一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型設(shè)及一種濾光片，尤其地設(shè)及一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾 光片。
【背景技術(shù)】
[0002] 在如今光學(xué)飛速發(fā)展的時(shí)代，光學(xué)薄膜也越來(lái)越成熟，突飛猛進(jìn)的發(fā)展，光學(xué)薄膜 是現(xiàn)代光學(xué)的一個(gè)重要分支，同時(shí)也是現(xiàn)代光學(xué)儀器和各種光學(xué)器件的重要組成部分。它 通過(guò)在光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、光纖、晶體等各種材料的表面鍛制一層或多層介質(zhì)薄膜，基于 薄膜內(nèi)光的干設(shè)效應(yīng)來(lái)改變透射光或反射光的光強(qiáng)、偏振狀態(tài)和相位變化。光學(xué)薄膜具有 出色的牢固性和光學(xué)穩(wěn)定性，成本相對(duì)比較低，因此光學(xué)薄膜是目前改變系統(tǒng)光學(xué)參數(shù)分 布的首選方法。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 本實(shí)用新型為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，目的旨在提供一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850 納米窄帶濾光片，其能夠解決目前生物醫(yī)療窄帶濾光片存在的通帶透過(guò)率高和截止區(qū)透過(guò) 率低的問(wèn)題，并且其在波長(zhǎng)為850納米處具有良好的透過(guò)率。
[0004] 為了解決上述的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提出的基本技術(shù)方案為： 陽(yáng)0化]一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片，其中包括玻璃基底和鍛制于玻璃基 底上的薄膜層，所述薄膜層包括Ξ個(gè)腔，第一腔由HLHL肥LHLHLHL的12層高折射率材料和 低折射率材料交替疊加組成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率 材料交替疊加組成的，第Ξ腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材料交替 疊加組成的，第一腔、第二腔W及第Ξ腔依此順序疊加構(gòu)成薄膜層。
[0006] 進(jìn)一步，所述局折射率材料義用五氧化二鐵多晶體，折射率為2. 35。
[0007] 進(jìn)一步，所述低折射率材料采用二氧化娃多晶體，折射率為1. 46。
[0008] 進(jìn)一步，所述玻璃基底為有色玻璃皿800。
[0009] 本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型的850納米窄帶濾光片的薄膜層采用Ξ個(gè) 腔，S個(gè)腔中薄膜組成結(jié)構(gòu)GIHLHL肥LHLHLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL肥LHLHLHLIA，并且采用 折射率為2. 35的五氧化Ξ鐵多晶體的高折射率材料，折射率為1. 46的二氧化娃多晶體的 低折射率材料，玻璃基底為有色玻璃皿800,因此，其能夠在波長(zhǎng)為850納米處具有良好的 透過(guò)率。
【附圖說(shuō)明】
[0010] 圖1為本實(shí)施例850納米窄帶濾光片的薄膜層的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011] 圖2為本實(shí)施例850納米窄帶濾光片的Ξ個(gè)腔設(shè)計(jì)原理曲線圖。
[0012] 圖3為本實(shí)施例850納米窄帶濾光片的光譜曲線圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]W下將結(jié)合附圖1、2和3對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明，但不應(yīng)W此來(lái)限制本實(shí) 用新型的保護(hù)范圍。為了方便說(shuō)明并且理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，W下說(shuō)明所使用的方 位詞均W附圖所展示的方位為準(zhǔn)。
