曝光裝置和使用該曝光裝置的曝光方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明構思的示范性實施例涉及曝光裝置和使用該曝光裝置的曝光方法。
[0002]更具體地，本發(fā)明構思的示范性實施例涉及用于形成液晶顯示裝置的光定向?qū)拥钠毓庋b置。
【背景技術】
[0003]近來，已經(jīng)制造重量輕尺寸小的顯示裝置。陰極射線管(CRT)顯示裝置由于高性能和有競爭力的價格而被一般使用。然而，CRT顯示裝置很大且欠缺便攜性。因而，諸如等離子顯示裝置、液晶顯示裝置、和有機發(fā)光顯示裝置的顯示裝置由于其小尺寸、輕重量、和低功耗而受到高度重視。
[0004]顯示裝置一般包括:具有電路布線的陣列基板；面向陣列基板的對向基板；以及布置在陣列基板與對向基板之間的液晶層。顯示裝置一般還包括給液晶層的液晶分子一預傾斜角度的定向?qū)印?br>
【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]可以使用曝光裝置通過光定向工藝形成定向?qū)印Ｈ欢?，問題在于，由曝光裝置形成的紫外線不夠均勻。
[0006]本發(fā)明構思的示范性實施例提供能夠均勻地向多個基板曝光的曝光裝置。
[0007]本發(fā)明構思的示范性實施例還提供使用該曝光裝置的曝光方法。
[0008]本發(fā)明的額外特征將在隨后的描述中闡明，并將從該描述中部分地變得明顯，或者可以通過實踐本發(fā)明而習得。
[0009]根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例，一種曝光裝置包括:基板輸送單元，用于沿第一方向輸送基板，并且包括被配置為測量紫外線的量的傳感器；以及曝光部件，被布置在基板輸送單元上方以將基板曝光于紫外線。
[0010]根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例，一種曝光方法包括:計算并測量(S100)，其中，測量從曝光部件產(chǎn)生的紫外線的特性，并且利用所測量的特性計算曝光的速度和量；曝光基板(S200)，其中，以在SlOO中計算的曝光的速度和量利用紫外線曝光基板；計算并測量(S300)，其中，再次測量從曝光部件產(chǎn)生的紫外線的特性，并且利用新測量的特性計算曝光的速度和量；以及曝光基板(S400)，其中，以在S300中新計算的曝光的速度和量利用紫外線曝光基板。
[0011]在示范性實施例中，在曝光基板(S200)時，可以依序曝光第一基板和第二基板。測量并計算(S10)可以包括測量紫外線的照度以及計算第二移動速度。在測量紫外線的照度時，可以測量從曝光部件產(chǎn)生的紫外線的強度。紫外線的強度可以意味著在單位時間期間照射在單位面積上的紫外線的總能量。換句話說，紫外線的強度是指影響傳感器IS之一的紫外線的強度(輻照度)。在測量第二移動速度時，可以計算作為第二基板的移動速度的第二移動速度。第二移動速度可以滿足以下公式。
[0012]〈公式1>
[0013]紫外線的強度*每一基板的曝光時間=恒定值
[0014]〈公式2>
[0015]每一基板的曝光時間=第二基板的曝光距離/第二基板的移動速度
[0016]因而，根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例，一種曝光裝置包括用于測量紫外線的強度的傳感器和用于輸送多個基板的級。于是，該曝光裝置可以通過根據(jù)紫外線的強度的數(shù)學函數(shù)連續(xù)地調(diào)整基板的移動速度來向多個基板提供均勻的曝光。
[0017]另外，第一到第三級分別包括第一到第三測量部件，以使得可以依據(jù)紫外線的強度的變化而實時地應用各級的適當?shù)囊苿铀俣取?br>[0018]此外，根據(jù)本發(fā)明的示范性實施例，該曝光方法重復測量紫外線的強度和計算曝光速度的步驟。于是，當多個基板被曝光時，雖然紫外線可能由于曝光部件的UV燈的老化而減少，但是可以通過連續(xù)地調(diào)整曝光的速度來將基板均勻地曝光。
[0019]將會理解，前述一般性描述及下面的詳細描述是示范性和解釋性的，并且是用來提供對所主張的本發(fā)明的進一步解釋。
【附圖說明】
[0020]被包括以提供對本發(fā)明的進一步理解并被并入且構成此說明書的一部分的附圖圖示了本發(fā)明的實施例，并且與描述一起用來解釋本發(fā)明的原理。
[0021]通過參照附圖詳細描述本發(fā)明構思的示范性實施例，本發(fā)明構思的上述及其它特征將變得更加清楚。
[0022]圖1是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光裝置的透視圖；
[0023]圖2是圖示圖1的第二級的平面圖細節(jié)；
[0024]圖3是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的第二級的平面圖細節(jié)；
[0025]圖4是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光裝置的透視圖細節(jié)；
[0026]圖5是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光裝置的透視圖細節(jié)；
[0027]圖6是圖示圖5的第二輸送部件的平面圖細節(jié)；
[0028]圖7是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的第二輸送部件的平面圖細節(jié)；
[0029]圖8是簡要地圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光裝置的透視圖；
