一種曲面顯示面板及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示面板領(lǐng)域，特別是涉及一種曲面顯示面板及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]曲面顯示器由于具有更出色的對比度、更廣泛的視角及沉浸式體驗，為用戶提供根據(jù)更具深度的觀賞感受。在曲面顯示器應用中，由于面板會有一定程度的彎曲，使得組成面板的上下兩塊基板之間會產(chǎn)生相對錯位，導致設(shè)置在一塊基板上的黑矩陣的光遮效果受到影響，造成彎曲后的漏光現(xiàn)象。具體請參閱圖1和圖2所示，其中，圖1是面板11沒有彎曲時，黑矩陣12的遮光情況，圖2是面板11彎曲后，黑矩陣12的遮光情況，可以看出，圖2中面板
11彎曲后，面板11上的隔墊物13發(fā)生位移導致漏光現(xiàn)象。傳統(tǒng)VA模式中的解決方法是將BM遮光層加大，但是該方法將犧牲掉至少20%的穿透率，大大降低了產(chǎn)品的特性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種曲面顯示面板及其制造方法，能夠在不犧牲產(chǎn)品穿透率的前提下，改善曲面彎曲后產(chǎn)品的漏光現(xiàn)象。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種曲面顯示面板的制造方法，包括:
[0005]提供一第一基板；
[0006]在第一基板上形成色阻層，并在色阻層的預定位置形成一凹陷區(qū)域；
[0007]提供一第二基板；
[0008]在第二基板上形成隔墊物；
[0009]將第一基板與第二基板進行對組貼合，使得隔墊物嵌入凹陷區(qū)域內(nèi)。
[0010]其中，在第一基板上形成色阻層，并在色阻層的預定位置形成一凹陷區(qū)域的步驟之前，進一步包括:
[0011 ]在第一基板上形成開關(guān)管結(jié)構(gòu)；
[0012]其中，色阻層覆蓋開關(guān)管結(jié)構(gòu)，預定位置為色阻層對應于開關(guān)管結(jié)構(gòu)的位置。
[0013]其中，在第二基板上形成隔墊物的步驟之前，進一步包括:
[0014]在第二基板上形成黑矩陣；
[0015]其中，隔墊物形成于黑矩陣上。
[0016]其中，凹陷區(qū)域是利用半曝光方式在色阻層的預定位置進行部分曝光而形成的。
[0017]其中，在第一基板上形成色阻層，并在色阻層的預定位置形成一凹陷區(qū)域的步驟包括:
[0018]在基板上形成色阻層；
[0019]在色阻層上形成鈍化層；
[0020]在色阻層及鈍化層上的預定位置形成凹陷區(qū)域，以使凹陷區(qū)域處的色阻層經(jīng)鈍化層外露。
[0021]其中，在色阻層及鈍化層上的預定位置形成凹陷區(qū)域的步驟包括:
[0022]利用干蝕刻方式清除預定位置處的鈍化層；
[0023]利用氧氣或惰性氣體將預定位置處的色阻層去除，形成凹陷區(qū)域。
[0024]其中，在第一基板上形成色阻層，并在色阻層的預定位置形成一凹陷區(qū)域的步驟之后，進一步包括:
[0025]在色阻層上形成鈍化層，使得鈍化層整體覆蓋色阻層。
[0026]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是:提供一種曲面顯示面板，包括:
[0027]第一基板；
[0028]開關(guān)管結(jié)構(gòu)，設(shè)置在第一基板上；
[0029]色阻層，色阻層設(shè)在第一基板上并覆蓋開關(guān)管結(jié)構(gòu)，色阻層在開關(guān)管結(jié)構(gòu)對應位置上設(shè)有凹陷區(qū)域；
[0030]第二基板；
[0031 ]黑矩陣，設(shè)置在第二基板上；
[0032]隔墊物，設(shè)置在黑矩陣上，隔墊物嵌入凹陷區(qū)域內(nèi)。
[0033]其中，曲面顯示面板還包括:
[0034]鈍化層，鈍化層設(shè)在色阻層上并整體覆蓋。
[0035]其中，曲面顯示面板還包括:
