本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說，涉及一種顯示面板和顯示裝置。

背景技術(shù)：

顯示器具有機(jī)身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點(diǎn)，得到了廣泛的應(yīng)用?，F(xiàn)有市場上的顯示器大部分為背光型顯示器，其包括顯示面板及背光模組(backlight module)。顯示面板的工作原理是在兩片平行的基板當(dāng)中放置液晶分子，并在兩片基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶分子的旋轉(zhuǎn)方向，以將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。

其中，薄膜晶體管顯示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD)由于具有低的功耗、優(yōu)異的畫面品質(zhì)以及較高的生產(chǎn)良率等性能，目前已經(jīng)逐漸占據(jù)了顯示領(lǐng)域的主導(dǎo)地位。同樣，薄膜晶體管顯示器包含顯示面板和背光模組，顯示面板包括彩膜基板(Color Filter Substrate，CF Substrate，也稱彩色濾光片基板)和薄膜晶體管陣列基板(Thin Film Transistor Substrate，TFT Substrate)，上述基板的相對內(nèi)側(cè)存在透明電極。兩片基板之間夾一層液晶分子(Liquid Crystal，LC)。顯示面板是通過電場對液晶分子取向的控制，改變光的偏振狀態(tài)，并藉由偏光板實(shí)現(xiàn)光路的穿透與阻擋，實(shí)現(xiàn)顯示的目的。

彩色光阻設(shè)置在陣列基板(Color Filter On TFT，COT)的技術(shù)近年來被廣泛的應(yīng)用于薄膜晶體管顯示器產(chǎn)品上，其工藝有利于大尺寸及曲面式顯示器應(yīng)用的發(fā)展。

在COT技術(shù)于薄膜晶體管陣列基板工藝中，金屬層容易斷線，進(jìn)而造成基板報廢，增加報廢成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種減少金屬層斷線，提高良品率的顯示面板。

此外，本發(fā)明還提供一種包括以上所述顯示面板的顯示裝置。

本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的：一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括：

基板；

主動開關(guān)陣列；

彩色光阻層，形成于主動開關(guān)陣列上；

所述主動開關(guān)陣列，包括金屬層，所述金屬層設(shè)置在基板上，所述基板上設(shè)有保護(hù)層，所述保護(hù)層至少設(shè)置兩層，所述保護(hù)層覆蓋于所述金屬層上，所述保護(hù)層對所述金屬層和所述彩色光阻層進(jìn)行分隔，當(dāng)需要對所述彩色光阻層進(jìn)行重工時，所述保護(hù)層能夠更好的對所述金屬層進(jìn)行保護(hù)。

其中，所述保護(hù)層包括氧化硅層或氮化硅層，金屬層上沉積至少兩層氧化硅層或氮化硅層，從而更好的對金屬層上進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺裸露在保護(hù)層外，使得保護(hù)層能夠更好的對金屬層進(jìn)行保護(hù)，氧化硅的化學(xué)性質(zhì)比較穩(wěn)定，不會與氫氧化鉀溶液進(jìn)行反應(yīng)，有效的避免清洗劑對金屬層的腐蝕破壞，能夠非常好的對金屬層進(jìn)行保護(hù)；氮化硅層是一種超硬物質(zhì)，且氮化硅材料耐磨損，高溫時抗氧化，還能抵抗冷熱沖擊；而且通過進(jìn)行多次化學(xué)氣相沉積形成至少兩層氧化硅層，中途不需要額外更換的原材料，也不需要額外更換設(shè)備，降低原材料成本、存儲成本，物料清單不需要增加新的材料，方便流程管理和采購；同時化學(xué)氣相沉積技術(shù)成熟，能夠很好的控制氮化硅的使用量，進(jìn)一步的減低了生產(chǎn)制造成本，使得顯示面板具有更強(qiáng)的市場競爭力。。

其中，所述保護(hù)層包括氮化硅層和氧化硅層；所述氮化硅層和氧化硅層堆疊設(shè)置，通過氮化硅層和氧化硅層堆疊設(shè)置，使得保護(hù)層能夠更好的附著在金屬層上，能夠更好的對金屬層上的金屬毛刺進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺裸露在保護(hù)層外，使得保護(hù)層能夠更好的對金屬層進(jìn)行保護(hù)，能夠非常有效的避免清洗劑對液晶面板的金屬層的直接腐蝕，使得金屬層能夠保持完好，從而避免產(chǎn)生斷線問題，進(jìn)一步的提高了顯示面板的耐用性。

