1的非顯示區(qū)域211對(duì)驅(qū)動(dòng)芯片22進(jìn)行邦定操作，這樣會(huì)使得靠近該驅(qū)動(dòng)芯片22的顯示區(qū)域的陣列基板21在第一形變區(qū)域212形成一凸起。該凸起的高度與步驟S702中陣列平坦化層23上凹槽的高度大致相同。
[0102]從圖8中可以看出在陣列基板21的凸起的位置對(duì)應(yīng)的液晶盒的厚度和其他區(qū)域的液晶盒的厚度是一致的，因此陣列基板21上的凸起并不會(huì)造成液晶盒的間隙不均，避免了色斑不良的問題的產(chǎn)生。
[0103]本優(yōu)選實(shí)施例的液晶顯示面板的制作方法結(jié)束于步驟S706。
[0104]本優(yōu)選實(shí)施例的液晶顯示面板的制作方法通過在陣列基板上設(shè)置可平坦化處理陣列基板上的凸起的陣列平坦化層，因此避免了陣列基板上的凸起造成的不良影響。
[0105]下面具體描述在陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層的流程。請(qǐng)參照?qǐng)D9，圖9為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的第二優(yōu)選實(shí)施例的步驟S702的流程圖之一。該步驟S702包括:
[0106]步驟S7021A，使用光罩，通過圖形化處理，在陣列基板21上設(shè)置第一陣列平坦化層231，其中陣列基板21的第一形變區(qū)域212并未設(shè)述第一陣列平坦化層231 ;具體如圖1OA所示，圖1OA為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的第二優(yōu)選實(shí)施例的步驟S7021A后的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0107]步驟S7022A，在設(shè)置第一陣列平坦化層231的陣列基板21上設(shè)置第二陣列平坦化層232，由于在步驟S7021A中，陣列基板21的第一形變區(qū)域212并未設(shè)置第一陣列平坦化層231，沉積第二陣列平坦化層232時(shí)，使得陣列基板21的第一形變區(qū)域212上的第二陣列平坦化層232形成一凹槽。該第二陣列平坦化層232的凹槽即為步驟S702中的陣列平坦化層23的凹槽。具體如圖1OB所示，圖1OB為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的第二優(yōu)選實(shí)施例的步驟S7022A后的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0108]下面具體描述另一種陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層的流程。請(qǐng)參照?qǐng)D11，圖11為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的第二優(yōu)選實(shí)施例的步驟S702的流程圖之二。該步驟S702包括:
[0109]步驟S7021B，在陣列基板21上設(shè)置陣列平坦化層23 ；
[0110]步驟S7022B，使用半色調(diào)光罩，對(duì)陣列平坦化層23進(jìn)行圖形化處理，使得陣列基板21的第一形變區(qū)域212上的陣列平坦化層23形成一凹槽。具體如圖12所示，圖12為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的第二優(yōu)選實(shí)施例的步驟S7022B后的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0111]本優(yōu)選實(shí)施例的液晶顯示面板的制作方法通過陣列基板的陣列平坦化層，對(duì)由于驅(qū)動(dòng)芯片邦定產(chǎn)生的陣列基板的凸起進(jìn)行平坦化，避免了液晶盒的間隙不均。
[0112]本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法通過彩膜基板的彩膜平坦化層或陣列基板的陣列平坦化層，對(duì)由于驅(qū)動(dòng)芯片邦定產(chǎn)生的陣列基板的凸起進(jìn)行平坦化，避免了液晶盒的間隙不均；解決了現(xiàn)有的液晶顯示面板的制作方法中由于驅(qū)動(dòng)芯片的邦定操作，導(dǎo)致液晶盒的部分間隙變小，從而容易出現(xiàn)色斑不良的技術(shù)問題。
[0113]綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，包括: 在第一基板襯底上制作陣列元件，以形成陣列基板； 在第二基板襯底上制作黑色矩陣以及彩膜色阻，以形成彩膜基板； 在所述彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層，并在所述彩膜基板的第二形變區(qū)域設(shè)置一所述彩膜平坦化層的凹槽； 使用所述陣列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒內(nèi)注入液晶分子；以及 在所述陣列基板的非顯示區(qū)域設(shè)置驅(qū)動(dòng)芯片，以在所述陣列基板的第一形變區(qū)域形成一所述陣列基板的凸起，其中所述陣列基板的第一形變區(qū)域的位置和所述彩膜基板的第二形變區(qū)域的位置相對(duì)應(yīng)，所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在第一基板襯底上制作陣列元件，以形成陣列基板的步驟之后還包括: 在所述陣列基板的顯示區(qū)域設(shè)置第一配向?qū)印?br>3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在第一基板襯底上制作陣列元件，以形成陣列基板的步驟之后還包括: 