[0036]鈍化層，鈍化層設(shè)在色阻層上，且凹陷區(qū)域處的色阻層經(jīng)鈍化層外露。
[0037]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明通過提供一第一基板，在第一基板上形成色阻層，并在色阻層的預定位置形成一凹陷區(qū)域，同時提供一第二基板，在第二基板上形成隔墊物，將第一基板與第二基板進行對組貼合，使得隔墊物嵌入凹陷區(qū)域內(nèi)。本發(fā)明通過這種方式，使得曲面顯示面板的隔墊物嵌入凹陷區(qū)域內(nèi)，從而在曲面顯示面板彎曲時，隔墊物不會隨之發(fā)生位移，減少漏光現(xiàn)象的發(fā)生，降低顯示面板的良率損失。
【附圖說明】
[0038]圖1是現(xiàn)有技術(shù)曲面顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖2是現(xiàn)有技術(shù)曲面顯示面板彎曲后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖3是本發(fā)明曲面顯示面板的制造方法實施例一的流程圖；
[0041 ]圖4a_圖4c是本發(fā)明實施例一各步驟中曲面顯不面板的斷面圖；
[0042]圖5是本發(fā)明曲面顯示面板的制造方法實施例二的流程圖；
[0043]圖6a_圖6e是本發(fā)明實施例二各步驟中曲面顯示面板的斷面圖；
[0044]圖7是本發(fā)明曲面顯示面板的制造方法實施例三的流程圖；
[0045]圖8a_圖8d是本發(fā)明實施例二各步驟中曲面顯不面板的斷面圖；
[0046]圖9是本發(fā)明曲面顯示面板實施例一的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0047]圖10是本發(fā)明曲面顯示面板實施例二的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0048]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地了解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明所提供的一種曲面顯示面板及其制造方法做進一步詳細描述。
[0049]圖3是本發(fā)明曲面顯不面板的制造方法實施例一的流程圖，圖4a_圖4c是本實施例一各步驟中顯示面板的斷面圖，如圖3和圖4所示，該曲面顯示面板的制造方法具體包括以下步驟:
[0050]SlOl:提供一第一基板 101;
[0051]S102:在第一基板101上形成色阻層103，并在色阻層103的預定位置形成一凹陷區(qū)域 105;
[0052]具體地，如圖4a所示，為通過步驟SlOl和步驟S102制備出的第一基板的示意圖。通過半曝光方式在色阻層103的預定位置進行部分曝光形成凹陷區(qū)域105，在曝光過程中，因色阻感受到的積光量不同，顯影后留下的色阻厚度也不同，因此，凹陷區(qū)域105的大小視產(chǎn)品設(shè)計需求而定，可選I Um-1 OOum不等，凹陷區(qū)域105的深度同樣視產(chǎn)品設(shè)計需求而定，可選為色阻厚度的1/10到3/4不等。
[0053]這里所說的預定位置通常是指能夠遮擋光線防止漏光現(xiàn)象產(chǎn)生的位置，預定位置的個數(shù)，形成凹陷區(qū)域105的個數(shù)并不限定，以與下面闡述的隔墊物104的個數(shù)相匹配為依據(jù)。
[0054]S103:提供一第二基板 102;
[0055]S104:在第二基板102上形成隔墊物104;
[0056]具體地，如圖4b所示，為通過步驟S103和步驟S104制備出的第二基板的示意圖。在第二基板102上形成對應于第一基板101上凹陷區(qū)域105的隔墊物104，隔墊物104可為第一基板101和第二基板102之間預留空間以填充液晶等物質(zhì)，同時起到支撐第一基板101和第二基板102的作用，因此，隔墊物104通常是均勻分散在第二基板102上，以使得填充液晶等物質(zhì)的厚度一致。隔墊物104的材料和形狀對顯示面板的反應速度、對比度、視角等都產(chǎn)生影響，通常選用的是有機柱狀隔墊物104，如圖4b中所示。