其中，所述保護(hù)層包括至少兩層氮化硅層和兩層氧化硅層；所述氮化硅層和氧化硅層交替堆疊設(shè)置，使得保護(hù)層能夠更好的附著在金屬層上，能夠更好的對金屬層上的金屬毛刺進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺裸露在保護(hù)層外，使得保護(hù)層能夠更好的對金屬層進(jìn)行保護(hù)。。

其中，所述金屬層包括第一金屬層；所述第一金屬上覆蓋有所述保護(hù)層；所述彩色光阻層直接覆蓋于所述保護(hù)層上。

其中，所述第一金屬層包括源極金屬層和漏極金屬層，所述源極金屬層與所述顯示面板的源極驅(qū)動連接；所述漏極金屬層與所述顯示面板的像素電極連接；所述保護(hù)層覆蓋于所述源極金屬層和/或漏極金屬層上。

其中，所述第一金屬層采用鋁或鋁合金制成，鋁或鋁合金具有較好的導(dǎo)電性能和較低的電阻特性，能滿足顯示面板的需求，而且鋁或鋁合金的價格相對便宜，供貨充足，方便采購，進(jìn)一步的降低了顯示面板的制造成本，使得顯示面板具有更強(qiáng)的市場競爭力。

其中，所述金屬層還包括第二金屬層，所述第二金屬層底部寬度大于頂部，所述第一金屬層與顯示面板的行掃描驅(qū)動連接，第二金屬層底部寬度大于頂部，使得第二金屬層的制作更加的方便，成型更加穩(wěn)定，良品率更高，而且使得第二金屬層底部的接觸面積更大，粘粘效果更好，固定更加的牢固。

其中，所述第二金屬層與所述第一金屬層之間設(shè)有絕緣層，所述絕緣層材料為氧化硅或氮化硅，與后續(xù)步驟設(shè)置保護(hù)層的材料和方法相同，在后續(xù)設(shè)置保護(hù)層時，不需要額外更換的原材料，也不需要額外更換設(shè)備，降低原材料成本、存儲成本，物料清單不需要增加新的材料，方便流程管理和采購。。

根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，本發(fā)明還公開了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括背光模組和如上所述的顯示面板。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)效果是：

發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，COT技術(shù)的顯示面板，當(dāng)發(fā)現(xiàn)制程出現(xiàn)問題時，會利用清洗劑對制程出現(xiàn)問題的區(qū)域進(jìn)行重工剝除，但是在重工工藝中，清洗劑會對液晶面板的金屬層進(jìn)行腐蝕，進(jìn)而產(chǎn)生斷線問題，現(xiàn)有做法傾向不進(jìn)行重工而是直接將玻璃報廢，進(jìn)而造成報廢成本上升。本發(fā)明通過保護(hù)層的設(shè)置，將保護(hù)層覆蓋于金屬層上，采用COT技術(shù)對基板進(jìn)行制程出現(xiàn)問題的區(qū)域重工時，保護(hù)層能夠非常有效的避免清洗劑對液晶面板的金屬層的直接腐蝕，使得金屬層能夠保持完好，從而避免產(chǎn)生斷線問題，進(jìn)而提升COT技術(shù)薄膜晶體管陣列基板的重工成功率而降低報廢成本；而且金屬層的側(cè)邊從微結(jié)構(gòu)來看都有金屬毛刺的現(xiàn)象，通過設(shè)置至少兩層保護(hù)層，能夠更好的對金屬層上的金屬毛刺進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺裸露在保護(hù)層外，使得保護(hù)層能夠更好的對金屬層進(jìn)行保護(hù)；同時采用保護(hù)層的設(shè)置能夠很好的對制程出現(xiàn)問題的區(qū)域進(jìn)行重工修復(fù)，而不需要將薄膜晶體管陣列基板進(jìn)行報廢處理，更加的綠色環(huán)保。

附圖說明

圖1是本發(fā)明現(xiàn)有設(shè)計(jì)的顯示面板的剖面示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的保護(hù)層剖面示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的保護(hù)層另一剖面示意圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的保護(hù)層另一剖面示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的保護(hù)層另一剖面示意圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的第二金屬的剖面示意圖。

