專利名稱：用于光配向工藝的曝光設(shè)備和制造液晶顯示器的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及用于光配向(photoalignment)エ藝的曝光設(shè)備和制造液晶顯示器的方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器是最廣泛應(yīng)用的平板顯示器類型之一，通常包括上和下顯示面板以及置于其間的液晶層，上和下顯示面板上設(shè)置有場(chǎng)產(chǎn)生電極諸如像素電極和公共電極。液晶顯示器通過施加電壓到場(chǎng)產(chǎn)生電極而在液晶層中產(chǎn)生電場(chǎng)并通過所產(chǎn)生的電場(chǎng)決定液晶層的液晶分子的方向，由此控制入射光的偏振來顯示圖像。在各種液晶顯示器中，垂直配向(“VA”)模式液晶顯示器(其中當(dāng)不產(chǎn)生電場(chǎng)時(shí)液 晶分子的縱軸相對(duì)于上和下顯示面板垂直配向)由于大的對(duì)比度和寬的標(biāo)準(zhǔn)視角已得到廣泛研究。VA模式液晶顯示器在單元像素中可形成多個(gè)域(domain)，其中液晶的排列方向彼此不同，從而實(shí)現(xiàn)寬視角。如上所述，已經(jīng)開發(fā)了光配向エ藝，用于通過向包括光反應(yīng)材料的配向?qū)诱丈渲T如紫外線的光來控制液晶分子的排列方向和排列角度，從而在單元像素中形成多個(gè)域。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供在液晶顯示器的光配向エ藝中使用至少兩個(gè)光掩模的曝光設(shè)備以及用于使用該曝光設(shè)備制造液晶顯示器的方法。本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供一種用于光配向エ藝的曝光設(shè)備，其中該曝光設(shè)備包括第一光掩模，包括多個(gè)透射部分；及第二光掩模，包括多個(gè)透射部分，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重疊(overlap),使得第一光掩模和第二光掩模的姆個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，第一光掩模的重疊區(qū)域以及第二光掩模的重疊區(qū)域的至少之ー包括至少兩個(gè)子區(qū)域，且透射部分的形狀或布置在至少兩個(gè)子區(qū)域中彼此不同。在一示例性實(shí)施例中，至少兩個(gè)子區(qū)域可包括至少ー個(gè)第一子區(qū)域和至少ー個(gè)第ニ子區(qū)域，與第一光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域及與第ニ光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可彼此重疊，且與第一光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域及與第二光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可彼此不重疊。在一示例性實(shí)施例中，至少ー個(gè)第一子區(qū)域和至少ー個(gè)第二子區(qū)域可交替布置。在一示例性實(shí)施例中，第一光掩模的重疊區(qū)域的一個(gè)透射部分的面積與第二光掩模的重疊區(qū)域的一個(gè)透射部分的面積的總和可實(shí)質(zhì)上等于或大于第一光掩模或第二光掩模的非重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分的面積。在一示例性實(shí)施例中，第一光掩模的重疊區(qū)域的一個(gè)透射部分的面積與第二光掩模的重疊區(qū)域的一個(gè)透射部分的面積的總和可以是第一光掩模的非重疊區(qū)域中的ー個(gè)透射部分的面積的約100%至約150%。在一不例性實(shí)施例中，第一光掩模的透射部分可沿第一方向布置，且第一光掩模和第二光掩模中至少ー個(gè)的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的透射部分的沿第二方向的長(zhǎng)度可沿第一方向逐漸改變，其中第二方向垂直于第一方向。在一示例性實(shí)施例中，第一光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的透射部分和第ニ光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的透射部分可沿第一方向交替布置。在一示例性實(shí)施例中，該設(shè)備還可包括第一光源，向第一光掩模提供光；及第二光源，向第二光掩模提供光。在一例性實(shí)施例中,第一光源和第二光源可通過第一光掩模和第二光掩模傾斜地照射光。