層的光刻法中所用的光而言是基本透明的。該預(yù)制膜結(jié)構(gòu)還可以進(jìn)一步包括位于第二層和第三層之間的第四層，第四層包括光致抗蝕層。
本發(fā)明的另一個(gè)方面提供了一種由上述方法制造而成的等離子體顯示裝置。該裝置包括基板、放電維持電極、輔助電極和光阻擋層。該光阻擋層插入并電連接到放電維持電極和輔助電極之間。光阻擋層基本吸收沿朝向輔助電極的一般方向入射到基板上的環(huán)境光。該光阻擋層包括黑色或者基本暗色顏料、導(dǎo)電顆粒以及玻璃粉。
本發(fā)明的另一個(gè)方面提供了一種用于制造用于顯示裝置的光阻擋層的組合物。該組合物包括占該組合物總重的大約5wt％到大約30wt％的有機(jī)粘結(jié)劑；占該組合物總重的大約30wt％到大約50wt％的玻璃粉；黑色或者基本暗色顏料；以及導(dǎo)電顆粒，其中該組合物基本上沒有包含光敏材料。
在該組合物中，有機(jī)粘結(jié)劑可以占該組合物總重的大約15wt％到大約30wt％。玻璃粉可以占該組合物總重的大約35wt％到大約50wt％。該組合物還可以進(jìn)一步包括占該組合物總重的大約0.1wt％到大約10wt％的增塑劑。


通過下面結(jié)合附圖的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和其它目的、特性以及優(yōu)點(diǎn)將能夠被更加清楚的理解，其中圖1是傳統(tǒng)的等離子體顯示面板的透視圖；圖2A-2E示出一種形成等離子體顯示面板的黑電極層的傳統(tǒng)方法；圖3A-3D示出一種形成等離子體顯示面板的黑電極層的方法的一個(gè)實(shí)施方式；圖4A-4D示出一種形成等離子體顯示面板的黑電極層的方法的另一個(gè)實(shí)施方式；圖5A-5E示出一種形成等離子體顯示面板的黑電極層的方法的又一個(gè)實(shí)施方式；
圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例形成的圖案的示圖；以及圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)比較例形成的圖案的示圖。
具體實(shí)施例方式
下面將參照附圖來詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的對(duì)顯示裝置的光阻擋層進(jìn)行圖案化的方法。光阻擋層也可被稱為“黑色層”、“黑電極層”或者“黑電極”。在附圖中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的或者功能相似的部件。
圖1示出一種傳統(tǒng)等離子體顯示面板(PDP)100。等離子體顯示面板100包括前面板10和后面板20。前面板10包括前板11、透明電極12、黑電極層13、輔助電極層14、介電層15以及保護(hù)膜16。后面板20包括后板21、定址電極22、介電層23、阻隔壁24以及熒光層25。本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)理解，可以根據(jù)設(shè)計(jì)需要對(duì)等離子體顯示面板結(jié)構(gòu)的細(xì)節(jié)進(jìn)行改變。
在前面板10中，僅在前板表面11的部分上形成透明電極12，如圖1所示。此外，僅在透明電極12的部分上形成黑電極層13和輔助電極層14。
圖2A-2E示出一種對(duì)前板11的透明電極12上的黑電極層13和輔助電極層14進(jìn)行圖案化的傳統(tǒng)方法。在圖2A中，黑色層13位于透明電極12和前板11的曝光表面上方。黑色層13典型的包含黑色顏料和光敏材料。在圖2B中，輔助電極層14位于黑色層13上方。輔助電極層14典型的包含例如銀的金屬和光敏材料。