其中：1、基板，2、金屬層，21、第一金屬層，211、源極金屬層，212、漏極金屬層，213、金屬毛刺，22、第二金屬層，221、第一高附著金屬層，222、中間導(dǎo)電層，223、第二高附著金屬層，3、保護(hù)層，31、第一保護(hù)層，32、第二保護(hù)層，4、絕緣層，5、半導(dǎo)體層，6，溝道。

具體實(shí)施方式

這里所公開的具體結(jié)構(gòu)和功能細(xì)節(jié)僅僅是代表性的，并且是用于描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例的目的。但是本發(fā)明可以通過許多替換形式來具體實(shí)現(xiàn)，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋成僅僅受限于這里所闡述的實(shí)施例。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。另外，術(shù)語“包括”及其任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

這里所使用的術(shù)語僅僅是為了描述具體實(shí)施例而不意圖限制示例性實(shí)施例。除非上下文明確地另有所指，否則這里所使用的單數(shù)形式“一個”、“一項(xiàng)”還意圖包括復(fù)數(shù)。還應(yīng)當(dāng)理解的是，這里所使用的術(shù)語“包括”和/或“包含”規(guī)定所陳述的特征、整數(shù)、步驟、操作、單元和/或組件的存在，而不排除存在或添加一個或更多其他特征、整數(shù)、步驟、操作、單元、組件和/或其組合。

下面結(jié)合附圖和較佳的實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

如圖1所示是一種薄膜晶體管的結(jié)構(gòu)，在COT技術(shù)于薄膜晶體管陣列基板工藝中，當(dāng)發(fā)現(xiàn)金屬層2上的制程出現(xiàn)問題時，會利用清洗劑對制程出現(xiàn)問題的區(qū)域進(jìn)行重工剝除，清洗劑采用氫氧化鉀溶液(KOH溶液)。

為此，申請人設(shè)計(jì)了一款未公開的顯示面板，如圖2所示，在重工工藝以后，發(fā)明人對薄膜晶體管的結(jié)構(gòu)進(jìn)行研究發(fā)現(xiàn)：金屬層2的側(cè)邊從微結(jié)構(gòu)來看都有金屬毛刺213的現(xiàn)象，設(shè)置一層保護(hù)層3覆蓋在金屬層2上，保護(hù)層3能夠?qū)饘倜?13進(jìn)行很好的覆蓋，但還是有極少部分的金屬毛刺213貫穿保護(hù)層3伸出到保護(hù)層3的表面，導(dǎo)致金屬毛刺213裸露保護(hù)層3上，對基板1進(jìn)行重工時，清洗劑對腐蝕裸露在保護(hù)層3上的金屬毛刺213，通過對貫穿保護(hù)層3的金屬毛刺213的不斷的腐蝕，使得保護(hù)層3形成腐蝕通道，清洗劑沿著腐蝕通道到達(dá)金屬層2，對金屬層2進(jìn)行腐蝕，進(jìn)而導(dǎo)致金屬層2之間相互斷裂，

發(fā)明人進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn)，由于金屬毛刺的存在，設(shè)置一層保護(hù)層3不能很好的粘附在金屬層2上，而且清洗劑對金屬層2進(jìn)行腐蝕而導(dǎo)致斷線問題。因此，發(fā)明人提成一種新的技術(shù)方案，可以進(jìn)一步減少金屬層斷線問題，提升良品率。

下面參考圖3至圖6描述本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖。

如圖3所示，所述顯示面板包括基板1和金屬層2；所述金屬層2設(shè)置在基板1上，所述基板1上設(shè)有保護(hù)層3，本發(fā)明通過保護(hù)層3的設(shè)置，將保護(hù)層3覆蓋于金屬層2上，采用COT技術(shù)對基板1上制程出現(xiàn)問題的區(qū)域進(jìn)行重工時，保護(hù)層3能夠非常有效的避免清洗劑對液晶面板的金屬層2的直接腐蝕，使得金屬層2能夠保持完好，從而減少產(chǎn)生斷線問題，進(jìn)而提升COT技術(shù)薄膜晶體管陣列基板1的重工成功率而降低報廢成本。所述保護(hù)層3設(shè)置兩層，分別為第一保護(hù)層31和第二保護(hù)層32，第一保護(hù)層31覆蓋設(shè)在基板1上，第二保護(hù)層32覆蓋設(shè)在第一保護(hù)層上，由于金屬層2的側(cè)邊從微結(jié)構(gòu)來看都有金屬毛刺213的現(xiàn)象，通過設(shè)置至少兩層保護(hù)層3，能夠更好的對金屬層2上的金屬毛刺213進(jìn)行覆蓋，如圖3所示，第一保護(hù)層31能夠非常有效的對金屬毛刺213進(jìn)行覆蓋，第二保護(hù)層32能夠非常有效的對裸露在第一保護(hù)層31上的金屬毛刺213進(jìn)行覆蓋，非有效的防止金屬毛刺213裸露在保護(hù)層3外，使得保護(hù)層3能夠更好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)；同時采用保護(hù)層3的設(shè)置能夠很好的對制程出現(xiàn)問題的區(qū)域進(jìn)行重工修復(fù)，而不需要將薄膜晶體管陣列基板1進(jìn)行報廢處理，更加的綠色環(huán)保。