本發(fā)明的另ー示例性實(shí)施例提供一種用于光配向エ藝的曝光設(shè)備，其中該曝光設(shè)備包括第一光掩模，包括多個(gè)透射部分；及第二光掩模，包括多個(gè)透射部分，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重疊，使得第一光掩模和第二光掩模的每個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，第一光掩模和第二光掩模的每個(gè)包括第一部分和第二部分，與第一部分對(duì)應(yīng)的照射部分不同干與第二部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域，透過第一部分中的透射部分的光的照射方向不同于透過第二部分中的透射部分的光的照射方向，且第一光掩?；虻诙庋谀５闹丿B區(qū)域中的透射部分的形狀或布置不同于第一光掩?；虻诙庋谀５姆侵丿B區(qū)域中的透射部分的形狀或布置。在一示例性實(shí)施例中，與第一光掩模的重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模的重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可彼此重疊。在一示例性實(shí)施例中，與第一光掩模的重疊區(qū)域中的透射部分的一部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模的重疊區(qū)域中的透射部分的一部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可不重疊。
在一示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域可包括至少兩個(gè)子區(qū)域，且透射部分的形狀或布置在至少兩個(gè)子區(qū)域中彼此不同。本發(fā)明的又一示例性實(shí)施例提供一種用于光配向エ藝的曝光設(shè)備，其中該曝光設(shè)備包括第一光掩模，包括沿第一方向布置的多個(gè)透射部分；及第二光掩模，包括沿第一方向布置的多個(gè)透射部分，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重疊，使得第一光掩模和所述第二光掩模的每個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，第一光掩模和第二光掩模的至少之ー的透射部分關(guān)于第一方向非対稱，且在第一光掩模或第二光掩模的重疊區(qū)域中的透射部分的形狀或布置與第一光掩?；虻诙庋谀５姆侵丿B區(qū)域中的透射部分的形狀或布置不同。在一示例性實(shí)施例中，與第一光掩模的重疊區(qū)域中的透射部分的一部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模的重疊區(qū)域中的透射部分的一部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可不重疊。 在一示例性實(shí)施例中，第一光掩模的重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分和第二光掩模的重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分的組合形狀可與第一光掩?；虻诙庋谀５姆侵丿B區(qū)域中的一個(gè)透射部分的形狀實(shí)質(zhì)上相同。在一示例性實(shí)施例中，第一光掩模的重疊區(qū)域和第二光掩模的重疊區(qū)域的至少ー個(gè)可包括至少兩個(gè)子區(qū)域，所述至少兩個(gè)子區(qū)域中的透射部分的形狀或布置彼此不同。本發(fā)明的再一示例性實(shí)施例提供一種用于制造液晶顯示器的方法，其中該方法包括制備第一基板和第二基板；在第一基板和第二基板的至少ー個(gè)上涂覆包括光反應(yīng)配向材料的配向?qū)?；及透過曝光設(shè)備的第一和第二光掩模向配向?qū)诱丈涔?。本發(fā)明的又一示例性實(shí)施例提供一種用于制造液晶顯示器的方法，其中該方法包括制備第一基板和第二基板；在第一基板和第二基板的至少ー個(gè)上涂覆包括光反應(yīng)配向材料的配向?qū)?；曝光配向?qū)拥恼麄€(gè)表面；透過第一光掩模和第二光掩模向配向?qū)拥钠毓獗砻嬲丈涔?，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重疊，使得第一光掩模和第二光掩模的每個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，且在第一光掩?；虻诙庋谀５闹丿B區(qū)域中的透射部分的形狀或布置與第一光掩模或第二光掩模的非重疊區(qū)域中的透射部分的形狀或布置不同。在一示例性實(shí)施例中，在重疊區(qū)域中，與第一光掩模的一個(gè)透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模的一個(gè)透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可重疊。在一示例性實(shí)施例中，第一光掩模的重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分的面積與第二光掩模的重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分的面積的總和可實(shí)質(zhì)上等于或大于第一光掩?；虻诙庋谀５姆侵丿B區(qū)域中的一個(gè)透射部分的面積。