[0014] 如圖1所示，本實(shí)施例的850納米窄帶濾光片包括玻璃基底和鍛制于玻璃基底上 的薄膜層，所述薄膜層包括Ξ個(gè)腔，第一腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率材料和低折 射率材料交替疊加組成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材料 交替疊加組成的，第Ξ腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材料交替疊加 組成的，第一腔、第二腔W及第Ξ腔依此順序疊加構(gòu)成薄膜層。各種多晶材料的光學(xué)屬性如 表一所示。其中，高折射率材料采用五氧化Ξ鐵多晶體，折射率為2. 35,低折射率材料采用 二氧化娃多晶體，折射率為1. 46,玻璃基底為有色玻璃皿800。如圖2所示，本實(shí)施例根據(jù) 圖2所示的設(shè)計(jì)曲線圖來(lái)設(shè)計(jì)薄膜層。
[0015]表一
[0016]
陽(yáng)017] 為了測(cè)試制成的850納米窄帶濾光片效果，本實(shí)施例采用上海元析UV-5200PC紫 外可見(jiàn)分光光度計(jì)進(jìn)行測(cè)量，其中紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)的測(cè)量范圍為190nm-1100nm。測(cè)試 結(jié)果如如圖3所示。由于本實(shí)施例的850納米窄帶濾光片的薄膜層采用Ξ個(gè)腔，而且Ξ個(gè) 腔中薄膜組成結(jié)構(gòu)GIHLHL肥LHLHLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL肥LHLHLHLIA，并且采用折射率 為2. 35的五氧化Ξ鐵多晶體的高折射率材料，折射率為1. 46的二氧化娃多晶體的低折射 率材料，玻璃基底為有色玻璃皿800,因此，其能夠在波長(zhǎng)為850納米處具有良好的透過(guò)率。
[0018] 本實(shí)施例采用箱式真空熱蒸發(fā)設(shè)備將薄膜層鍛制在玻璃基底上，尤其地，本實(shí)施 例采用成都威特南光箱式1100熱蒸發(fā)設(shè)備。
[0019] 薄膜層制備過(guò)程如下：
[0020] S1 :基片的清洗。對(duì)于剛剛拋光的零件，用超聲波清洗過(guò)后在裝有聚光鏡的60w檢 驗(yàn)燈下檢測(cè)，一般用哈氣法。對(duì)在大氣中暴露時(shí)間過(guò)長(zhǎng)的試件，由于表面生成了霉斑，采用 一般的清洗方法不易擦去，必須用高級(jí)脫脂棉粘化C03粉末或者氧化姉粉末進(jìn)行擦拭基片 表面，進(jìn)行手動(dòng)拋光，之后用清水沖洗，再用超聲波進(jìn)行清洗，最后在裝有聚光鏡的60w檢 驗(yàn)燈下檢測(cè)，并用哈氣法檢查。
[0021] S2:蒸鍛過(guò)程。根據(jù)鍛膜及其性能可實(shí)現(xiàn)手動(dòng)操作和自動(dòng)操作兩種模式。手動(dòng)操 作規(guī)程如下：
[0022] 1、開(kāi)機(jī)預(yù)熱；
[0023] ①.開(kāi)冷卻循環(huán)水，在開(kāi)空氣壓縮機(jī)，最后開(kāi)電源。
[0024] ②.開(kāi)機(jī)械累啟動(dòng)按鈕對(duì)擴(kuò)散累進(jìn)行抽氣5分鐘，之后開(kāi)擴(kuò)散累按鈕進(jìn)行預(yù)熱 (預(yù)熱溫度達(dá)到機(jī)器設(shè)定溫度即可）。
[0025] 2、添加膜料，安裝工件傘；
[00%] ①.開(kāi)放氣閥，對(duì)真空室充入大氣，待真空室的口打開(kāi)之后，關(guān)閉放氣閥。
[0027] ②.打掃真空室，安裝或檢查蒸發(fā)源，填裝膜料。
[0028] ③.打開(kāi)膜厚控制系統(tǒng)，并檢查是否正常。裝待鍛的光學(xué)基片，之后安裝修正擋 板，按下工件轉(zhuǎn)動(dòng)按鈕，調(diào)工件轉(zhuǎn)速，關(guān)閉真空室。 陽(yáng)0巧]3、抽真空；
[0030] ①.開(kāi)機(jī)械累一開(kāi)旁通閥一開(kāi)低閥一開(kāi)真空計(jì)，開(kāi)始抽低真空。
[0031] ②.真空度達(dá)到1000化時(shí)，開(kāi)羅茨累。
[0032] ③.真空度達(dá)到3化時(shí)關(guān)低閥一開(kāi)預(yù)閥一開(kāi)高閥一開(kāi)烘烤一開(kāi)工轉(zhuǎn)，開(kāi)始抽高真 空。 陽(yáng)〇3引4、預(yù)熱，蒸鍛；