然后，在輔助電極層14上方設(shè)置光掩模17。該光掩模17具有用于對(duì)輔助電極層14的表面進(jìn)行曝光的圖案，其中黑電極和輔助電極形成在該輔助電極層14的表面的下面。在某些實(shí)施方式中，根據(jù)光刻法的類型，當(dāng)打開沒有電極形成在其下面的表面時(shí)該圖案會(huì)阻擋這些表面。接著，包括但不限于UV的光被照射到光掩模17上。在該步驟，光穿透通過黑電極層13和輔助電極層14。光使得黑電極層13和輔助電極層14位于曝光表面下面的那些部分硬化，如圖2C中的虛線所示。
然后，如圖2D所示，光掩模17被去除，利用堿性顯影溶液處理這些層。通過這些溶液，黑電極層和輔助電極層位于未曝光表面下面的那些部分被去除。然后執(zhí)行干燥步驟和燃燒和/或燒結(jié)步驟。最后，在層12-14上方形成介電層15，如圖2E所示。
制造顯示裝置的方法圖3A-3D示出形成等離子體顯示面板的光阻擋層或黑色層的方法的一個(gè)實(shí)施方式。在圖3A中，在透明電極32和前板31的曝光表面上方設(shè)置黑色層33。在所述實(shí)施方式中，黑色層33包含黑色顏料，但是基本上沒有包含光敏材料。黑色層33的組合物將在下面詳細(xì)描述。在圖3B中，在黑色層33上方設(shè)置輔助電極層34。在所述實(shí)施方式中，輔助電極層34包含例如銀的金屬以及光敏材料。在一個(gè)實(shí)施方式中，黑色層33具有大約0.5微米到大約3微米的厚度。輔助電極層34具有大約4微米到大約8微米的厚度。
然后，在輔助電極層34上方設(shè)置光掩模37。該光掩模37具有用于對(duì)輔助電極層34的表面進(jìn)行曝光的圖案，其中黑電極和輔助電極形成在該輔助電極層34的該表面的下面。接著，包括但不限于UV的光被照射到光掩模37上。在該步驟，光僅使得輔助電極層34位于曝光表面下面的部分34a硬化，如圖3C中的虛線所示。
然后，如圖3D所示，光掩模37被去除，利用堿性顯影溶液處理這些層。在該步驟，通過這些溶液，輔助電極層位于未曝光表面下面的那些部分被去除。在該步驟，黑色層位于輔助電極層34的未曝光表面下面的部分也被去除。然而，在該步驟之后，黑色層33位于輔助電極層34的硬化部分34a下面的部分基本上保持原樣。然后執(zhí)行干燥步驟和燃燒和/或燒結(jié)步驟。最后，在層32-34上方形成介電層，盡管未示出。
在所述實(shí)施方式中，雖然黑色層沒有包含光敏材料，但是在對(duì)位于黑色層33上面的光敏輔助電極層34進(jìn)行圖案化的同時(shí)對(duì)黑色層33進(jìn)行圖案化。
圖4A-4D示出對(duì)等離子體顯示面板的光阻擋層或者黑色層進(jìn)行圖案化的方法的另一個(gè)實(shí)施方式。在圖4A中，已經(jīng)在前板41上形成了透明電極42。接著，如圖4B所示，在該透明電極42上添加一個(gè)兩層膜，包括黑色層43和輔助電極層44。除了這些層采用膜的形式，黑色層43和輔助電極層44如上述參照?qǐng)D3所述的那樣。此外，在圖4C和4D中示出的光照射步驟和層去除步驟也如上述參照?qǐng)D3C和3D所述的那樣。在某些實(shí)施方式中，該膜還可以進(jìn)一步包括輔助電極層44上方的例如PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)層的基層。該基層在光照射步驟(圖4C)之后且在層去除步驟(圖4D)之前被去除。
圖5A-5E示出對(duì)等離子體顯示面板的光阻擋層或者黑色層進(jìn)行圖案化的方法的又一個(gè)實(shí)施方式。在圖5A中，透明電極52已經(jīng)在前板51上圖案化。接著，如圖5B所示，在該透明電極52上添加一個(gè)三層膜，包括黑色層53、輔助電極層54以及光致抗蝕層55。在某些實(shí)施方式中，該膜還可以進(jìn)一步包括光致抗蝕層55上方的例如PET層的基層。