在一示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域可包括至少兩個(gè)子區(qū)域，且透射部分的形狀或布置在所述至少兩個(gè)子區(qū)域中彼此不同。在一示例性實(shí)施例中，所述至少兩個(gè)子區(qū)域可包括至少ー個(gè)第一子區(qū)域和至少ー個(gè)第ニ子區(qū)域，與第一光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可彼此重疊，且與第一光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域可彼此不重疊。在液晶顯示器的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例中，具有各種形狀和布置的透射部分的兩個(gè)或更多光掩模在一區(qū)域中彼此重疊，不同光掩模的曝光區(qū)域之間的邊界線和顯示缺陷的發(fā)生由此顯著減少。在這樣的實(shí)施例中，光掩模的布置裕量(margin)充分増加，同時(shí)光掩模的制造成本充分降低。


通過參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，本發(fā)明的上述和其他特征將變得更顯然，附圖中圖I是根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示器的一示例性實(shí)施例的剖視圖；圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備的一示例性實(shí)施例的示意圖；圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例的平面圖；圖4A、圖4B、圖4C、圖4D是方框圖，示出單元像素中配向?qū)拥呐湎蚍较蚣耙壕Х肿拥呐帕蟹较?；圖5是根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的一示例性實(shí)施例的平面圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的透射部分的一不例性實(shí)施例的平面圖；圖7、圖8、和圖9是根據(jù)本發(fā)明的光掩模的ー備選不例性實(shí)施例的俯視平面圖，不出在其重疊區(qū)域中的透射部分的各種布置和形狀；圖10是曲線圖，不出圖7、圖8和圖9中所不的光掩模的開ロ率與位置的關(guān)系；圖11是根據(jù)本發(fā)明的光掩模的另ー備選示例性實(shí)施例的俯視平面圖，示出在其重疊區(qū)域中的透射部分的布置和形狀；圖12是曲線圖，示出圖7、圖9和圖11中所示的光掩模的開ロ率與位置的關(guān)系；圖13是根據(jù)本發(fā)明的光掩模的又一備選示例性實(shí)施例的俯視平面圖，示出在其重疊區(qū)域中的透射部分的布置和形狀；圖14是曲線圖，示出圖13中所示的光掩模的開ロ率與位置的關(guān)系；圖15是曲線圖，示出根據(jù)本發(fā)明的光掩模的備選示例性實(shí)施例的開ロ率與位置的關(guān)系;圖16是示出根據(jù)本發(fā)明的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例的平面圖；圖17是在圖16中所示的光配向エ藝中使用的光掩模的一示例性實(shí)施例的俯視平 面圖；圖18、圖20和圖22是根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的備選示例性實(shí)施例的俯視平面圖；圖19和圖21是示出圖18和圖20所示的光掩模的透射部分的平面圖；圖23是平面圖，示出當(dāng)利用圖18、圖20和圖22所示的光掩模進(jìn)行曝光時(shí)光的照
身寸量;圖24是方框圖，示出當(dāng)利用圖18、圖20和圖22所示的光掩模進(jìn)行曝光時(shí)，照射到液晶顯示器的単元像素的光的照射量；圖25是根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的一示例性實(shí)施例的俯視平面圖；圖26是方框圖，示出當(dāng)利用圖25所示的光掩模進(jìn)行光配向時(shí)，單元像素中的配向?qū)拥呐湎蚍较?；圖27和圖28是示出根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的備選示例性實(shí)施例的俯視平面圖；以及圖29是曲線圖，示出在根據(jù)本發(fā)明的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例中液晶分子的預(yù)傾斜角與曝光能量之間的關(guān)系。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將參照附圖在下文更充分地描述本發(fā)明，附圖中示出不同的實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式體現(xiàn)，且不應(yīng)解釋為局限于這里闡述的實(shí)施例。