一種具有電磁屏蔽功能的擴散增亮膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及光學部件的制備工藝，尤其涉及一種具有電磁屏蔽功能的擴散增 亮膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 由于具有低能耗、顯色性好、重量輕以及環(huán)保節(jié)能等優(yōu)點，液晶顯示器已經(jīng)成為目 前市場上主流的顯示器，而液晶材料本身不發(fā)光，為了使得液晶顯示器能正常顯示，一般來 說需要在液晶面板背部放置一個背光模組為液晶面板提供照明的光源，背光模組主要由光 源、反射膜、導光板、下擴散膜、下增亮膜、上增亮膜和上擴散膜等組成，其中光學膜組為其 核心組件。
[0003] 隨著液晶顯示器輕薄化的要求越來越高，人們希望能減少光學膜組的厚度，然而 目前市場上使用的仍是擴散膜加增亮膜的組合，而且擴散膜和增亮膜各有兩張，這非常不 利于液晶顯示器的輕薄化；另外，目前使用電子產(chǎn)品人越來越多，并且使用的時間也越來越 長，電磁輻射對人體的影響不再可以簡單忽略，如何降低液晶顯示的電磁輻射對人體的影 響也是目前液晶設(shè)計應(yīng)考慮的問題，然而目前針對液晶顯示的電磁屏蔽應(yīng)用仍在少數(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點和不足，提供一種具有電磁屏蔽 功能的擴散增亮膜。本實用新型采用涂布工藝將棱錐結(jié)構(gòu)層、電磁屏蔽層和擴散層集中于 同一張薄膜上，使其同時具有增亮、擴散、熒光以及電磁屏蔽的功能，使得背光模組產(chǎn)品在 輕薄化的同時具有電磁屏蔽功能。
[0005] 本實用新型通過下述技術(shù)方案實現(xiàn)：
[0006] -種具有電磁屏蔽功能的擴散增亮膜，包括透明基帶11，所述透明基帶11的其中 一個光學面上具有棱錐結(jié)構(gòu)層10,另一個光學面上設(shè)有電磁屏蔽層12,在電磁屏蔽層12的 表面設(shè)有擴散層13。
[0007] 所述電磁屏蔽層12為納米銀線涂層120,納米銀線涂層120中的數(shù)條銀線相互連 接交織在一起，并構(gòu)成交叉的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
[0008] 所述棱錐結(jié)構(gòu)層10由多個等距設(shè)置的棱鏡單體組成的棱鏡陣列構(gòu)成。
[0009] 所述擴散層13的整個表面分布有不規(guī)則凹凸結(jié)構(gòu)，當光線入時，該不規(guī)凹凸結(jié)構(gòu) 會使光線發(fā)生散射，使光線擴散。
[0010] 所述各棱鏡單體的橫截面呈等腰三角形，其頂角角度為90°直角或者圓弧角。
[0011] 每根納米銀線的直徑為30~50nm、長度為30~50 μ m。
[0012] 上述具有電磁屏蔽功能的擴散增亮膜的制備方法如下：
[0013] 步驟（1):納米銀線涂層的制備
[0014] 取厚度為50 μπι的透明基帶11，經(jīng)過放料輯30放卷后，牽引透明基帶11的端頭穿 過烘箱后，連接至收料輥34上，
[0015] 狹縫式涂布裝置3的狹縫式模具上膠頭312置于透明基帶11光學面上方，膠桶內(nèi) 盛裝混合有納米銀線的膠水；啟動狹縫式涂布裝置3,縫式模具上膠頭312開始涂布，涂布 完成的透明基帶11由收料輥34牽引進入烘箱，經(jīng)干燥后得到具有納米銀線涂層的光學膜 33,最后經(jīng)收料輥34收卷；
[0016] 步驟⑵：擴散層的制備
[0017] 將步驟（1)得到的具有納米銀線涂層的光學膜33,裝配到結(jié)構(gòu)成型裝置4上，將結(jié) 構(gòu)輥411更換為表面分布有不規(guī)則凹凸結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)輥；啟動結(jié)構(gòu)成型裝置4 ;滴膠式上膠系 統(tǒng)40在納米銀線涂層上繼續(xù)上膠，即在納米銀線涂層上涂覆UV膠水層，接著光學膜33被 牽引至結(jié)結(jié)構(gòu)輥411，由結(jié)構(gòu)輥411表面分布的不規(guī)則凹凸結(jié)構(gòu)對UV膠水層進行滾壓成型， 在滾壓的同時，設(shè)置在結(jié)構(gòu)輥411下方的UV光源對UV膠水進行交聯(lián)固化，得到在納米銀線 涂層上的具有不規(guī)則凹凸結(jié)構(gòu)的擴散層13 ;
[0018] 步驟⑶：棱錐結(jié)構(gòu)層的制備