其中，所述保護(hù)層3為氧化硅層，即保護(hù)層3采用氧化硅材料制成，通過化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，CVD)技術(shù)將氧化硅沉積到金屬層2上，在金屬層2上進(jìn)行一次化學(xué)氣相沉積后，等待第一層氧化硅層冷卻凝固形成第一保護(hù)層31，在第一保護(hù)層31進(jìn)行第二次化學(xué)氣相沉積后形成第二保護(hù)層32，重復(fù)以上步驟，使得金屬層2上沉積至少兩層氧化硅層，從而更好的對金屬層2上進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺213裸露在保護(hù)層3外，使得保護(hù)層3能夠更好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)，氧化硅的化學(xué)性質(zhì)比較穩(wěn)定，不會與氫氧化鉀溶液進(jìn)行反應(yīng)，有效的避免清洗劑對金屬層2的腐蝕破壞，能夠非常好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)；而且通過進(jìn)行多次化學(xué)氣相沉積形成至少兩層氧化硅層，中途不需要額外更換的原材料，也不需要額外更換設(shè)備，降低原材料成本、存儲成本，物料清單不需要增加新的材料，方便流程管理和采購，同時化學(xué)氣相沉積技術(shù)成熟，能夠很好的控制氧化硅的使用量，進(jìn)一步的減低了生產(chǎn)制造成本，使得顯示面板具有更強(qiáng)的市場競爭力。

當(dāng)然也可以是，所述保護(hù)層3為氮化硅層，即保護(hù)層3采用氮化硅材料制成，通過化學(xué)氣相沉積技術(shù)將氮化硅沉積到金屬層2上，在金屬層2上進(jìn)行一次化學(xué)氣相沉積后，等待第一層氮化硅層冷卻凝固形成第一保護(hù)層31，在第一保護(hù)層31進(jìn)行第二次化學(xué)氣相沉積后形成第二保護(hù)層32，重復(fù)以上步驟，使得金屬層2上沉積至少兩層氮化硅層，從而更好的對金屬層2上進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺213裸露在保護(hù)層3外，使得保護(hù)層3能夠更好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)，氮化硅不會與氫氧化鉀溶液進(jìn)行反應(yīng)，有效的避免清洗劑對金屬層2的腐蝕破壞，能夠非常好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)，氮化硅是一種超硬物質(zhì)，且氮化硅材料耐磨損，高溫時抗氧化，還能抵抗冷熱沖擊，而且通過進(jìn)行多次化學(xué)氣相沉積形成至少兩層氮化硅層，中途不需要額外更換的原材料，也不需要額外更換設(shè)備，降低原材料成本、存儲成本，物料清單不需要增加新的材料，方便流程管理和采購，同時化學(xué)氣相沉積技術(shù)成熟，能夠很好的控制氮化硅的使用量，進(jìn)一步的減低了生產(chǎn)制造成本，使得顯示面板具有更強(qiáng)的市場競爭力。

如圖4所示，圖示中的最外層采用陰影的畫法，只是區(qū)分保護(hù)層3采用氮化硅層和氧化硅層堆疊，且不特指是氮化硅層或氧化硅，作為本發(fā)明的又一個實(shí)施例，所述保護(hù)層3包括氮化硅層和氧化硅層，通過化學(xué)氣相沉積技術(shù)將氧化硅沉積到金屬層2上，等待氧化硅層冷卻凝固形成第一保護(hù)層31，然后化學(xué)氣相沉積技術(shù)將氮化硅沉積到氧化硅層上形成第二保護(hù)層32，當(dāng)然也可以是先設(shè)置氮化硅層作為第一保護(hù)層31，再將氧化硅層覆蓋在氮化硅層上形成第二保護(hù)層32，通過氮化硅層和氧化硅層堆疊設(shè)置，使得保護(hù)層3能夠更好的附著在金屬層2上，能夠更好的對金屬層2上的金屬毛刺213進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺213裸露在保護(hù)層3外，使得保護(hù)層3能夠更好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)，能夠非常有效的避免清洗劑對液晶面板的金屬層2的直接腐蝕，使得金屬層2能夠保持完好，從而避免產(chǎn)生斷線問題，進(jìn)一步的提高了顯示面板的耐用性。

