沿c軸傳輸光束的氟化物全反射晶體的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)元件，具體地說是一種具有特殊形狀的氟化物晶體。
【背景技術(shù)】
[0002]在進(jìn)行氣體、液體光譜分析時，需要使光束經(jīng)過全反射晶體反射，使其可以兩次穿越被測氣體或液體?，F(xiàn)有的氟化物全反射晶體由于沒有對C軸精確定向，光束的傳播性質(zhì)會由于雙折射現(xiàn)象的存在而發(fā)射改變，進(jìn)而影響光譜分析性能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種特殊形狀的氟化物全反射晶體，使入射光與反射光均沿晶體C軸方向傳輸，從而有效降低晶體雙折射現(xiàn)象對光束傳輸特性造成的影響。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:沿C軸傳輸光束的氟化物全反射晶體，包括一圓柱晶體，所述圓柱晶體的底面拋光，所述圓柱晶體的頂端設(shè)置有兩個相互垂直的側(cè)拋光面，兩側(cè)拋光面之間還設(shè)置有一個條形的頂拋光面，用于晶體定位，所述頂拋光面的寬度為圓柱晶體半徑的五分之一，兩個側(cè)拋光面對稱分布在圓柱晶體軸線兩偵牝與圓柱形晶體母線的夾角均為135°。
[0005]本實(shí)用新型的有益效果在于:本實(shí)用新型可以使入射光束與出射光束光軸嚴(yán)格平行，并與晶體的C軸方向一致，從而消除了晶體雙折射現(xiàn)象對光束傳輸特性的影響。
【附圖說明】
[0006]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0007]圖1為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖2為本實(shí)用新型的正視圖。
[0009]圖3為本實(shí)用新型的俯視圖。
[0010]圖中:1 一圓柱晶體；2—左側(cè)拋光面；3—頂拋光面；4一右側(cè)拋光面；5—底拋光面；6—入射光軸；7—反射光軸；8 — α角；9一C軸。
【具體實(shí)施方式】
[0011]如圖1至3所示的沿C軸傳輸光束的氟化物全反射晶體，包括一圓柱晶體1，高30mm ;所述圓柱晶體I的底面拋光，即圖中的底拋光面5，其半徑為30mm，光潔度優(yōu)于60/40 ;所述圓柱晶體I的頂端設(shè)置有兩個相互垂直的拋光面，即圖中左側(cè)拋光面2和右側(cè)拋光面4 ;在左右側(cè)拋光面之間還設(shè)置有一個條形的頂拋光面3，光潔度優(yōu)于60/40，用于晶體定位，所述頂拋光面3的寬度為6_，即圓柱晶體I半徑的五分之一；所述左側(cè)拋光面與右側(cè)拋光面對稱分布在圓柱晶體I軸線兩側(cè)，與圓柱形晶體母線的夾角為135°，即α角8等于135。ο
[0012]工作原理如下:通過預(yù)留的頂拋光面3精確定位，可以使光線平行晶體C軸9入射。將入射光軸6從圓柱晶體I的底拋光面5入射，經(jīng)過左側(cè)拋光面2和右側(cè)拋光面4 二次反射后，反射光軸7最終由底拋光面5出射。則入射光線、反射光線均與晶體C軸9平行，晶體的雙折射現(xiàn)象不會對光束的傳輸特性造成影響。
[0013]以上公開的僅為本專利的具體實(shí)施例，但本專利并非局限于此，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，做出的變形應(yīng)視為屬于本實(shí)用新型保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.沿C軸傳輸光束的氟化物全反射晶體，其特征在于:包括一圓柱晶體，所述圓柱晶體的底面拋光，所述圓柱晶體的頂端設(shè)置有兩個相互垂直的側(cè)拋光面，兩側(cè)拋光面之間還設(shè)置有一個條形的頂拋光面，用于晶體定位，所述頂拋光面的寬度為圓柱晶體半徑的五分之一，兩個側(cè)拋光面對稱分布在圓柱晶體軸線兩側(cè)，與圓柱形晶體母線的夾角均為135°。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沿C軸傳輸光束的氟化物全反射晶體，其特征在于:所述圓柱晶體的底面半徑為30mm，高為30mm，所述條形的頂拋光面的寬度為6mm。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種沿C軸傳輸光束的氟化物全反射晶體，包括一圓柱晶體，所述圓柱晶體的底面拋光，所述圓柱晶體的頂端設(shè)置有兩個相互垂直的側(cè)拋光面，兩側(cè)拋光面之間還設(shè)置有一個條形的頂拋光面，用于晶體定位，所述頂拋光面的寬度為圓柱晶體半徑的五分之一，兩個側(cè)拋光面對稱分布在圓柱晶體軸線兩側(cè)，與圓柱形晶體母線的夾角均為135°，本實(shí)用新型可以使入射光束與出射光束光軸嚴(yán)格平行，并與晶體的C軸方向一致，從而消除了晶體雙折射現(xiàn)象對光束傳輸特性的影響。
【IPC分類】G02B5/02, G02B5/08
【公開號】CN204705733
【申請?zhí)枴緾N201520414187
【發(fā)明人】郭宗海, 韓琦琦
【申請人】秦皇島本征晶體科技有限公司
【公開日】2015年10月14日
【申請日】2015年6月16日