[0034] ①.當(dāng)真度達(dá)到5。0X10-3化時(shí)，預(yù)烙材料。預(yù)烙時(shí)（手動(dòng)），電流不能瞬間加的 很大，要逐漸增加束流，預(yù)烙時(shí)間長(zhǎng)短W膜料放氣量為基準(zhǔn)。 陽(yáng)03引②.預(yù)烙完畢，從SQC-310中調(diào)出程序，當(dāng)真空度達(dá)到3。0X10-3化左右時(shí)，把電 子槍的控制選在自動(dòng)，開(kāi)高壓，調(diào)節(jié)工件轉(zhuǎn)速為高速，調(diào)節(jié)充選晶控，然后按下SQC-310上 的開(kāi)始鍵，開(kāi)始蒸鍛。觀察膜厚控制儀SQC-310的數(shù)值看是否正常。
[0036] 5、取出工件；
[0037] ①.當(dāng)鍛制完成時(shí)，關(guān)電子槍一烘烤一高閥一開(kāi)機(jī)械累一關(guān)羅茨累。
[0038] ②.視真空室的冷卻情況，開(kāi)放氣閥，打開(kāi)真空室。按下工件轉(zhuǎn)動(dòng)按鈕，關(guān)閉放氣 閥，取出已經(jīng)鍛好的光學(xué)產(chǎn)品。
[0039] 根據(jù)上述說(shuō)明書(shū)的掲示和教導(dǎo)，本實(shí)用新型所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還可W對(duì)上述實(shí) 施方式進(jìn)行變更和修改。因此，本實(shí)用新型并不局限于上面掲示和描述的【具體實(shí)施方式】，對(duì) 本實(shí)用新型的一些修改和變更也應(yīng)當(dāng)落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。此外，盡 管本說(shuō)明書(shū)中使用了一些特定的術(shù)語(yǔ)，但運(yùn)些術(shù)語(yǔ)只是為了方便說(shuō)明，并不對(duì)本實(shí)用新型 構(gòu)成任何限制。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片，其特征在于：包括玻璃基底和鍍制于 玻璃基底上的薄膜層，所述薄膜層包括三個(gè)腔，第一腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率 材料和低折射率材料交替疊加組成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12層高折射率材料和低 折射率材料交替疊加組成的，第三腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材 料交替疊加組成的，第一腔、第二腔以及第三腔依此順序疊加構(gòu)成薄膜層。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片，其特征在于： 所述高折射率材料采用五氧化三鈦多晶體，折射率為2. 35。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片，其特征在于： 所述低折射率材料采用二氧化硅多晶體，折射率為1. 46。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片，其特征在于： 所述玻璃基底為有色玻璃HB800。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種濾光片，尤其地涉及一種應(yīng)用于生物醫(yī)療的850納米窄帶濾光片。其包括玻璃基底和鍍制于玻璃基底上的薄膜層，所述薄膜層包括三個(gè)腔，第一腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材料交替疊加組成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材料交替疊加組成的，第三腔由HLHLH2LHLHLHL的12層高折射率材料和低折射率材料交替疊加組成的，第一腔、第二腔以及第三腔依此順序疊加構(gòu)成薄膜層。采用此結(jié)構(gòu)的窄帶濾光片，其能夠解決目前生物醫(yī)療窄帶濾光片存在的通帶透過(guò)率高和截止區(qū)透過(guò)率低的問(wèn)題，并且其在波長(zhǎng)為850納米處具有良好的透過(guò)率。
【IPC分類(lèi)】G02B5/20
【公開(kāi)號(hào)】CN205003312
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520654104
【發(fā)明人】林新佺
【申請(qǐng)人】深圳市激埃特光電有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月27日
【申請(qǐng)日】2015年8月27日