用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法和光學(xué)鄰近修正方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法和光學(xué)鄰近修正方法。所述用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法包括：創(chuàng)建預(yù)定大小的柵格；對(duì)組成所述柵格的一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格進(jìn)行預(yù)定義；計(jì)算經(jīng)預(yù)定義的所述柵格內(nèi)的所有測(cè)試圖形；在所述所有測(cè)試圖形中篩選出不違反設(shè)計(jì)規(guī)則的測(cè)試圖形；以及將篩選出的測(cè)試圖形與原有測(cè)試圖形庫(kù)進(jìn)行比對(duì)，確定所述原有測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率。本發(fā)明所提供的用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法可以得到測(cè)試圖形庫(kù)的幾何覆蓋能力，為光學(xué)鄰近修正后續(xù)的精準(zhǔn)修正提供基礎(chǔ)。
【專利說明】
用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法和光學(xué)鄰近修正方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，具體而言涉及一種用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法和光學(xué)鄰近修正(Optical Proximity Correct1n, 0PC)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著集成電路的復(fù)雜度越來越高，特征尺寸也變的越來越小。當(dāng)集成電路的特征尺寸接近光刻機(jī)曝光的系統(tǒng)極限，即特征尺寸接近或小于光刻光源時(shí)，硅片上制造出的版圖會(huì)出現(xiàn)明顯的畸變，該現(xiàn)象稱為光學(xué)鄰近效應(yīng)。為了應(yīng)對(duì)光學(xué)鄰近效應(yīng)，提出了分辨率增強(qiáng)技術(shù)。其中，光學(xué)鄰近修正(即0PC)已成為最重要的技術(shù)。
[0003]OPC主要是對(duì)半導(dǎo)體某一特定層形成修正圖案進(jìn)行修正，即將欲曝光在晶片的半導(dǎo)體基底上的原始圖案，利用計(jì)算機(jī)和套裝軟件運(yùn)算加以計(jì)算修正，得到與原始圖案不同的結(jié)果圖形，再將此結(jié)果圖形輸入計(jì)算機(jī)存檔。根據(jù)OPC所得到的結(jié)果圖形制作于光罩上，光束透過此光罩投影在半導(dǎo)體基底上的圖案可與原始圖案幾乎相同。
[0004]然而，隨著設(shè)計(jì)版圖越來越復(fù)雜，測(cè)試圖形的設(shè)計(jì)也變得繁瑣，如何高效設(shè)計(jì)能夠完全覆蓋設(shè)計(jì)版圖的測(cè)試圖形庫(kù)成為問題。設(shè)計(jì)包括大量測(cè)試圖形的庫(kù)將浪費(fèi)開發(fā)者大量的時(shí)間，而設(shè)計(jì)的測(cè)試圖形庫(kù)覆蓋不全將導(dǎo)致新的下線(tape-out)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法，所述方法包括:創(chuàng)建預(yù)定大小的柵格；對(duì)組成所述柵格的一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格進(jìn)行預(yù)定義；計(jì)算經(jīng)預(yù)定義的所述柵格內(nèi)的所有測(cè)試圖形；在所述所有測(cè)試圖形中篩選出不違反設(shè)計(jì)規(guī)則的測(cè)試圖形；以及將篩選出的測(cè)試圖形與原有測(cè)試圖形庫(kù)進(jìn)行比對(duì)，確定所述原有測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率。
[0006]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述柵格包括NXN網(wǎng)格陣列，其中N為正整數(shù)。
[0007]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述柵格包括5 X 5網(wǎng)格陣列。
[0008]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)定義進(jìn)一步包括:將所述一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格預(yù)定義為O或1，其中O表示所述網(wǎng)格處為空，I表示所述網(wǎng)格處存在圖形。
[0009]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)定義包括對(duì)所述柵格的最中央網(wǎng)格單元進(jìn)行預(yù)定義。
[0010]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述所有測(cè)試圖形的計(jì)算基于計(jì)算機(jī)編程方法。
[0011 ] 在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述計(jì)算機(jī)編程方法包括MATLAB的蒙特卡洛算法。
[0012]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述比對(duì)包括運(yùn)行圖案匹配。
[0013]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述圖案匹配允許模糊匹配。
[0014]本發(fā)明還提供一種用于光學(xué)鄰近修正的方法，所述方法包括在進(jìn)行上述任一項(xiàng)用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法的步驟后，將所述篩選出的測(cè)試圖形中未包括在所述原有測(cè)試圖形庫(kù)中的測(cè)試圖形添加到所述原有測(cè)試圖形庫(kù)中，以形成新的測(cè)試圖形庫(kù)用于光學(xué)鄰近修正。
[0015]本發(fā)明所提供的用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法可以得到測(cè)試圖形庫(kù)的幾何覆蓋能力，為光學(xué)鄰近修正后續(xù)的精準(zhǔn)修正提供基礎(chǔ)。