在所述實(shí)施方式中，黑色層53包含黑色顏料，但是基本上沒有包含光敏材料。黑色層53的組合物將在下面詳細(xì)描述。所述的輔助電極層54包含例如銀的金屬，但是基本上沒有包含光敏材料。光致抗蝕層55由商業(yè)上用作光致抗蝕劑的材料形成。然而，在某些實(shí)施方式中，輔助電極層54包含光敏材料。在所述實(shí)施方式中，黑色層53具有大約10微米到大約20微米的厚度。輔助電極層54具有大約10微米到大約30微米的厚度。光致抗蝕層55具有大約3微米到大約15微米的厚度。
然后，在光致抗蝕層55上方設(shè)置光掩模57。該光掩模57具有用于對(duì)光致抗蝕層55的表面進(jìn)行曝光的圖案，其中黑電極和輔助電極形成在該光致抗蝕層55的該表面的下面。接著，包括但不限于UV的光被照射到光掩模57上。在該步驟，光穿透通過光致抗蝕層55，并且使得光致抗蝕層55位于曝光表面下面的部分55a硬化，如圖5C中的虛線所示。
然后，如圖5D所示，光掩模57被去除，利用堿性顯影溶液處理這些層。在該步驟，通過這些溶液，光致抗蝕層55位于未曝光表面下面的那些部分被去除。在該步驟，輔助電極層54a和黑色層53a位于光致抗蝕層55的未曝光表面下面的部分也被去除。然而，在該步驟之后，輔助電極層54a和黑色層53a位于光致抗蝕層的硬化部分55a下面的部分基本上保持原樣。在該膜還進(jìn)一步包括基層的某些實(shí)施方式中，在光照射步驟(圖5C)之后以及層去除步驟(圖5D)之前去除該基層。
然后執(zhí)行干燥步驟和燃燒和/或燒結(jié)步驟。最后，在層52-54上方形成介電層，盡管未示出。
在其它實(shí)施方式中，黑色層和輔助電極層被制備為糊狀形式，并且其利用絲網(wǎng)印刷方法或者膠印方法進(jìn)行圖案化。也可以結(jié)合絲網(wǎng)印刷方法和光刻法來實(shí)施該圖案化。
在所述實(shí)施方式中，由于黑色層沒有包含光敏材料，所以在制成的等離子體顯示面板中不會(huì)出現(xiàn)因光敏材料而導(dǎo)致的發(fā)黃。此外，利用銀粉和多種類型的黑色顏料可以理想地確保透明電極層的導(dǎo)電性。此外，還可以使用廉價(jià)的材料，因?yàn)閷?duì)于選擇黑色顏料沒有限制。
黑色電極層組合物在上述實(shí)施方式中，可以通過黑色層組合物來形成黑色電極層，該黑色層組合物包括黑色顏料、導(dǎo)電顆粒、有機(jī)粘結(jié)劑以及玻璃粉。在一個(gè)實(shí)施方式中，黑色層組合物包括占組合物總重的大約10-30wt％的黑色顏料、大約1-5wt％的導(dǎo)電顆粒、大約5-30wt％的有機(jī)粘結(jié)劑以及大約30-50wt％的玻璃粉。在另一個(gè)實(shí)施方式中，該組合物還包括占組合物總重的大約0.1-10wt％的增塑劑。
黑色顏料是一種基本上吸收或者阻擋光的材料。該黑色顏料為基本上黑顏色，包括黑色、深藍(lán)色等等。在一個(gè)實(shí)施方式中，黑顏色具有大約1-40的L*值。黑色顏料的例子包括過渡金屬元素的氧化物顆粒、硼化物、氮化物或者碳化物。在一個(gè)實(shí)施方式中，黑色顏料不具有導(dǎo)電性，并且對(duì)導(dǎo)體具有較高的本征電阻。在一個(gè)實(shí)施方式中，用作黑色顏料的顆粒具有大約0.1-5微米的直徑。
導(dǎo)電顆粒可以是以下顆粒的一種或多種銀粉、金粉、鉑粉、鈀粉及其合金粉。在一個(gè)實(shí)施方式中，導(dǎo)電顆粒的平均直徑大約為0.5-5微米，非強(qiáng)制性選擇的為大約1-2微米。在一個(gè)實(shí)施方式中，導(dǎo)電顆粒占黑色層總重的大約1-5wt％。
有機(jī)粘結(jié)劑的例子包括含羧基的單體以及具有乙烯型不飽和雙鍵的單體的共聚物。含羧基的單體的例子包括丙烯酸、異丁烯酸或者衣康酸。具有乙烯型不飽和雙鍵的單體的例子包括丙烯酸酯(丙烯酸甲酯或者異丁烯酸乙酯)、苯乙烯、丙烯酰胺或者丙烯腈、纖維素的衍生物和水溶性纖維素、以及聚乙烯醇。有機(jī)粘結(jié)劑可以單獨(dú)使用或者混合使用。
