一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于激光直寫光刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種精密運動平臺的精度測量與校正，提供了一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的，在激光直寫光刻系統(tǒng)中，運動平臺的正交性偏差決定了光刻產(chǎn)品整體版面幾何正交性的好壞。運動平臺都存在或多或少的正交性偏差，以光刻掩膜版為例:如果誤差過大，一方面光刻產(chǎn)品無法達到設(shè)計圖形的幾何正交性要求;另一方面，現(xiàn)有的一臺設(shè)備制作掩膜版往往需要與其他設(shè)備制作掩膜版實現(xiàn)互相套刻，而正交性偏差過大會造成無法對位套刻，因此，光刻設(shè)備往往需要對現(xiàn)有運動平臺的正交性進行測量并進行校正。
[0003]光刻領(lǐng)域測量平臺正交性測定方法在行業(yè)內(nèi)的通常做法有兩種:第一種是光刻設(shè)備制作出最終樣品，放入到專業(yè)幾何尺寸測量設(shè)備中測量，得到樣品的尺寸偏差，正交性偏差等數(shù)據(jù)。上述的方法雖然簡單直接，但是能直接對光刻圖形進行精確尺寸測量的設(shè)備價格極其昂貴，支持測量范圍達到42英寸以上的更是少之又少。而對于一般企業(yè)來說，購買此類檢測設(shè)備代價極大。
[0004]第二種是取得一塊標(biāo)準正交性校正基板，在XY方向上寫有正交的標(biāo)記點，移動光刻平臺通過CCD觀測標(biāo)記點并進行識別定位，從而得到各標(biāo)記點的平臺位置坐標(biāo)，進而計算出系統(tǒng)的正交性偏差。例如中國專利申請?zhí)枮?01110301696.8的專利，其公開了一種精密移動平臺的正交性實時標(biāo)定方法。但是，對于其中刻有定位標(biāo)記的標(biāo)準標(biāo)定板的獲得需要更高精度的設(shè)備制作，往往不容易取得，價格昂貴。此外為了達到更高的測量精度，對于大幅面平臺往往要求標(biāo)定板內(nèi)部標(biāo)記點之間的距離盡量拉開距離，這就要求標(biāo)定板的尺寸盡量跟平臺幅面相近，而能制作42英寸以上標(biāo)準標(biāo)定板的設(shè)備少之又少。
[0005]綜合來說，目前的技術(shù)主要存在兩方面問題:一是檢測過程需要借助第三方設(shè)備，工具周期長，花費成本代價大。二是對于大幅面高精度平臺的檢測，檢測設(shè)備或者檢測工具難以獲得。
[0006]因此，亟需一種不需要借助第單方設(shè)備、成本低且適用于大尺寸的直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法。
[0008]為了達到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0009]本發(fā)明提供一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0010]步驟一，設(shè)計一光刻文件，使得光刻文件在其表面的四個角具有定位標(biāo)記點；
[0011 ]步驟二，將一空白的基板固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上；
[0012]步驟三，根據(jù)步驟一的光刻文件，對空白的基板進行直寫曝光；
[0013]步驟四，記錄下曝光的基板各個側(cè)邊對應(yīng)運動平臺的XY方向，然后取下曝光后的基板進行顯影、清洗、烘干；
[0014]步驟五，將步驟四的曝光后的基板旋轉(zhuǎn)90°后，再固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上；
[0015]步驟六，打開直寫系統(tǒng)的照明光源，移動運動平臺，分別使得四個定位標(biāo)記點位于直寫系統(tǒng)的CCD的中心位置，并記錄下四個定位標(biāo)記點相應(yīng)的運動平臺的位置坐標(biāo)(Xi，Yi);
[0016]步驟七，將運動平臺位置坐標(biāo)連線形成一平行四邊形，選取靠近運動平臺零點的定位標(biāo)記點，將其內(nèi)夾角與90°做差記為Θ即為系統(tǒng)的正交性角度偏差，當(dāng)以X軸為基準時，Y軸需要補償?shù)慕嵌葹棣ā?br>[0017]本發(fā)明相較于現(xiàn)有技術(shù)，無需借助第三方設(shè)備與工具，周期快，簡單便捷，成本低，而且適用于大幅面平臺的校正。