如圖5所示，圖示中未示意出金屬毛刺213，金屬毛刺213的示意可參照圖3或圖4，作為本發(fā)明的另外一個實(shí)施例，所述保護(hù)層3包括至少兩層氮化硅層和兩層氧化硅層；通過化學(xué)氣相沉積技術(shù)將氧化硅沉積到金屬層2上，等待氧化硅層冷卻凝固，然后化學(xué)氣相沉積技術(shù)將氮化硅沉積到氧化硅層上，再在氮化硅層上設(shè)置第二層氧化硅層，最后在第二層氧化硅層上設(shè)置第二層氮化硅層，當(dāng)然也可以是先設(shè)置氮化硅層，再將氧化硅層覆蓋在氮化硅層上，使得氮化硅層和氧化硅層交替堆疊設(shè)置，使得保護(hù)層3能夠更好的附著在金屬層2上，能夠更好的對金屬層2上的金屬毛刺213進(jìn)行覆蓋，非常有效的防止金屬毛刺213裸露在保護(hù)層3外，使得保護(hù)層3能夠更好的對金屬層2進(jìn)行保護(hù)。

金屬層2包括第一金屬層21；第一金屬上覆蓋有保護(hù)層3；彩色光阻層直接覆蓋于保護(hù)層3上，通過保護(hù)層3將彩色光阻層與第一金屬層21進(jìn)行分隔開，當(dāng)發(fā)現(xiàn)彩色光阻層其中一層或多層的制程出現(xiàn)問題時，會利用清洗劑對彩色光阻層進(jìn)行重工剝除，保護(hù)層3能夠非常好的對第一金屬層21進(jìn)行保護(hù)，保護(hù)層3能夠非常有效的避免清洗劑對液晶面板的金屬層2的直接腐蝕，使得金屬層2能夠保持完好，從而避免產(chǎn)生斷線問題；同時采用保護(hù)層3的設(shè)置能夠很好的對彩色光阻層進(jìn)行重工修復(fù)，而不需要將薄膜晶體管陣列基板1進(jìn)行報廢處理，更加的綠色環(huán)保。

第一金屬層21包括源極金屬層211和漏極金屬層212，源極金屬層211與顯示面板的源極驅(qū)動連接；漏極金屬層212與顯示面板的像素電極連接；保護(hù)層3覆蓋于源極金屬層211和/或漏極金屬層212上。

第一金屬層21采用鋁或鋁合金制成，鋁或鋁合金具有較好的導(dǎo)電性能和較低的電阻特性，能滿足顯示面板的需求，而且鋁或鋁合金的價格相對便宜，供貨充足，方便采購，進(jìn)一步的降低了顯示面板的制造成本，使得顯示面板具有更強(qiáng)的市場競爭力。

其中，金屬層2還包括第二金屬層22，第二金屬層22底部寬度大于頂部，第一金屬層21與顯示面板的行掃描驅(qū)動連接，第二金屬層22底部寬度大于頂部，使得第二金屬層22的制作更加的方便，成型更加穩(wěn)定，良品率更高，而且使得第二金屬層22底部的接觸面積更大，粘粘效果更好，固定更加的牢固，其中第二金屬層22的截面優(yōu)選為梯形，特別是等腰梯形。

如圖6所示，顯示面板與行掃描驅(qū)動連接的第二金屬層22采用三層結(jié)構(gòu)，從下往上依次為與基板1連接的第一高附著金屬層221、中間導(dǎo)電層222和第二高附著金屬層223。中間導(dǎo)電層222可以采用較低電阻特性的金屬，有效地降低顯示面板第二金屬層22的電阻與寄生電容，第二金屬層22的第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223則采用附著性能較好的金屬，這樣中間導(dǎo)電層222可以很好的與第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223粘粘固定，同時中間導(dǎo)電層222還可以通過第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223與上下層粘粘固定，粘粘性更好，不容易導(dǎo)致中間導(dǎo)電層222與上下層剝離，即能很好的滿足顯示面板第二金屬層22的電性性能，又能很好的與上下層粘粘固定，提升產(chǎn)品良率，降低生產(chǎn)成本。