有機(jī)粘結(jié)劑可溶于預(yù)定的顯影溶液。如果堿性水溶液(例如，0.4％Na2CO3水溶液)用作顯影溶液，則具有羧基的樹脂用作有機(jī)粘結(jié)劑。具有乙烯型不飽和雙鍵的含羧基樹脂以及不具有乙烯型不飽和雙鍵的含羧基樹脂都可以被采用。有機(jī)粘結(jié)劑的重均分子量大約為1000-200000，非強(qiáng)制性選擇的為大約5000-100000。在一個(gè)實(shí)施方式中，有機(jī)粘結(jié)劑的酸值大約為20-250mg KOH/g。
增塑劑用于控制預(yù)定的顯影溶液中的有機(jī)粘結(jié)劑的溶解度。增塑劑的例子包括鄰苯二甲酸酯、己二酸酯、磷酸酯、偏苯三酸酯、檸檬酸酯、環(huán)氧、聚酯以及丙三醇。進(jìn)而，可以采用丙烯酸類化合物的低分子量材料(單體、低聚物以及三聚體)作為增塑劑，其中上述低分子量材料是水溶性的并且用作具有高沸點(diǎn)的單體。
玻璃粉用作無機(jī)粘結(jié)劑。玻璃粉包括氧化鉛、氧化鉍或者氧化鋅作為主成分。玻璃粉具有大約300-600攝氏度的軟化點(diǎn)。玻璃粉的玻璃化點(diǎn)為大約200-500攝氏度。在一個(gè)實(shí)施方式中，玻璃粉具有大約5微米或更小的粒度。
此外，黑色層還可以進(jìn)一步包括溶劑、分散劑、粘度穩(wěn)定劑、消泡劑或者偶聯(lián)劑來控制粘度。
顯示裝置本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種通過利用上述黑色層組合物的方法制造而成的顯示裝置。在上述實(shí)施方式中，在已經(jīng)形成電極圖案之后燒結(jié)光阻擋和導(dǎo)電層。獲得的顯示裝置包括基本透明的電極、基本反射性的電極以及插入該透明和反射性電極之間的光阻擋層。在一個(gè)實(shí)施方式中，因?yàn)樵跓Y(jié)步驟之后去除了黑色層組合物中的有機(jī)粘結(jié)劑，所以該光阻擋層包括玻璃、黑色顏料以及導(dǎo)電顆粒，但是基本上沒有包含有機(jī)粘結(jié)劑。
根據(jù)這些實(shí)施方式，可以使用含銅鐵或含銅鉻的黑色復(fù)合氧化物顏料，其在傳統(tǒng)上公知用于增加組合物的粘性，而不會(huì)降低組合物的穩(wěn)定性，例如粘性的變化。此外，還可以使用廉價(jià)的黑色顏料材料。
此外，通過燒結(jié)過程中的相互擴(kuò)散，在透明電極和上部電極之間插入絕緣層確立了兩者之間的導(dǎo)電率。如果在540-580攝氏度進(jìn)行燒結(jié)，其對(duì)應(yīng)于PDP的前板的制造條件，可以利用多種具有少量導(dǎo)電顆粒的黑色顏料來確保理想的導(dǎo)電率。
根據(jù)這些實(shí)施方式，圖像對(duì)比度得以改善。此外，透明電極的導(dǎo)電率得以確保，并且可以低成本制造這些電極。
通過下面的實(shí)施例和比較例可以獲得對(duì)本發(fā)明的更好的理解，這些實(shí)施例和比較例是用于闡述本發(fā)明而不是用于限制本發(fā)明的。
實(shí)施例1包含40wt％異丁烯酸異丁烯酸甲酯共聚物的31.1wt％ Texanol溶液和用作增塑劑的6.09wt％ TMPTA、用作粘性穩(wěn)定劑的0.84wt％丙二酸、3wt％銀粉、16.6wt％氧化鈷以及39.4wt％玻璃粉混合在一起，然后利用陶瓷三輥研磨機(jī)對(duì)其攪拌、捏和然后分散，以制造黑電極組合物。還進(jìn)一步添加Texanol到其中作為稀釋溶劑來控制粘度。
實(shí)施例2包含40wt％異丁烯酸異丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt％ Texanol溶液和7.56wt％氧化鈦粉、用作增塑劑的7.29wt％ TMPTA、用作粘性穩(wěn)定劑的1.0wt％丙二酸、3wt％銀粉、10.4wt％氧化鈷以及42wt％玻璃粉混合在一起，然后利用陶瓷三輥研磨機(jī)對(duì)其攪拌、捏和然后分散，以制造黑電極組合物。還添加Texanol到其中作為稀釋溶劑來控制粘度。