[0019] 將步驟（2)得到具有納米銀線涂層和不規(guī)則凹凸結(jié)構(gòu)擴散層的光學膜33,裝配到 結(jié)構(gòu)成型裝置4上，將結(jié)構(gòu)輥411更換為表面分布有棱錐結(jié)構(gòu)陣列的結(jié)構(gòu)輥；啟動結(jié)構(gòu)成型 裝置4 ;滴膠式上膠系統(tǒng)40在透明基帶11另一空白光學面上繼續(xù)上膠，接著光學膜33被 牽引至結(jié)結(jié)構(gòu)輥411，由結(jié)構(gòu)輥411表面分布的棱錐結(jié)構(gòu)陣列對UV膠水層進行滾壓成型，在 滾壓的同時，設(shè)置在結(jié)構(gòu)輥411下方的UV光源對UV膠水進行交聯(lián)固化，得到在具有棱錐結(jié) 構(gòu)層10、電磁屏蔽層12和擴散層13的擴散增亮膜1。
[0020] 本實用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)，具有如下的優(yōu)點及效果：
[0021] 本實用新型將棱錐結(jié)構(gòu)層、電磁屏蔽層和擴散層通過涂布、壓印工藝，集中于同一 張透明基帶上，使其同時具有增亮、擴散、熒光以及電磁屏蔽的功能，使得背光模組產(chǎn)品在 輕薄化的同時具有電磁屏蔽功能。
[0022] 本實用新型的電磁屏蔽層采用納米銀線與膠水混合，納米銀線相互連接交織在一 起，并構(gòu)成交叉的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，形成電磁屏蔽層，大大簡化了制備工藝，而且銀的導電率極高， 因此其電磁屏蔽功能十分優(yōu)越，另外由于其高導電率的緣故，因此可以將屏蔽層做得極薄。
[0023] 將本實用新型擴散增亮膜應(yīng)用于現(xiàn)有的側(cè)入式背光模組或者直下式背光模組中， 即可以取代背光模組中上增亮膜和上擴散膜的使用，并且提供電磁屏蔽功能。
[0024] 本實用新型采用現(xiàn)有設(shè)備進行工藝制備，具有設(shè)備簡單，對環(huán)境要求低，操作簡 便，能極大地提高生產(chǎn)效率和降低生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0025] 圖1為本實用新型具有電磁屏蔽功能的擴散增亮膜結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026] 圖2為圖1中的電磁屏蔽層結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027] 圖3為采用現(xiàn)有狹縫式涂布裝置制備納米銀線涂層的工藝流程圖。
[0028] 圖4為采用現(xiàn)有結(jié)構(gòu)成型裝置制備擴散層、棱錐結(jié)構(gòu)層的工藝流程圖。
[0029] 圖5為本實用新型具有電磁屏蔽功能的擴散增亮膜的另一結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0030] 下面結(jié)合具體實施例對本實用新型作進一步具體詳細描述。
[0031] 實施例
[0032] 如圖1至5所示。本實用新型一種具有電磁屏蔽功能的擴散增亮膜，包括透明基 帶11 (為PET膜，其厚度dl為38 μπι~50 μπι)，所述透明基帶11的其中一個光學面上具 有棱錐結(jié)構(gòu)層10,另一個光學面上設(shè)有電磁屏蔽層12,在電磁屏蔽層12的表面設(shè)有擴散層 13 (厚度 d0 為 5μηι ~8μηι)。
[0033] 所述電磁屏蔽層12為納米銀線涂層120,納米銀線涂層120中的數(shù)條銀線相互連 接交織在一起，并構(gòu)成交叉的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。每根納米銀線的直徑為30~50nm、長度為30~ 50 μπι。交叉的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)是二維隨機網(wǎng)絡(luò)交叉結(jié)構(gòu)，銀線之間的連接為自然接觸交叉連接， 當電磁波在傳播過程中遇到電磁屏蔽層時，電磁波會受到電磁屏蔽層的反射、吸收從而發(fā) 生損耗，進而使得電磁波不能通過被屏蔽區(qū)域，或者使得被屏蔽區(qū)域的電磁波無法向外傳 播。電磁屏蔽層的電磁屏蔽包括屏蔽體表面的反射損耗，屏蔽材料的吸收損耗和屏蔽體內(nèi) 部的多次反射損耗。為了描述和定量分析屏蔽體的屏蔽效果，通常采用屏蔽效能SE表示屏 蔽體對電磁干擾的屏蔽能力和效果，屏蔽效能是屏蔽材料對電磁信號的衰減值，其單位用 分貝（dB)表示。屏蔽效能SE可用如下方程式表示：
[0034] SE = SEr+SEa+SEb
[0035] SEr+屏蔽體表面的單次反