一種半透半遮面板、觸控面板及其制作方法以及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半透半遮面板、觸控面板及其制作方法以及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]OGS (One Glass Solut1n，單片玻璃式)觸控面板，S卩在半透半遮面板上直接形成導(dǎo)電膜及傳感器，使半透半遮面板同時起到保護(hù)內(nèi)部結(jié)構(gòu)玻璃和觸控傳感器的雙重作用。其中，半透半遮面板板根據(jù)遮光區(qū)域的顏色可具體分為:使用黑色色阻制作的黑色半透半遮面板，以及使用白色色阻制作的白色半透半遮面板。
[0003]對于白色半透半遮面板，如圖1所示，玻璃基板OI上設(shè)置有白色光阻02，由于白色光阻的光密度值較低，因此，為了滿足遮光要求，需要在白色光阻02的上面覆蓋一層黑色光阻03，但如果白色光阻02較薄，在其后覆蓋上黑色光阻03后顏色會發(fā)青，這就要求白色光阻02盡可能的厚。
[0004]但是，當(dāng)形成的白色光阻02較厚時，經(jīng)過第一次曝光顯影后，會形成的梯形的白色光阻02，這樣，在梯形的白色光阻02上涂覆黑色光阻03，經(jīng)過第二次曝光顯影后，由于黑色光阻03聚積在白色光阻02的邊緣，因此白色光阻02邊緣處的黑色光阻03很難通過顯影洗掉，這樣就造成了白色光阻02邊緣處殘留有黑色光阻03的問題，進(jìn)而導(dǎo)致半透半遮面板上顏色不均的現(xiàn)象。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的實施例提供一種半透半遮面板、觸控面板及其制作方法以及顯示裝置，解決了白色半透半遮面板上顏色不均的現(xiàn)象。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]本發(fā)明的實施例提供一種半透半遮面板的制作方法，包括:
[0008]在基板上分別涂覆負(fù)性白色光阻和正性透明光阻，形成白色光阻層和正性光阻層；
[0009]對所述正性光阻層進(jìn)行第一次曝光，顯影后去除曝光區(qū)域的光刻膠后形成第一光阻圖案，其中，所述第一光阻圖案下覆蓋有未曝光的白色光阻；
[0010]在所述第一光阻圖案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻層；
[0011]對所述黑色光阻層進(jìn)行第二次曝光，顯影后去除所述第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻層、所述第一光阻圖案下覆蓋的白色光阻層以及所述第一光阻圖案，形成遮光區(qū)域。
[0012]進(jìn)一步地，所述黑色光阻為負(fù)性。
[0013]進(jìn)一步地，對所述黑色光阻層進(jìn)行第二次曝光，顯影后去除所述第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻層、所述第一光阻圖案下覆蓋的白色光阻層以及所述第一光阻圖案，形成遮光區(qū)域，包括:
[0014]對所述黑色光阻層進(jìn)行所述第二次曝光，顯影后去除所述第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻；
[0015]通過顯影工藝和剝離工藝，去除所述未曝光的白色光阻，并將所述第一光阻圖案與所述未曝光的白色光阻剝離，在所述基板形成遮光區(qū)域。
[0016]進(jìn)一步地，在基板上涂覆白色光阻之后，還包括:
[0017]對所述白色光阻層進(jìn)行軟烤。
[0018]進(jìn)一步地，在所述第一光阻圖案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻層之后，還包括:
[0019]對所述黑色光阻層進(jìn)行軟烤。
[0020]進(jìn)一步地，在對所述黑色光阻層進(jìn)行第二次曝光，顯影后去除所述第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻層、所述第一光阻圖案下覆蓋的白色光阻層以及所述第一光阻圖案，形成遮光區(qū)域之后，還包括:
[0021]在保留的黑色光阻和透光區(qū)域上形成絕緣層。
[0022]本發(fā)明的實施例還提供一種半透半遮面板，所述半透半遮面板由上述任一項半透半遮面板的制作方法制作而成。
[0023]另外，本發(fā)明的實施例提供一種觸控面板的制作方法，在形成所述絕緣層之后，所述方法還包括:
[0024]在所述絕緣層上制作觸摸驅(qū)動電極、與所述觸摸驅(qū)動電極隔開以在其間形成電容耦合節(jié)點的觸摸感應(yīng)電極、以及耦合至所述觸摸感應(yīng)電極以測量電容耦合節(jié)點處電容變化的觸控感測電路。
[0025]相應(yīng)的，本發(fā)明的實施例還提供一種觸控面板，所述觸控面板由上述觸控面板的制作方法制作而成。
[0026]進(jìn)一步地，本發(fā)明的實施例還提供一種顯示裝置，包括上述觸控面板。
[0027]本發(fā)明的實施例提供一種半透半遮面板、觸控面板及其制作方法以及顯示裝置，在基板上分別涂覆負(fù)性白色光阻和正性透明光阻，形成白色光阻層和正性光阻層；進(jìn)而，對正性光阻層進(jìn)行第一次曝光，由于正性光阻層中光阻為正性，而白色光阻為負(fù)性，因此，曝光區(qū)域的光刻膠經(jīng)過顯影后被去除，未曝光的光刻膠固化后形成第一光阻圖案，此時，在第一光阻圖案下覆蓋有未曝光的白色光阻，而第一光阻圖案未覆蓋的區(qū)域內(nèi)的白色光阻被曝光；這樣，在第一光阻圖案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻層；并對黑色光阻層進(jìn)行第二次曝光，顯影后去除第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻層，此時，由于第一光阻圖案下覆蓋的白色光阻未曝光，且白色光阻為負(fù)性，因此，顯影后未曝光的白色光阻也被去除，隨之第一光阻圖案與白色光阻剝離去除，最終在基板上形成由曝光后的白色光阻和覆蓋于白色光阻上的黑色光阻組成的遮光區(qū)域，可以看出，在去除第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻層時，由于第一光阻圖案的厚度較小，不會出現(xiàn)第一光阻圖案上覆蓋的黑色光阻層難以顯影去除的問題，更不會在白色光阻的邊緣處殘留未洗掉的黑色光阻，進(jìn)而在不增加曝光次數(shù)的同時，解決了白色半透半遮面板中顏色不均的現(xiàn)象。