而是，提供這些實(shí)施例以使本公開將徹底而完整，且將向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分傳達(dá)本發(fā)明的范圍。圖中相同的附圖標(biāo)記通篇指示相同的元件。將理解，當(dāng)元件被稱為在另一元件“上”吋，它可以直接在所述另一元件“上”或者其間可以存在居間元件。相反，當(dāng)元件被稱為“直接在”另一元件“上”吋，則沒有居間元件存在。當(dāng)在這里使用吋，術(shù)語“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)所列項(xiàng)的任意及所有組合。將理解，盡管術(shù)語第一、第二、第三等可以在這里使用以描述各種元件、部件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)局限于這些術(shù)語。這些術(shù)語僅用于將ー個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分與另一元件、部件、區(qū)域、層或部分區(qū)別開。因此，下面論述的第一元件、部件、區(qū)域、層或部分可以被稱為第二元件、部件、區(qū)域、層或部分而不會(huì)偏離本發(fā)明的教導(dǎo)。
這里使用的術(shù)語僅用于描述特定實(shí)施例且無意限制本發(fā)明。這里使用時(shí)，単數(shù)形式意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另外地清楚描述。還將理解，當(dāng)在本說明書中使用時(shí)術(shù)語“包含”和/或“包括”指定所陳述的特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件和/或部件的存在，但是不排除一個(gè)或更多其他特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件、部件和/或其群組的存在或增加。另外，可以在這里使用關(guān)系術(shù)語，例如“下”或“底”及“上”或“頂”等，以描述圖中所示的ー個(gè)元件與另一元件的關(guān)系。將理解，關(guān)系術(shù)語意在包括器件的除了圖中所示的取向之外的不同取向。例如，如果其中一個(gè)圖中的器件被翻轉(zhuǎn)，那么被描述為在其他元件“下”側(cè)的元件將取向?yàn)樵谄渌吧稀眰?cè)。因此，根據(jù)圖的具體取向，示例性術(shù)語“下”可包括“上”和“下”兩種取向。類似地，如果ー個(gè)圖中的器件被翻轉(zhuǎn)，那么被描述為在其他元件“之下”或“下面”的元件將取向?yàn)樵谄渌爸稀?。因此，示例性術(shù)語“之下”或“下面”可包括之上和之下兩種取向。
除非另外定義，這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)和科技術(shù)語)具有與本發(fā)明所屬技 術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解的意思相同的意思。還將理解，術(shù)語，例如通常使用的字典中定義的那些術(shù)語，應(yīng)被理解為具有與它們?cè)谙嚓P(guān)技術(shù)和本公開的語境中的意思一致的意思，且將不會(huì)以理想化或過于正式的意義上被理解，除非這里清楚地這樣定義。這里參照剖視圖描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，剖視圖是理想化實(shí)施例的示意圖。因此，由于例如制造技術(shù)和/或容差導(dǎo)致的圖示形狀的變化是可以預(yù)期的。因此，這里描述的實(shí)施例不應(yīng)被理解為局限于這里示出的區(qū)域的特定形狀，而是將包括例如由制造所導(dǎo)致的形狀的偏差。例如，示出或描述為平坦的區(qū)域一般可具有粗糙和/或非線性特征。此外，示出的尖角可以被圓化。因此，圖中所示的區(qū)域?qū)嵸|(zhì)上是示意性的且其形狀無意示出區(qū)域的精確形狀且無意限制本發(fā)明的范圍。這里描述的所有方法能夠以適當(dāng)?shù)捻樞驁?zhí)行，除非這里另外指出或者否則根據(jù)上下文明顯矛盾。任何及所有示例或示例性語言(例如，“諸如”)的使用僅意圖更好地說明本發(fā)明而不對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行限制，除非另外聲明。在這里使用吋，說明書中的語言不應(yīng)被解釋為暗示任何未要求保護(hù)的元件對(duì)于本發(fā)明的實(shí)踐是必要的。下面將參照附圖詳細(xì)地解釋本發(fā)明。首先，將參照?qǐng)DI描述根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示器的示例性實(shí)施例。圖I是根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示器的示例性實(shí)施例的剖視圖。