防塵薄膜組件的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及作為在制造半導體器件、IC封裝、印刷電路板、液晶顯示器或有機EL顯示器等時的防塵器使用的防塵薄膜組件，涉及其邊長大于500_的大型防塵薄膜組件。
【背景技術】
[0002]在LS1、超LSI等的半導體或液晶顯示器等的制造過程中，通過向半導體晶片或液晶用玻璃板上照射紫外線光來制作圖案，但此時存在一個問題，即如果在所使用的光掩模上附著有灰塵的話，由于這種灰塵遮擋或反射紫外線光，會導致轉印的圖案發(fā)生變形或短路，從而使質量受損。
[0003]由于這個緣故，這些作業(yè)通常是在無塵室內進行的，但盡管如此，要保持光掩模時常清潔也是困難的。因此，通常是在光掩模的表面粘貼一個作為防塵器的防塵薄膜組件之后進行曝光。這種情況下，異物不直接附著于光掩模的表面而是附著于防塵薄膜組件上，所以，在進行光刻時只要把焦點對準光掩模的圖案上，防塵薄膜組件上的異物便與轉印無關。
[0004]一般而言，上述防塵薄膜組件通過在由鋁、不銹鋼等構成的框架的上端表面上粘貼或膠合由透光性良好的硝化纖維素、醋酸纖維素或氟樹脂等構成的透明的防塵薄膜而構成，在框架的下端表面設有用于安裝于光掩模的由聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯樹脂、丙烯酸樹月旨、有機硅樹脂等構成的粘合層及以保護粘合層為目的的離型層(分離層)。
[0005]因為防塵薄膜通常為薄樹脂，所以為了將其不產生松弛地粘貼并支撐于框架上，將對框架施加適當大小的張力。因此，對于通常所使用的矩形防塵薄膜組件而言，粘貼了防塵薄膜之后的框架，會因防塵薄膜的張力作用略微產生向內側的翹曲。這種現(xiàn)象，除了在例如印刷電路板、液晶顯示器制造中所使用的框架邊長大的大型防塵薄膜組件以外，即使在半導體制造用的小型防塵薄膜組件中，由于材質或尺寸上的限制而采用低剛性的框架的防塵薄膜組件的情況下也很明顯。
[0006]另一方面，對于光掩模而言，出于低成本化的目的，要求盡可能確保曝光的區(qū)域，若不盡可能地減小如上所述的向框架內側的翹曲，則存在可利用的曝光區(qū)域減小的問題。因此，若能夠開發(fā)一種盡可能抑制翹曲量并且寬度更窄的框架使內側的可曝光面積擴大的話，成本降低效果必定很大。
[0007]然而，在實際當中，光掩模及防塵薄膜組件的外尺寸是根據(jù)曝光機而規(guī)定了的。例如，防塵薄膜組件的外形一般從光掩模的外形扣除光掩模的支撐區(qū)域、操作時所使用的區(qū)域等，設計為距外尺寸5?30mm左右被內側的尺寸。這樣的設計不僅是考慮曝光機，而是以檢驗機和防塵薄膜組件安裝裝置等與曝光工序相關的所有裝置的設計為前提的，因此，要變更這種設計實際上很困難。
[0008]因此，一直以來，人們一直在努力探討實現(xiàn)更大的曝光區(qū)域的辦法。例如，專利文獻I中記載了一種使短邊的框架寬度比長邊細的大型防塵薄膜組件用框體，不過，在例如邊長超過1000_的特大型的框架的情況下，由于該框體難于維持剛性，故存在不能適用于大型框架的問題。另外，這中框體雖然可適用于短邊，但對于長邊，由于框架發(fā)生翹曲無法使其變細，因此存在無法向短邊方向擴大曝光區(qū)域的問題。
[0009]作為解決這種翹曲的方法，例如，專利文獻2中記載了一種如下的防塵薄膜組件框架，即，在框體的至少一對的邊上，具有中央部向外側凸出的圓弧形狀部，在其兩側具有外側凹陷的圓弧形狀部，再往外側具有直線形狀部。據(jù)說通過這種形狀的防塵薄膜組件框架，能夠防止由防塵薄膜的張力引起的向框架內側的翹曲，進而可防止曝光區(qū)域的減小，不過，這個效果僅僅限于能夠通過適當?shù)脑O計而將防塵薄膜組件框架的翹曲量控制在一定值以下的情況。
[0010]但是，當試圖盡可能地減少框架寬度時，理論上來講，在任何框架寬度下都應該能夠與張力取得平衡從而得到框架的直線形狀，然而，即便是得到了這樣的形狀，剛性也無疑會降低，因此，會產生位移過大無法操作，或者些許的外力就會使防塵薄膜出現(xiàn)皺紋等的問題，所以，僅靠這個方法無法滿足實用。
[0011]專利文獻
[0012]專利文獻I日本專利第4007752號