[0018]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，還可做如下改進:
[0019]作為優(yōu)選的方案，上述的步驟二、步驟五中基板采用真空吸附的方式固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上。
[0020]采用上述優(yōu)選的方案，基板采用真空吸附方式固定，不需要增加另外的夾具固定，避免夾具遮擋基板影響成像，提高測定的準確性。
[0021]作為優(yōu)選的方案，上述的直寫系統(tǒng)包括基板、運動平臺、曝光裝置和成像裝置，曝光裝置根據(jù)光刻文件的定位標(biāo)記點信息對空白的基板進行直寫曝光，成像裝置根據(jù)曝光后的基板成像基板上的定位標(biāo)記點，曝光裝置和成型裝置集成于一體。
[0022]采用上述優(yōu)選的方案，曝光裝置和成型裝置集成于一體，在一臺設(shè)備上即可完成定位標(biāo)記點在基板上的曝光以及定位標(biāo)記點在運動平臺上的位置坐標(biāo)，以便計算運動平臺正交性，節(jié)省了設(shè)備所占的空間，更加快速便捷，實現(xiàn)效率最大化。
【附圖說明】
[0023]圖1為本發(fā)明一種實施方式的直寫系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖2為本發(fā)明一種實施方式的基板曝光后的圖形示意圖。
[0025]圖3為本發(fā)明一種實施方式的基板曝光后旋轉(zhuǎn)90°的圖形示意圖。
[0026]圖4為本發(fā)明一種實施方式的定位標(biāo)記點的相應(yīng)的運動平臺的位置坐標(biāo)連接的示意圖。
【具體實施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。
[0028]為了達到本發(fā)明的目的，如圖1至圖4所示所示，在本發(fā)明的其中一種實施方式中提供一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0029]步驟一，設(shè)計一光刻文件，使得光刻文件在其表面的四個角具有定位標(biāo)記點A、B、C、D;
[0030]步驟二，將一空白的基板固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上；
[0031]步驟三，根據(jù)步驟一的光刻文件，對空白的基板進行直寫曝光；
[0032]步驟四，記錄下曝光的基板各個側(cè)邊對應(yīng)運動平臺的XY方向，然后取下曝光后的基板進行顯影、清洗、烘干；
[0033]步驟五，將步驟四的曝光后的基板旋轉(zhuǎn)90°后，再固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上；
[0034]步驟六，打開直寫系統(tǒng)的照明光源，移動運動平臺，分別使得四個定位標(biāo)記點位于直寫系統(tǒng)的CCD的中心位置，并記錄下四個定位標(biāo)記點相應(yīng)的運動平臺的位置坐標(biāo)(XI，Υ1)、(Χ2，Υ2)、(Χ3，Υ3)?Ρ(Χ4，Υ4);
[0035]步驟七，將運動平臺位置坐標(biāo)連線形成一平行四邊形，選取靠近運動平臺零點的定位標(biāo)記點，將其內(nèi)夾角與90°做差記為Θ即為系統(tǒng)的正交性角度偏差，當(dāng)以X軸為基準時，Y軸需要補償?shù)慕嵌葹棣ā?br>[0036]本實施方式相較于現(xiàn)有技術(shù)，無需借助第三方設(shè)備與工具，周期快，簡單便捷，成本低，而且適用于大幅面平臺的校正。
[0037]為了進一步地優(yōu)化本發(fā)明的實施效果，在本發(fā)明的另一種實施方式中，在前述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的步驟二、步驟五中基板采用真空吸附的方式固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上。
[0038]采用上述優(yōu)選的方案，基板采用真空吸附方式固定，不需要增加另外的夾具固定，避免夾具遮擋基板影響成像，提高測定的準確性。