在所述陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層；以及 在所述陣列基板的顯示區(qū)域的所述陣列平坦化層上設(shè)置第一配向?qū)印?br>4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層，并在所述彩膜基板的第二形變區(qū)域設(shè)置一所述彩膜平坦化層的凹槽的步驟之后還包括: 在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化層上設(shè)置第二配向?qū)印?br>5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層，并在所述彩膜基板的第二形變區(qū)域設(shè)置一所述彩膜平坦化層的凹槽的步驟包括: 在所述彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層；以及 使用半色調(diào)光罩，對(duì)所述彩膜平坦化層進(jìn)行圖形化處理，使得所述彩膜基板的第二形變區(qū)域形成一所述彩膜平坦化層的凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層，并在所述彩膜基板的第二形變區(qū)域設(shè)置一所述彩膜平坦化層的凹槽的步驟包括: 通過圖形化處理，在所述彩膜基板上設(shè)置第一彩膜平坦化層，其中所述彩膜基板的第二形變區(qū)域并未設(shè)置所述第一彩膜平坦化層；以及 在設(shè)置所述第一彩膜平坦化層的所述彩膜基板上設(shè)置第二彩膜平坦化層，使得所述彩膜基板的第二形變區(qū)域形成一所述第二彩膜平坦化層的凹槽。
7.一種液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，包括: 在第一基板襯底上制作顯示元件，以形成陣列基板； 在所述陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層，并通過圖像化處理使得所述陣列基板的第一形變區(qū)域上的所述陣列平坦化層形成一凹槽； 在第二基板襯底上制作黑色矩陣以及彩膜色阻，以形成彩膜基板； 在所述彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層；以及 使用所述陣列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒內(nèi)注入液晶分子； 在所述陣列基板的非顯示區(qū)域設(shè)置驅(qū)動(dòng)芯片，以在所述陣列基板的第一形變區(qū)域形成一所述陣列基板的凸起；其中所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層，并通過圖像化處理使得所述陣列基板的第一形變區(qū)域上的所述陣列平坦化層形成一凹槽的步驟之后還包括: 在所述陣列基板的顯示區(qū)域的所述陣列平坦化層上設(shè)置第一配向?qū)樱? 所述在所述彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層的步驟之后還包括: 在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化層上設(shè)置第二配向?qū)印?br>9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層，并通過圖像化處理使得所述陣列基板的第一形變區(qū)域上的所述陣列平坦化層形成一凹槽的步驟包括: 在所述陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層；以及 使用半色調(diào)光罩，對(duì)所述陣列平坦化層進(jìn)行圖形化處理，使得所述陣列基板的第一形變區(qū)域上的所述陣列平坦化層形成一凹槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述陣列基板上設(shè)置陣列平坦化層，并通過圖像化處理使得所述陣列基板的第一形變區(qū)域上的所述陣列平坦化層形成一凹槽的步驟包括: 通過圖形化處理，在所述陣列基板上設(shè)置第一陣列平坦化層，其中所述陣列基板的第一形變區(qū)域并未設(shè)置所述第一陣列平坦化層；以及 在設(shè)置所述第一陣列平坦化層的所述陣列基板上設(shè)置第二陣列平坦化層，使得所述陣列基板的第一形變區(qū)域上的所述陣列平坦化層形成一凹槽。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的制作方法，其包括：在第一基板襯底上制作陣列元件，以形成陣列基板；在第二基板襯底上制作黑色矩陣以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；在彩膜基板上設(shè)置彩膜平坦化層，并在彩膜基板的第二形變區(qū)域設(shè)置一彩膜平坦化層的凹槽；使用所述陣列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在液晶盒內(nèi)注入液晶分子；以及在陣列基板的非顯示區(qū)域設(shè)置驅(qū)動(dòng)芯片，以在陣列基板的第一形變區(qū)域形成一所述陣列基板的凸起。本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法通過彩膜基板的彩膜平坦化層或陣列基板的陣列平坦化層，對(duì)由于驅(qū)動(dòng)芯片邦定產(chǎn)生的陣列基板的凸起進(jìn)行平坦化，避免了液晶盒的間隙不均。
【IPC分類】G02F1-1362, G02F1-1333, G02F1-1335
【公開號(hào)】CN104570455
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410803262
【發(fā)明人】葉巖溪
【申請(qǐng)人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年12月19日