[0013]專利文獻2日本專利第4286194號

【發(fā)明內容】

[0014]因此，鑒于上述情況，本發(fā)明的目的，是提供一種利用減小了寬度的框架來確保更大的曝光面積，并且在防塵薄膜組件的制造、運輸過程中不發(fā)生框架的變形以及起皺問題，從而能夠以所期望的尺寸精度將防塵薄膜粘貼光掩模上的防塵薄膜組件。
[0015]本發(fā)明人通過對光掩模的實際使用情況進行深入的調查研究發(fā)現(xiàn)，在光掩模的長軸方向及短軸方向的雙方向上要求更大的曝光區(qū)域的情況極為稀少，在實際的曝光作業(yè)當中所要求的幾乎都是長軸方向及短軸方向中的某個方向，因此，為了最大限度地獲得實質性的曝光區(qū)域，建議索性犧牲不用于曝光圖案的區(qū)域，從而促成了本發(fā)明。
[0016]S卩，一種防塵薄膜組件，其為至少一對邊長是大于500_的矩形的防塵薄膜組件，其特征在于:在至少一對相對邊的以邊中心為中心的邊長的40?80%的區(qū)域，該防塵薄膜組件的框架的寬度通過使框架的內側壁凹陷而變細，并且該變細的區(qū)域的框架寬度為3mm以上6mm以下。
[0017]本發(fā)明的防塵薄膜組件的進一步的特征在于，從該框架寬度細的部位的兩端到相鄰邊，或者細的部位的兩端一直到相對邊的相同部位連接有加強構件。
[0018]在上述加強構件的光掩模側的表面未設置光掩模粘合層，在防塵薄膜組件粘貼之后，該加強構件呈從光掩模表面分離的狀態(tài)。另一方面，優(yōu)選地，加強構件的防塵薄膜側的表面與框架的防塵薄膜側的表面處于同一平面上，并且，在該表面上設有防塵薄膜膠粘層，粘貼有防塵薄膜。
[0019]并且，優(yōu)選該加強構件與框架一體地加工，優(yōu)選加強構件的截面形狀為在光掩模側具有頂點的三角形或光掩模側的表面寬度變窄的梯形。優(yōu)選光掩模粘合層在防塵薄膜組件的整周上以相同的寬度設置，并且，沿著框架外周形狀而配置。
[0020]發(fā)明的效果
[0021]根據(jù)本發(fā)明，由于在邊長的40?80%的區(qū)域內通過使框架內壁凹陷而框架寬度變窄，所以能夠在維持防塵薄膜組件框架整體的剛性的同時，擴大實際使用的曝光區(qū)域，因此，不會出現(xiàn)操作時防塵薄膜起皺等的問題，從而能夠以所期望的尺寸精度將防塵薄膜粘貼到光掩模上。
【附圖說明】
[0022]圖1是表示本發(fā)明的實施方式(I)的俯視圖。
[0023]圖2是表示本發(fā)明的實施方式(I)的前視圖。
[0024]圖3是表示本發(fā)明的實施方式(I)的右視圖。
[0025]圖4是表示本發(fā)明的實施方式(I)的仰視圖。
[0026]圖5是表不本發(fā)明的實施方式⑵的俯視圖。
[0027]圖6是表示本發(fā)明的實施方式(2)的前視圖。
[0028]圖7是表示本發(fā)明的實施方式(2)的右視圖。
[0029]圖8是表示本發(fā)明的實施方式⑵的仰視圖。
[0030]圖9是表示本發(fā)明的實施方式⑵的B-B剖面圖，有(a)以及(b) 二幅圖。
[0031]圖10是表示本發(fā)明的實施方式(3)的俯視圖。
[0032]圖11是將本發(fā)明的防塵薄膜組件粘貼到光掩模的示意圖。
[0033]圖12是表示現(xiàn)有的防塵薄膜組件的示意圖。
【具體實施方式】
[0034]以下，對本發(fā)明的【具體實施方式】進行說明，但本發(fā)明并非限定于這些實施方式。
[0035]圖1?4表示本發(fā)明的防塵薄膜組件的實施方式(I)。構成防塵薄膜組件10的框架11由長邊11a、短邊Ilb組成。短邊Ilb中央部在箭頭符號A所示的區(qū)域，其寬度從內側方向朝外側方向變細。該區(qū)域A設為短邊Ilb的內尺寸長的40?80%有效，并且，要求區(qū)域A內的框架寬度為3mm以上6mm以下。
[0036]該區(qū)域A的長度優(yōu)選根據(jù)所使用的光掩模的圖案范圍適當選擇，不過，如果超過邊長的80%，則剛性顯著下降，且無法設置后述的加強構件，因此，使其為邊長的80%以下有效。另外，雖然未設定區(qū)域A的下限，當從成本方面考慮，低于40%是不可取的。再者，對于區(qū)域A內的框架寬度，若為3mm以下，在不能確保光掩模粘合層的區(qū)域和防塵薄膜