其中，中間導(dǎo)電層222的厚度大于第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223的厚度。中間導(dǎo)電層222的厚度大于第一高附著金屬層221的厚度，也大于第二高附著金屬層223的厚度，中間導(dǎo)電層222可以采用較低電阻特性的金屬，厚度更大能有效地降低面板第二金屬層22的電阻與寄生電容，第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223則采用附著性能較好的金屬，中間導(dǎo)電層222通過第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223與上下層連接，粘粘性更好，不容易導(dǎo)致中間導(dǎo)電層222與上下層剝離，第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223主要是用來與上下層粘粘厚度小可以節(jié)約成本,可選的，中間導(dǎo)電層222的厚度可以大于第一高附著金屬層221加第二高附著金屬層223的厚度。

可選的，其中，中間導(dǎo)電層222底部寬度大于頂部，第一高附著金屬層221寬度與中間導(dǎo)電層222底部寬度相同，第二高附著金屬層223寬度與中間導(dǎo)電層222頂部寬度相同。中間導(dǎo)電層222底部寬度大于頂部，方便制作，成型穩(wěn)定，良品率高，第一高附著金屬層221寬度與中間導(dǎo)電層222底部寬度相同，第二高附著金屬層223寬度與中間導(dǎo)電層222頂部寬度相同，制作方便，中間導(dǎo)電層222與第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223接觸面積最大，粘粘效果更好，其中中間導(dǎo)電層222的截面優(yōu)選為梯形，特別是等腰梯形。

其中，中間導(dǎo)電層222采用銅、鋁、銀、金、鉻、鉬或上述金屬的合金制成。銅、鋁、銀、金、鉻、鉬或上述金屬的合金具有較好的導(dǎo)電性能和較低的電阻特性，能滿足顯示面板的需求，中間導(dǎo)電層222優(yōu)選銅或銅合金，性價比最高。

其中，第一高附著金屬層221和第二高附著金屬層223均采用鉬或鉬合金。鉬或鉬合金能實(shí)現(xiàn)較好的附著性，一邊能與中間導(dǎo)電層222的金屬如銅、鋁、銀、金、鉻、鉬等較好的粘粘，另一邊能與顯示面板的其他層如基板1、光阻層、絕緣層4等較好的粘粘，選材方便，制作技術(shù)成熟。不需要額外的原材料，降低原材料成本、存儲成本，物料清單不需要增加新的材料，方便流程管理和采購，不需要額外的設(shè)備設(shè)置第二高附著金屬層223，可以與第一高附著金屬層221共用一套設(shè)備，后期蝕刻也不需要額外的設(shè)備和材料。

第二金屬層22與第一金屬層21之間設(shè)有絕緣層4，絕緣層4材料為氧化硅或氮化硅，可以采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)設(shè)置絕緣層4，化學(xué)氣相沉積技術(shù)成熟，能夠很好的控制氮化硅的使用量，進(jìn)一步的減低了生產(chǎn)制造成本，與后續(xù)步驟設(shè)置保護(hù)層3的材料和方法相同，在后續(xù)在設(shè)置保護(hù)層3時，不需要額外更換的原材料，也不需要額外更換設(shè)備，降低原材料成本、存儲成本，物料清單不需要增加新的材料，方便流程管理和采購。

其中，絕緣層4上設(shè)有半導(dǎo)體層5，源極和漏極分別設(shè)在半導(dǎo)體層5兩端上，源極和漏極之間設(shè)有溝道6，溝道6底部為半導(dǎo)體層5，溝道6的底部和側(cè)壁上均設(shè)有保護(hù)層3，進(jìn)一步的減低了生產(chǎn)制造成本，而且在設(shè)置保護(hù)層3時，不需要額外更換的原材料，也不需要額外更換設(shè)備。

作為本發(fā)明的再一個實(shí)施例，本實(shí)施例公開了一種顯示裝置背光模組和顯示面板。關(guān)于顯示面板的具體結(jié)構(gòu)和連接關(guān)系可參見圖1至圖6，在此不再一一詳述。

以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。