實(shí)施例3
包含40wt％異丁烯酸異丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt％ Texanol溶液和7.56wt％氧化鈦粉、用作增塑劑的7.29wt％ TMPTA、用作粘性穩(wěn)定劑的1.0wt％丙二酸、3wt％金粉、10.4wt％含銅鉻氧化物黑色顏料以及42wt％玻璃粉混合在一起，然后利用陶瓷三輥研磨機(jī)對(duì)其攪拌、捏和然后分散，以制造黑電極組合物。還添加Texanol到其中作為稀釋溶劑來控制粘度。
比較例1包含40wt％異丁烯酸異丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt％ Texanol溶液和7.56wt％氧化鈦粉、用作增塑劑的7.29wt％ TMPTA、用作粘性穩(wěn)定劑的1.0wt％丙二酸、10.4wt％氧化鈷以及42wt％玻璃粉混合在一起，然后利用陶瓷三輥研磨機(jī)對(duì)其攪拌、捏和然后分散，以制造黑電極組合物。還添加Texanol到其中作為稀釋溶劑來控制粘度。
比較例2包含40wt％異丁烯酸異丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt％ Texanol溶液和7.56wt％氧化鈦粉、用作增塑劑的7.29wt％ TMPTA、用作粘性穩(wěn)定劑的1.0wt％丙二酸、10wt％銀粉、10.4wt％含銅鉻氧化物黑色顏料以及42wt％玻璃粉混合在一起，然后利用陶瓷三輥研磨機(jī)對(duì)其攪拌、捏和然后分散，以制造黑電極組合物。還添加Texanol到其中作為稀釋溶劑來控制粘度。
實(shí)施例4利用上述成分制造而成的非光敏黑電極組合物和光敏銀電極組合物結(jié)合。該光敏銀組合物包括具有1.5微米的平均粒度的65wt％球形銀粉、具有400攝氏度的軟化點(diǎn)和1.5微米的平均粒度的3wt％玻璃粉、用作有機(jī)粘結(jié)劑成分的異丁烯酸甲酯共聚物、光敏單體、光聚合引發(fā)劑以及聚合添加劑。
實(shí)施例5為了進(jìn)行評(píng)估，實(shí)施例1到3以及比較例1和2的組合物涂敷到高熔點(diǎn)玻璃板上，其中利用絲網(wǎng)印刷方法將10厘米×10厘米尺寸的透明電極(ITO)涂敷到該高熔點(diǎn)玻璃板上，然后在90攝氏度下在紅外帶式干燥爐中干燥達(dá)10分鐘。利用絲網(wǎng)印刷方法經(jīng)相同步驟將實(shí)施例4的光敏銀電極材料施加到其上，然后干燥。獲得的兩層結(jié)構(gòu)利用鉻光掩模以及利用曝光機(jī)進(jìn)行曝光，其中該鉻光掩模被設(shè)計(jì)成具有120微米的線/空間尺寸，而該曝光機(jī)具有400mJ/cm2的曝光量的高壓汞紫外燈。在曝光之后，利用0.4％Na2CO3水溶液在30攝氏度下進(jìn)行顯影，從而形成圖案。通過考查基于120微米的圖案的形成來評(píng)估這些顯影結(jié)構(gòu)，其中這些顯影結(jié)構(gòu)通過利用實(shí)施例1至3和比較例1和2的組合物制造而成，并且在下面的表1和圖6、7中示出了獲得的結(jié)果。
從表1中可以看到，雖然實(shí)施例1到3的樣本沒有光敏性，但是它們?nèi)匀恍纬闪讼癖容^例的光敏性樣本那樣的陡線。圖6和7是示出形成實(shí)施例2和比較例1中的圖案的示圖。這些結(jié)果顯示，雖然本發(fā)明的黑電極組合物沒有光敏性，也可以在曝光和顯影之后利用該組合物形成電極圖案。
