一種用于二維光電顯微鏡的h形狹縫的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于二維光電顯微鏡的Η形狹縫，屬于精密測(cè)量領(lǐng)域，涉及對(duì)精密測(cè)量裝備的改進(jìn)。
【背景技術(shù)】
[0002]二維光電顯微鏡利用被測(cè)刻線的像與狹縫的相對(duì)位置關(guān)系進(jìn)行刻線瞄準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)超高精度測(cè)量。當(dāng)刻線的像在狹縫區(qū)域劃過時(shí)，通過狹縫透光區(qū)域的光能量將發(fā)生變化，二維光電顯微鏡通過檢測(cè)這一光能量變化實(shí)現(xiàn)瞄準(zhǔn)。當(dāng)刻線存在制造瑕疵時(shí)，將影響二維光電顯微鏡的瞄準(zhǔn)精度。
[0003]二維光電顯微鏡主要用于二維線紋標(biāo)準(zhǔn)樣板的瞄準(zhǔn)測(cè)量。二維線紋標(biāo)準(zhǔn)樣板利用兩條相互垂直的刻線定義點(diǎn)坐標(biāo)。
[0004]目前對(duì)二維線紋樣板的加工主要通過光學(xué)刻蝕方法實(shí)現(xiàn)，由于加工工藝水平的限制，很容易在十字刻線交叉點(diǎn)處形成過腐蝕，使十字刻線交叉點(diǎn)區(qū)域制造瑕疵較多，如圖1所示。
[0005]十字刻線交叉點(diǎn)處的制造瑕疵導(dǎo)致刻線的像在該區(qū)域光強(qiáng)不均勻、線形扭曲，從而導(dǎo)致光能量變化，影響二維光電顯微鏡的瞄準(zhǔn)精度。
[0006]傳統(tǒng)的光電顯微鏡狹縫呈直線形，如圖2所示，導(dǎo)致二維線紋十字刻線附近的制造瑕疵形成的像能順利通過狹縫進(jìn)入信號(hào)處理系統(tǒng)，從而影響光電顯微鏡的瞄準(zhǔn)精度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是為了提高二維光電顯微鏡的瞄準(zhǔn)精度，提出一種用于二維光電顯微鏡的Η形狹縫。
[0008]本發(fā)明的目的是通過下述技術(shù)方案解決的。
[0009]本發(fā)明提出的一種用于二維光電顯微鏡的Η形狹縫，其包括:遮光區(qū)域和通光區(qū)域。
[0010]所述Η形狹縫由光學(xué)玻璃加工而成，遮光區(qū)域由不透光材料在光學(xué)玻璃上蒸鍍形成，通光區(qū)域則是將蒸鍍材料去除后得到。
[0011]通光區(qū)域由處于同一直線的2個(gè)寬度相同的長(zhǎng)方形通光孔組成；并且2個(gè)長(zhǎng)方形通光孔之間的間距大于長(zhǎng)方形通光孔的寬度。
[0012]有益效果
[0013]本發(fā)明提出的一種用于二維光電顯微鏡的Η形狹縫與已有技術(shù)相比較，其優(yōu)點(diǎn)是可以屏蔽二維線紋刻線交叉點(diǎn)附近的制造瑕疵對(duì)測(cè)量結(jié)果的干擾，從而提高二維線紋測(cè)量精度。
【附圖說明】
[0014]圖1是【背景技術(shù)】中交叉點(diǎn)處帶有瑕疵的十字刻線圖；
[0015]圖2是【背景技術(shù)】中光電顯微鏡狹縫示意圖；
[0016]圖3是本發(fā)明【具體實(shí)施方式】中用于二維光電顯微鏡的Η形狹縫示意圖；
[0017]其中，1-遮光區(qū)域、2-通光區(qū)域。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明，但不應(yīng)以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0019]本實(shí)施例中用于二維光電顯微鏡的Η形狹縫包括:遮光區(qū)域1和通光區(qū)域2，如圖3所示。具體為:
[0020]首先對(duì)lOmmX lOmmX0.5mm的石英玻璃片單面整體鍍鉻，加工出遮光區(qū)域1 ;然后在石英玻璃片的鍍鉻面的中間區(qū)域刻蝕出兩個(gè)處于同一直線、大小為0.05mmXlmm的長(zhǎng)方形透光通光孔，構(gòu)成通光區(qū)域2 ;2個(gè)長(zhǎng)方形通光孔之間的間距為0.1mm。該Η形狹縫用在放大倍數(shù)為5倍的二維光點(diǎn)顯微鏡系統(tǒng)。
[0021]使用該二維光點(diǎn)顯微鏡系統(tǒng)對(duì)二維線紋10 μπι寬度的十字刻線進(jìn)行瞄準(zhǔn)測(cè)量時(shí)，瞄準(zhǔn)精度達(dá)到50nm，實(shí)現(xiàn)了二維線紋的高精度瞄準(zhǔn)測(cè)量。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于二維光電顯微鏡的H形狹縫，其特征在于:其包括:遮光區(qū)域(I)和通光區(qū)域⑵； 所述H形狹縫由光學(xué)玻璃加工而成，遮光區(qū)域(I)由不透光材料在光學(xué)玻璃上蒸鍍形成，通光區(qū)域(2)則是將蒸鍍材料去除后得到； 通光區(qū)域(2)由處于同一直線的2個(gè)寬度相同的長(zhǎng)方形通光孔組成；并且2個(gè)長(zhǎng)方形通光孔之間的間距大于長(zhǎng)方形通光孔的寬度。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于二維光電顯微鏡的H形狹縫，屬于精密測(cè)量領(lǐng)域，涉及對(duì)精密測(cè)量裝備的改進(jìn)。H形狹縫由光學(xué)玻璃加工而成，遮光區(qū)域由不透光材料在光學(xué)玻璃上蒸鍍形成，通光區(qū)域則是將蒸鍍材料去除后得到。通光區(qū)域由處于同一直線的2個(gè)寬度相同的長(zhǎng)方形通光孔組成；并且2個(gè)長(zhǎng)方形通光孔之間的間距大于長(zhǎng)方形通光孔的寬度。本發(fā)明提出的一種用于二維光電顯微鏡的H形狹縫的優(yōu)點(diǎn)是可以屏蔽二維線紋刻線交叉點(diǎn)附近的制造瑕疵對(duì)測(cè)量結(jié)果的干擾，從而提高二維線紋測(cè)量精度。
【IPC分類】G02B21/36, G02B23/10
【公開號(hào)】CN105334611
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510689245
【發(fā)明人】李華豐, 朱振宇, 李強(qiáng), 蘭一兵, 張麗娟
【申請(qǐng)人】中國(guó)航空工業(yè)集團(tuán)公司北京長(zhǎng)城計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所
【公開日】2016年2月17日
【申請(qǐng)日】2015年10月21日