【附圖說明】
[0016]本發(fā)明的下列附圖在此作為本發(fā)明的一部分用于理解本發(fā)明。附圖中示出了本發(fā)明的實(shí)施例及其描述，用來解釋本發(fā)明的原理。
[0017]附圖中:
[0018]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法的流程圖；
[0019]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例創(chuàng)建的柵格的示例；以及
[0020]圖3a和圖3b示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例計(jì)算出的測(cè)試圖形的示例。
【具體實(shí)施方式】
[0021]在下文的描述中，給出了大量具體的細(xì)節(jié)以便提供對(duì)本發(fā)明更為徹底的理解。然而，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯而易見的是，本發(fā)明可以無(wú)需一個(gè)或多個(gè)這些細(xì)節(jié)而得以實(shí)施。在其他的例子中，為了避免與本發(fā)明發(fā)生混淆，對(duì)于本領(lǐng)域公知的一些技術(shù)特征未進(jìn)行描述。
[0022]應(yīng)當(dāng)理解的是，本發(fā)明能夠以不同形式實(shí)施，而不應(yīng)當(dāng)解釋為局限于這里提出的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例將使公開徹底和完全，并且將本發(fā)明的范圍完全地傳遞給本領(lǐng)域技術(shù)人員。
[0023]在此使用的術(shù)語(yǔ)的目的僅在于描述具體實(shí)施例并且不作為本發(fā)明的限制。在此使用時(shí)，單數(shù)形式的“一”、“一個(gè)”和“所述/該”也意圖包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚指出另外的方式。還應(yīng)明白術(shù)語(yǔ)“組成”和/或“包括”，當(dāng)在該說明書中使用時(shí)，確定所述特征、整數(shù)、步驟、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一個(gè)或更多其它的特征、整數(shù)、步驟、操作、元件、部件和/或組的存在或添加。在此使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)“和/或”包括相關(guān)所列項(xiàng)目的任何及所有組合。
[0024]為了徹底理解本發(fā)明，將在下列的描述中提出詳細(xì)的步驟以及詳細(xì)的結(jié)構(gòu)，以便闡釋本發(fā)明提出的技術(shù)方案。本發(fā)明的較佳實(shí)施例詳細(xì)描述如下，然而除了這些詳細(xì)描述夕卜，本發(fā)明還可以具有其他實(shí)施方式。
[0025]OPC已經(jīng)成為集成電路制造工藝中關(guān)鍵尺寸控制和良率提升不可缺少的途徑。通過修改設(shè)計(jì)圖形來預(yù)補(bǔ)償制程偏差以提高圖像的還原能力和解析度。
[0026]然而，隨著設(shè)計(jì)版圖越來越復(fù)雜，測(cè)試圖形的設(shè)計(jì)也變得繁瑣，復(fù)雜的幾何新設(shè)計(jì)為OPC過程制造了很多問題。許多人學(xué)習(xí)如何集中設(shè)計(jì)測(cè)試圖形。但是如何綜合并且有效設(shè)計(jì)以完全覆蓋設(shè)計(jì)版圖的幾何圖案是一個(gè)問題。太多的副本測(cè)試圖形將浪費(fèi)開發(fā)者的時(shí)間，而缺乏副本測(cè)試圖形將導(dǎo)致新的下線問題。
[0027]現(xiàn)有的商業(yè)標(biāo)準(zhǔn)方式是基于某區(qū)域的有限幾何匹配信息使用圖案匹配方法將測(cè)試圖形分組以區(qū)分圖形ID，但是該方法僅能得到?jīng)]有重復(fù)圖形的圖形ID的庫(kù)，而無(wú)法得知錯(cuò)失(miss) 了多少圖形ID。
[0028]本發(fā)明提供一種用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法。圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法100的流程圖。如圖1所示，方法100包括以下步驟:
[0029]步驟101:創(chuàng)建預(yù)定大小的柵格；
[0030]步驟102:對(duì)組成柵格的一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格進(jìn)行預(yù)定義；
[0031]步驟103:計(jì)算經(jīng)預(yù)定義的柵格內(nèi)的所有測(cè)試圖形；
[0032]步驟104:在所有測(cè)試圖形中篩選出不違反設(shè)計(jì)規(guī)則的測(cè)試圖形；
[0033]步驟105:將篩選出的測(cè)試圖形與原有測(cè)試圖形庫(kù)進(jìn)行比對(duì)，確定原有測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率。
[0034]其中，在步驟101中，所創(chuàng)建的柵格可以是NXN網(wǎng)格陣列，其中N為正整數(shù)。其中，每個(gè)網(wǎng)格單元的大小可以為設(shè)計(jì)規(guī)則規(guī)定的最小尺寸。圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例創(chuàng)建的柵格200的示例。在圖2中，N取正整數(shù)5，即所創(chuàng)建的柵格200為5 X 5網(wǎng)格陣列。
[0035]在步驟102中，可以對(duì)柵格200中包括的一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格進(jìn)行預(yù)定義。其中，預(yù)定義可以進(jìn)一步包括:將柵格200中包括的一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格預(yù)定義為O或1，其中O表示網(wǎng)格處為空，I表示網(wǎng)格處存在圖形。進(jìn)一步地，預(yù)定義可以包括對(duì)柵格200的最中央網(wǎng)格單元進(jìn)行預(yù)定義。例如，將柵格200的最中央網(wǎng)格單元201預(yù)定義為O或1，即設(shè)定柵格200的最中央網(wǎng)格單元201為空或者存在圖形。