進(jìn)而，在該顯影結(jié)構(gòu)在被控保持在560攝氏度的帶式燒結(jié)爐中進(jìn)行燒結(jié)達(dá)20分鐘之后，利用Minolta有限公司制造的色度計(jì)來測(cè)量上面的銀電極和最下面的透明電極層之間的導(dǎo)電率以及經(jīng)后表面觀測(cè)到的黑度，并且利用裸眼通過后表面可觀測(cè)到黑電極變黃。結(jié)果在下面的表1中示出。從表1中可以看到，實(shí)施例1至3的樣本的導(dǎo)電率和黑度都優(yōu)于比較例1的樣本。同時(shí)，比較例2的樣本的導(dǎo)電率和黑度都優(yōu)于實(shí)施例1至3的樣本，但是因?yàn)楦咩y含量而導(dǎo)致發(fā)黃。
表1

實(shí)施方式提供了一種非光敏性黑電極組合物、一種具有包括該組合物的黑電極的等離子體顯示面板、以及一種制造該面板的方法。利用該非光敏性黑電極組合物形成的等離子體顯示面板的前板的優(yōu)點(diǎn)在于，上部電極和透明電極之間的導(dǎo)電率得以確保，并且獲得理想的低可見度，即使沒有采用昂貴的黑色金屬顆粒作為導(dǎo)電材料。進(jìn)而，由于它不是光敏材料，所以可以采用多種黑色顏料，因此可以低成本制造出等離子體顯示面板，因?yàn)椴牧铣杀镜靡越档汀?br> 雖然為了闡述目的公開了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)理解，可以進(jìn)行多種更改、添附以及替代，而不會(huì)脫離由所附的權(quán)利要求中公開的本發(fā)明的范圍和精神。
權(quán)利要求
1.一種制造等離子體顯示裝置的方法，包括提供基板，可視圖像將顯示在該基板上；在該基板上方提供放電維持電極，該放電維持電極基本上是透明的；在該放電維持電極上方提供用于光阻擋層的第一層，該層基本上沒有包含光敏材料；在該光阻擋層上方提供用于輔助電極的第二層；以及利用光刻法有選擇地蝕刻第二層，從而形成輔助電極；以及有選擇地蝕刻第一層，從而形成光阻擋層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中第一層包括占光阻擋層的總重大約5wt％到大約30wt％的有機(jī)粘結(jié)劑以及含量為大約30wt％到大約50wt％的玻璃粉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中有選擇地蝕刻第一層包括利用輔助電極作為蝕刻掩模來蝕刻第一層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中有選擇地蝕刻第一層是在有選擇地蝕刻第二層曝光出第一層的表面時(shí)進(jìn)行的，并且至少一部分蝕刻第一層的過程和蝕刻第二層同時(shí)進(jìn)行。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中第二層包括光敏材料，而有選擇地蝕刻第二層包括將光掩模置于第二層上方，該光掩模包括多個(gè)圖案化的開口；經(jīng)光掩模的多個(gè)開口投射光線到第二層上，從而第二層的曝光區(qū)中的光敏材料發(fā)生光激活的反應(yīng)；以及將蝕刻劑接觸到第二層，從而該蝕刻劑有選擇地蝕刻第二層以留下輔助電極。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，還進(jìn)一步包括燒結(jié)導(dǎo)電層和光阻擋層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中有選擇地蝕刻第二層包括在第二層上方利用光刻法形成蝕刻掩模；以及將蝕刻劑接觸到第二層，從而該蝕刻劑有選擇地蝕刻第二層以在蝕刻掩模下留下輔助電極。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其中在第二層上方形成蝕刻掩模包括在第二層上方形成光致抗蝕層；將光掩模置于該光致抗蝕層上方，該光掩模包括多個(gè)圖案化開口；經(jīng)光掩模的多個(gè)開口投射光線到該光致抗蝕層上；以及去除該光致抗蝕層的至少一部分，以形成用于有選擇地蝕刻第二層的蝕刻掩模。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中第二層基本上沒有包含光敏材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中輔助電極比放電維持電極的導(dǎo)電率更高。