[0039]為了進一步地優(yōu)化本發(fā)明的實施效果，在本發(fā)明的另一種實施方式中，在前述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的直寫系統(tǒng)包括基板、運動平臺、曝光裝置和成像裝置，曝光裝置根據(jù)光刻文件的定位標(biāo)記點信息對空白的基板進行直寫曝光，成像裝置根據(jù)曝光后的基板成像基板上的定位標(biāo)記點，曝光裝置和成型裝置集成于一體。
[0040]采用上述優(yōu)選的方案，曝光裝置和成型裝置集成于一體，在一臺設(shè)備上即可完成定位標(biāo)記點在基板上的曝光以及定位標(biāo)記點在運動平臺上的位置坐標(biāo)，以便計算運動平臺正交性，節(jié)省了設(shè)備所占的空間，更加快速便捷，實現(xiàn)效率最大化。
[0041]以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，其特征在于，包括以下步驟: 步驟一，設(shè)計一光刻文件，使得光刻文件在其表面的四個角具有定位標(biāo)記點； 步驟二，將一空白的基板固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上； 步驟三，根據(jù)步驟一的光刻文件，對空白的基板進行直寫曝光； 步驟四，記錄下曝光的基板各個側(cè)邊對應(yīng)運動平臺的XY方向，然后取下曝光后的基板進行顯影、清洗、烘干； 步驟五，將步驟四的曝光后的基板旋轉(zhuǎn)90°后，再固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上； 步驟六，打開直寫系統(tǒng)的照明光源，移動運動平臺，分別使得四個定位標(biāo)記點位于直寫系統(tǒng)的(XD的中心位置，并記錄下四個定位標(biāo)記點相應(yīng)的運動平臺的位置坐標(biāo)(Xi，Yi); 步驟七，將運動平臺位置坐標(biāo)連線形成一平行四邊形，選取靠近運動平臺零點的定位標(biāo)記點，將其內(nèi)夾角與90°做差記為Θ即為系統(tǒng)的正交性角度偏差，當(dāng)以X軸為基準時，Y軸需要補償?shù)慕嵌葹棣ā?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，其特征在于，所述步驟二、步驟五中基板采用真空吸附的方式固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，其特征在于，所述直寫系統(tǒng)包括基板、運動平臺、曝光裝置和成像裝置，所述曝光裝置根據(jù)光刻文件的定位標(biāo)記點信息對空白的基板進行直寫曝光，所述成像裝置根據(jù)曝光后的基板成像基板上的定位標(biāo)記點。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，其特征在于，所述曝光裝置和成型裝置集成于一體。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種直寫系統(tǒng)運動平臺的正交性測定方法，包括以下步驟：步驟一，設(shè)計光刻文件，使其四個角具有定位標(biāo)記點；步驟二，將基板固定于運動平臺上；步驟三，根據(jù)光刻文件對基板進行直寫曝光；步驟四，記錄下基板各個側(cè)邊對應(yīng)運動平臺的XY方向，然后進行顯影、清洗、烘干；步驟五，將基板旋轉(zhuǎn)90°后固定于直寫系統(tǒng)的運動平臺上；步驟六，移動運動平臺，分別使得四個定位標(biāo)記點位于CCD的中心位置，并記錄下相應(yīng)的位置坐標(biāo)；步驟七，將位置坐標(biāo)連線形成平行四邊形，計算運動平臺的正交性。本發(fā)明相較于現(xiàn)有技術(shù)，無需借助第三方設(shè)備與工具，周期快，簡單便捷，成本低，而且適用于大幅面平臺的校正。
【IPC分類】G01B11/26, G03F7/20
【公開號】CN105629678
【申請?zhí)枴緾N201610047977
【發(fā)明人】朱鵬飛, 浦東林, 陳林森, 朱鳴
【申請人】蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2016年1月25日