【附圖說明】
[0028]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0029]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖2為本發(fā)明的實施例提供的一種半透半遮面板的制作方法的流程示意圖；
[0031]圖3為本發(fā)明實施例提供的一種半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0032]圖4為本發(fā)明實施例提供的一種半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0033]圖5為本發(fā)明實施例提供的一種半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖三；
[0034]圖6為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0035]圖7為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0036]圖8為本發(fā)明實施例提供的一種半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖四；
[0037]圖9為本發(fā)明實施例提供的一種半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖五；
[0038]圖10為本發(fā)明實施例提供的一種半透半遮面板的結(jié)構(gòu)示意圖六；
[0039]圖11為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖三。
【具體實施方式】
[0040]以下描述中，為了說明而不是為了限定，提出了諸如特定系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、接口、技術(shù)之類的具體細(xì)節(jié)，以便透徹理解本發(fā)明。然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)清楚，在沒有這些具體細(xì)節(jié)的其它實施例中也可以實現(xiàn)本發(fā)明。在其它情況中，省略對眾所周知的裝置、電路以及方法的詳細(xì)說明，以免不必要的細(xì)節(jié)妨礙本發(fā)明的描述。
[0041]另外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。
[0042]本發(fā)明的實施例提供一種半透半遮面板的制作方法，如圖2所示，包括:
[0043]101、在基板上分別涂覆負(fù)性白色光阻和正性透明光阻，形成白色光阻層和正性光阻層。
[0044]具體的，如圖3所示，在基板01上分別涂覆負(fù)性的白色光阻和正性的透明光阻，形成白色光阻層11和位于該白色光阻層11之上的正性光阻層12。
[0045]其中，光阻可以分為正性光阻和負(fù)性光阻，正性光阻中照到光的部分會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部分不會溶于光阻顯影液；相應(yīng)的，負(fù)性光阻中照到光的部分不會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部分會溶于光阻顯影液。
[0046]另外，在基板01上涂覆負(fù)性白色光阻，形成白色光阻層11之后，還可以對白色光阻層11進(jìn)行軟烤(Soft bake)，以使得白色光阻層11中的溶劑蒸發(fā)去除，進(jìn)而在白色光阻層11上涂覆正性光刻膠，形成正性光阻層12，增加白色光阻層11與正性光阻層12之間的附著力。
[0047]需要說明的是，基板01可以具體為玻璃基板，或者是貼覆在玻璃基板上的柔性透明基板。而且，應(yīng)當(dāng)明確的是，本發(fā)明實施例中涉及到的半透半遮面板，是指由一定面積的遮光區(qū)域和一定面積的透光區(qū)域組成的面板，并且，本發(fā)明對遮光區(qū)域和透光區(qū)域的面積大小不作任何限制。
[0048]102、對正性光阻層進(jìn)行第一次曝光，顯影后去除曝光區(qū)域的光刻膠后形成第一光阻圖案，其中，第一光阻圖案下覆蓋有未曝光的白色光阻。
[0049]如圖4所示，在步驟102中，使用掩膜版31對步驟101中形成的正性光阻層12進(jìn)行第一次曝光，由于正性光阻層12中的光刻膠為正性，因此，曝光區(qū)域的光刻膠經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)，經(jīng)過顯影后去除曝光區(qū)域的光刻膠后，形成第一光阻圖案13。
[0050]此時，如圖5所示，由于白色光阻層11中的白色光阻為負(fù)性，因此，白色光阻層11中沒有被曝光的區(qū)域21被第一光阻圖案13覆蓋，該區(qū)域中的白色光阻可溶于光阻顯影液，而白色光阻層11中被曝光的區(qū)域22沒有被覆蓋。
[0051]可選的，在制作觸控面板中的半透半遮面板時，由于遮光區(qū)域通常設(shè)置在半透半遮面板的四周或者兩端，因此，可以選擇如圖6中所示的掩膜版31，其中，黑色為不透光區(qū)域，白色為透光區(qū)域，這樣，將透光區(qū)域設(shè)置在掩膜版311的四周，使基板01上與透光區(qū)域?qū)?yīng)的白色光阻被曝光。又或者，選擇如圖7中所示的掩膜版31，將透光