11.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中該光阻擋層構(gòu)造成基本吸收沿朝向輔助電極的一般方向入射到基板上的環(huán)境光。
12.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中提供第一層和提供第二層包括將預(yù)制膜結(jié)構(gòu)置于放電維持電極上，其中該預(yù)制膜結(jié)構(gòu)包括第一層和第二層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的方法，其中該預(yù)制膜結(jié)構(gòu)還進(jìn)一步包括第二層上方的第三層，其中第三層對(duì)于有選擇地蝕刻第二層的光刻法中所用的光而言是基本透明的。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中該預(yù)制膜結(jié)構(gòu)還進(jìn)一步包括位于第二層和第三層之間的第四層，其中第四層包括光致抗蝕層。
15.一種通過權(quán)利要求1的方法制造而成的等離子體顯示裝置，其中該裝置包括基板、放電維持電極、輔助電極和光阻擋層，其中該光阻擋層插入并電連接到放電維持電極和輔助電極之間，其中光阻擋層基本吸收沿朝向輔助電極的一般方向入射到基板上的環(huán)境光。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的裝置，其中該光阻擋層包括黑色或者基本暗色顏料、導(dǎo)電顆粒以及玻璃粉。
17.一種用于制造用于顯示裝置的光阻擋層的組合物，包括占該組合物總重的大約5wt％到大約30wt％的有機(jī)粘結(jié)劑；占該組合物總重的大約30wt％到大約50wt％的玻璃粉；黑色或者基本暗色顏料；以及導(dǎo)電顆粒，其中該組合物基本上沒有包含光敏材料。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的組合物，其中有機(jī)粘結(jié)劑占該組合物總重的大約5wt％到大約30wt％。
19.根據(jù)權(quán)利要求17的組合物，其中玻璃粉占該組合物總重的大約35wt％到大約50wt％。
20.根據(jù)權(quán)利要求17的組合物，其中還進(jìn)一步包括占該組合物總重的大約0.1wt％到大約10wt％的增塑劑。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種非光敏性黑電極組合物和一種具有利用該組合物形成的黑電極的等離子體顯示面板。用于該等離子體顯示面板的黑電極包括非光敏性組合物，因此在電極上不會(huì)出現(xiàn)發(fā)黃的現(xiàn)象，但是透明電極層的導(dǎo)電率得以理想地確保，即使使用典型的導(dǎo)電粉末和多種黑色顏料?？梢岳霉饪谭ㄟ^程來進(jìn)行圖案化，因?yàn)閷?duì)黑電極和輔助電極同時(shí)進(jìn)行顯影，它們能夠用作電極，因?yàn)橥瑫r(shí)進(jìn)行燒結(jié)。由于它是非光敏性的，所以可以使用多種黑色顏料，因此材料成本得以降低。
文檔編號(hào)H01J11/12GK1921053SQ20061008335
公開日2007年2月28日 申請(qǐng)日期2006年6月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月26日
發(fā)明者沈在俊, 金永錫, 岡本珍范 申請(qǐng)人:第一毛織株式會(huì)社