[0036]在步驟103中，可以采用計(jì)算機(jī)編程方法來窮舉經(jīng)預(yù)定義的柵格內(nèi)的所有測(cè)試圖形，例如采用MATLAB中的蒙特卡洛(Monto Carlo)算法來計(jì)算柵格200最中央網(wǎng)格單元201為O或I時(shí)的所有測(cè)試圖形。圖3a和圖3b示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例計(jì)算出的測(cè)試圖形的示例。其中，圖3a示出了當(dāng)柵格200的最中央網(wǎng)格單元201為I時(shí)所計(jì)算出的測(cè)試圖形的示例；圖3b示出了當(dāng)柵格200的最中央網(wǎng)格單元201為O時(shí)所計(jì)算出的測(cè)試圖形的示例。
[0037]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解看，圖3a和圖3b所示出的僅是測(cè)試圖形的示例，為了簡(jiǎn)明，并未示出所有測(cè)試圖形。此外，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員也可以理解，在步驟101中，可以創(chuàng)建任意尺寸大小的柵格，只要計(jì)算條件允許，且盡量以較少的計(jì)算量完成計(jì)算。
[0038]在步驟104中，可以對(duì)計(jì)算出的所有測(cè)試圖形進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查(Design RuleCheck, DRC)，從而篩選出不違反設(shè)計(jì)規(guī)則的測(cè)試圖形。
[0039]在步驟105中，可以將步驟104中篩選出的測(cè)試圖形與原有測(cè)試圖形庫(kù)進(jìn)行比對(duì)，例如運(yùn)行圖案匹配，對(duì)測(cè)試圖形進(jìn)行分組，確定原有測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋能力。其中，運(yùn)行圖案匹配時(shí)可以允許模糊匹配。
[0040]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法可以得到測(cè)試圖形庫(kù)的幾何覆蓋能力，為光學(xué)鄰近修正后續(xù)的精準(zhǔn)修正提供基礎(chǔ)。
[0041]本發(fā)明還提供一種用于光學(xué)鄰近修正的方法，該方法包括在進(jìn)行上述用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法的步驟后，將篩選出的測(cè)試圖形中未包括在原有測(cè)試圖形庫(kù)中的測(cè)試圖形添加到原有測(cè)試圖形庫(kù)中，即向原有測(cè)試圖形庫(kù)添加其未覆蓋的測(cè)試圖形，以形成新的測(cè)試圖形庫(kù)用于光學(xué)鄰近修正。
[0042]本發(fā)明已經(jīng)通過上述實(shí)施例進(jìn)行了說明，但應(yīng)當(dāng)理解的是，上述實(shí)施例只是用于舉例和說明的目的，而非意在將本發(fā)明限制于所描述的實(shí)施例范圍內(nèi)。此外本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施例，根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)還可以做出更多種的變型和修改，這些變型和修改均落在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍以內(nèi)。本發(fā)明的保護(hù)范圍由附屬的權(quán)利要求書及其等效范圍所界定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法，其特征在于，所述方法包括: 創(chuàng)建預(yù)定大小的柵格； 對(duì)組成所述柵格的一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格進(jìn)行預(yù)定義； 計(jì)算經(jīng)預(yù)定義的所述柵格內(nèi)的所有測(cè)試圖形； 在所述所有測(cè)試圖形中篩選出不違反設(shè)計(jì)規(guī)則的測(cè)試圖形；以及 將篩選出的測(cè)試圖形與原有測(cè)試圖形庫(kù)進(jìn)行比對(duì)，確定所述原有測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述柵格包括NxN網(wǎng)格陣列，其中N為正整數(shù)。3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述柵格包括5X 5網(wǎng)格陣列。4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述預(yù)定義進(jìn)一步包括:將所述一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)格預(yù)定義為O或1，其中O表示所述網(wǎng)格處為空，I表示所述網(wǎng)格處存在圖形。5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述預(yù)定義包括對(duì)所述柵格的最中央網(wǎng)格單元進(jìn)行預(yù)定義。6.如權(quán)利要求1中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述所有測(cè)試圖形的計(jì)算基于計(jì)算機(jī)編程方法。7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)編程方法包括MATLAB的蒙特卡洛算法。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述比對(duì)包括運(yùn)行圖案匹配。9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述圖案匹配允許模糊匹配。10.一種用于光學(xué)鄰近修正的方法，其特征在于，所述方法包括在進(jìn)行如權(quán)利要求1-9中的任一項(xiàng)所述的用于檢查測(cè)試圖形庫(kù)的覆蓋率的方法的步驟后，將所述篩選出的測(cè)試圖形中未包括在所述原有測(cè)試圖形庫(kù)中的測(cè)試圖形添加到所述原有測(cè)試圖形庫(kù)中，以形成新的測(cè)試圖形庫(kù)用于光學(xué)鄰近修正。
【文檔編號(hào)】G03F1/36GK105988301SQ201510058510
【公開日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2015年2月4日
【發(fā)明人】楊青
【申請(qǐng)人】中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司