[0030]圖9是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光方法的流程圖；
[0031]圖1OA到1D是圖示曝光方法的每個步驟的流程圖細節(jié)；
[0032]圖1lA到IlD是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光方法的每個步驟的流程圖細節(jié)；
[0033]圖12是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光方法的流程圖；以及
[0034]圖13是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0035]下面將參照其中示出本發(fā)明的實施例的附圖更全面地描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式來具體實現(xiàn)，并不應當被解讀為限于這里闡述的實施例。相反，提供這些實施例是為了使本公開徹底，并向本領域技術人員充分傳達發(fā)明的范圍。附圖中，為清楚起見，可能夸大了層和區(qū)域的尺寸和相對尺寸。附圖中相同的附圖標記表示相同的元件。
[0036]將會理解，當一個元件或?qū)颖环Q為在另一元件或?qū)印爸稀?、“連接到”到另一元件或?qū)訒r，它可以直接在該另一元件或?qū)又匣蛘咧苯舆B接到該另一元件或?qū)樱蛘咭部梢源嬖诰娱g的元件或?qū)?。相反，當一個元件被稱為“直接在”另一元件或?qū)印爸稀被蛘摺爸苯舆B接到”另一元件或?qū)訒r，不存在居間的元件或?qū)?。將會理解，出于本公開的目的，“X、Y和Z中的至少一個”可以被解釋為僅X、僅Y、僅Z，或者X、Y和Z中兩個或者更多個項目的任意組合(例如，XYZ、XYY、TL、ZZ)。
[0037]圖1是圖示根據(jù)本發(fā)明構思的示范性實施例的曝光裝置的透視圖。
[0038]參照圖1，曝光裝置100包括框架102、第一級110、第二級120、第三級130、和曝光部件190。
[0039]框架102沿第一方向Dl延伸，并且沿與第一方向Dl基本垂直的第二方向D2具有一寬度。在框架102上布置多個級?？蚣?02支撐各級?？梢匝氐谝环较駾l在框架上連續(xù)傳送各級。
[0040]例如，各級包括第一級110、第二級120、和第三級130。如圖中所述，基板10被加載到第三級130上(參見圖1中的箭頭IN)。接著，可以沿第一方向Dl移動第三級130。因此，第三級130上的基板10可以在穿過曝光部件190下方到圖1中第二級120的位置的同時被光曝光。在第三級130移動的同時，第二級120沿第一方向Dl移動到圖1中第一級110的位置，基板被從第一級110卸載(參見圖1中的箭頭OUT)，并且第一級110沿與第一方向Dl相反的方向移動到圖1中第三級130的位置。例如，第一級110可以沿與第一方向Dl相反的方向移動通過框架102，以使得第一級110可以被置于加載位置處以加載基板10。例如，第一級110可以與第一方向Dl相反地移動，避開曝光部件190，以被定位在加載位置處以加載基板。因此，第一到第三級110、120和130沿第一方向Dl連續(xù)移動，以使得可以沿第一方向Dl傳送多個基板10。
[0041]在基板10被加載到第一級110上(參見圖1中的箭頭IN)之后，第一級110接著沿第一方向Dl輸送基板10?；?0接著穿過曝光部件190下方。隨后，基板10被從第一級110卸載(參見圖1中的箭頭OUT)。第一級110可以通過真空吸附來握持基板10以傳送基板10。
[0042]基板10被加載到第二級120上(參見圖1中的箭頭IN)。第二級120接著沿第一方向Dl輸送基板10。基板10接著穿過曝光部件190下方。隨后，基板10被從第二級120卸載(參見圖1中的箭頭OUT)。第二級120可以通過真空吸附來握持基板10以輸送基板10。
[0043]第二級120包括測量部件122。測量部件122被沿著第一方向Dl布置在第二級120的一側(cè)。例如，測量部件122沿著作為基板10的移動方向的第一方向Dl布置在第二級120的前面，以使得測量部件122可以在第二級120上的基板10被曝光部件190曝光之前穿過曝光部件190下方。
[0044]測量部件122沿第二方向D2延伸。測量部件122可以包括多個傳感器IS。傳感器IS可以測量由曝光部件190產(chǎn)生的紫外線的特性?？梢酝ㄟ^使用傳感器IS測量的紫外線的特性控制由曝光部件190產(chǎn)生的紫外線的強度和曝光時間來將基板10均勻地曝光。
[0045]基板10被加載到第三級130上(參見圖1中的箭頭IN)。第三級120接著沿第一方向Dl輸送基板10?；?0接著穿過曝光部件190下方，隨后基板10被從第三級130卸載(參見圖1中的箭頭OUT)。第三級130可以通過真空吸附來握持基板10以輸送基板10。
[0046]曝光部件190被布置在框架102上。曝光部件190沿第三方向D3與框架102間隔開，第三方向D3與第一和第二方向Dl和D2基本垂直。曝光部件190被布置在框架102加載基板10(參見圖1中的箭頭IN)的部分與框架102卸載基板10(參見圖1中的箭頭OUT)的部分之間。
[0047]曝光部件190包括產(chǎn)生紫外線的UV光源、和用于偏振紫外線的線柵偏振器。曝光部件190將紫外線照射到布置在第一、第二、和/或第三級110、120、或130上的基板10上。因此，來自曝光部件190的紫外線可以硬化在基板10上涂敷的光定向材料以在基板10上形成光定向?qū)印?br>[0048]UV光源可以是沿第二方向D2延伸的UV燈。另外，UV光源可以是沿第二方向D2排列的多個UV燈，并且每個UV燈可以沿第二方向D2延伸?？梢钥刂芔V燈以產(chǎn)生具有不同強度的紫外線。