[0057]隔墊物104用來控制兩塊基板之間的間隙以保持液晶等物質(zhì)的厚度，在使用過程中，如果隔墊物104移動會產(chǎn)生空洞，造成顯示面板的漏光現(xiàn)象。
[0058]需要說明的是，步驟S103及步驟S104并不是在步驟S102之后進行，這兩塊基板的制作可以同時或不同時進行，順序并不限定。
[0059]步驟S105:將第一基板101與第二基板102進行對組貼合，使得隔墊物104嵌入凹陷區(qū)域105內(nèi)。
[0060]具體地，如圖4c所示，是進行對組貼合后第一基板101和第二基板102的示意圖，第二基板102上的隔墊物104正好嵌入第一基板101的凹陷區(qū)域105內(nèi)，使得當曲面顯示面板彎曲時，隔墊物104由于被固定而無法發(fā)生位移，減少漏光現(xiàn)象的發(fā)生。
[0061 ]圖5是本發(fā)明曲面顯示面板的制造方法實施例二的流程圖，圖6a_圖6e為本實施例二各步驟中曲面顯示面板的斷面圖，其中，第一基板201選用陣列基板，第二基板205選用彩膜基板。如圖5和圖6所示，該曲面顯示面板的制造方法具體包括以下步驟:
[0062]S201:提供一第一基板 201 ；
[0063]S202:在第一基板201上形成開關(guān)管結(jié)構(gòu)202;
[0064]具體地，如圖6a所示，為通過步驟S201和步驟S202制備出的開關(guān)管結(jié)構(gòu)202的示意圖。在第一基板201即陣列基板201上形成開關(guān)管結(jié)構(gòu)202，開關(guān)管202可選為薄膜晶體管TFT，在陣列基板201上首先形成TFT結(jié)構(gòu)202，這個過程可采用現(xiàn)有技術(shù)中的任一工藝得以實現(xiàn)，比如可通過首先在陣列基板201上形成柵電極，然后在柵電極上依次形成第一絕緣層和有源層，進而在有源層上形成源電極和漏電極，最后在漏電極上形成第二絕緣層，由此形成整個TFT結(jié)構(gòu)202。
[0065]S203:在第一基板201上形成色阻層203，并在色阻層203的預定位置形成一凹陷區(qū)域208，其中，所述色阻層203覆蓋所述開關(guān)管結(jié)構(gòu)202，所述預定位置為所述色阻層203對應于所述開關(guān)管結(jié)構(gòu)202的位置；
[0066]具體地，如圖6b所示，為通過步驟S203制備出的色阻層203的示意圖。形成TFT結(jié)構(gòu)202后，在TFT結(jié)構(gòu)202上涂布色阻層203，色阻層203覆蓋TFT結(jié)構(gòu)202，然后使用半曝光方式在色阻層203對應TFT結(jié)構(gòu)202的位置上制作凹陷區(qū)域208，在曝光過程中，因色阻感受到的積光量不同，顯影后留下的色阻厚度不同。凹陷區(qū)域208的大小視產(chǎn)品設(shè)計需求而定，可選Ium — 10um不等，凹陷區(qū)域208的深度同樣視產(chǎn)品設(shè)計需求而定，可選為色阻厚度的1/10到3/4不等。
[0067]S204:在色阻層203上形成鈍化層204，使得鈍化層204整體覆蓋色阻層203。
[0068]具體地，如圖6c所示，為通過步驟S204制備出的鈍化層204的示意圖。鈍化層204由于覆蓋整個色阻層203，因此形成的鈍化層204在對應TFT結(jié)構(gòu)202的位置也會有一凹陷區(qū)域208，在鈍化層204上進一步制作ITO透明導電層，從而完成陣列基板201的制作。
[0069]S205:提供一第二基板205;
[0070]S206:在第二基板205上形成黑矩陣206;
[0071]S207:在黑矩陣206上形成隔墊物207;
[0072]具體地，如圖6d所示，為通過步驟S205-步驟S207制備出的第二基板205的示意圖。
[0073]在第二基板205即彩膜基板