參照?qǐng)D1，液晶顯示器的示例性實(shí)施例是垂直配向(“VA”)模式液晶顯示器，并包括彼此相對(duì)(如面對(duì))的下面板100和上面板200以及置于下面板100和上面板200之間的液晶層3。下面板100包括下絕緣基板110、設(shè)置在下絕緣基板110上的多條信號(hào)線(未示出)、連接到信號(hào)線并設(shè)置在其上的開關(guān)元件(未示出)例如薄膜晶體管、及連接到開關(guān)元件并設(shè)置在其上的多個(gè)像素電極190。第一配向?qū)?1設(shè)置(例如，涂覆)在像素電極190上。上面板200包括上絕緣基板210和面對(duì)像素電極190并設(shè)置在上絕緣基板210上的對(duì)電極270。第二配向?qū)?1設(shè)置(例如，涂覆)在對(duì)電極270上。在示例性實(shí)施例中，第一和第二配向?qū)?1和21是垂直配向?qū)樱ɡ缗c光諸如紫外線反應(yīng)的光反應(yīng)配向材料。光反應(yīng)配向材料具有使得相對(duì)于下和上絕緣基板110和210的表面垂直配向的液晶分子31相對(duì)于下和上絕緣基板110和210的表面的法線以預(yù)定方位角(azimuth)(即，預(yù)傾斜角)傾斜的配向強(qiáng)度。第一和第二配向?qū)?1和21的配向強(qiáng)度可基于液晶分子31與第一和第二配向?qū)?1和21的表面之間的方位錨定能(azimuthalanchoring energy)。第一和第二配向?qū)?1和21的配向強(qiáng)度或液晶分子31的配向方向由此依賴于因素諸如例如光相對(duì)于第一和第二配向?qū)?1和21的照射方向，并且配向強(qiáng)度引起的液晶分子的預(yù)傾斜角例如可依賴于各種因素諸如光的曝光能量和照射傾斜角(irradiation slope)。第一和第二配向?qū)?1和21可例如通過光反應(yīng)材料的諸如光致異構(gòu)化(photoisomerization)、光分解(photodecomposition)、光固化(photocuring)和光聚合(photopolymerization)等反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)。液晶層3的液晶分子31具有介電各向異性，且相對(duì)于下和上絕緣基板110和210的表面實(shí)質(zhì)上沿垂直方向配向，但充分靠近(例如，接觸)第一和第二配向?qū)?1和21表面設(shè)置的液晶分子31基于第一和第二配向?qū)?1和21對(duì)光反應(yīng)配向材料的配向強(qiáng)度而相對(duì)于下和上絕緣基板110和210表面的法線以預(yù)定預(yù)傾斜角傾斜。與下和上絕緣基板110和210的表面實(shí)質(zhì)間隔開地設(shè)置的液晶分子31通過第一和第二配向?qū)?1和21中與之更靠近 的一個(gè)配向?qū)拥呐湎驈?qiáng)度而在一方向上以預(yù)傾斜角排列。設(shè)置在液晶層3的中間部分的液晶分子31可沿充分靠近下和上面板100和200的液晶分子31的兩個(gè)配向方向的中間方向(intermediate direction)以預(yù)傾斜角傾斜。在一示例性實(shí)施例中，液晶顯示器包括作為用于顯示圖像的單元的多個(gè)像素PX，在VA模式液晶顯示器的情況下，其中液晶分子31的排列方向彼此不同的多個(gè)域可形成在単元像素PX中，從而實(shí)現(xiàn)寬視角。下面將描述根據(jù)本發(fā)明用于制造液晶顯示器的方法的一示例性實(shí)施例。多個(gè)薄膜層疊在下絕緣基板110上，并且提供(例如，形成)像素電極190。然后，通過光配向エ藝完成第一配向?qū)?1，在光配向エ藝中，光反應(yīng)配向材料提供(例如，涂覆)在像素電極190上并且照射光諸如紫外線。類似地，通過光配向エ藝完成第二配向?qū)?1，其中在光配向エ藝中，對(duì)電極270形成在上絕緣基板270上，光反應(yīng)配向材料提供(例如，涂覆)在對(duì)電極270上并且照射光諸如紫外線。然后，通過在下和上面板100和200之間注入液晶材料提供(例如，形成)液晶層3。下面，將參照?qǐng)D2、圖3和圖4A至圖4D描述根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的曝光設(shè)備的一示例性實(shí)施例及使用該曝光設(shè)備的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備的一示例性實(shí)施例的示意圖，圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例的平面圖，圖4A至圖4D是示出単元像素中配向?qū)拥呐湎蚍较蚣耙壕Х肿拥呐帕蟹较虻姆娇驁D。參照?qǐng)D2,曝光設(shè)備的一不例性實(shí)施例包括至少一個(gè)光掩模40和光源10。在一不例性實(shí)施例中，光掩模40和光源10集成并一起移動(dòng)，因此沿第二方向Db掃描下面板100或上面板200。在一備選不例性實(shí)施例中，光掩模40和光源10可固定,且下面板100或上面板200可沿第二方向Db移動(dòng)。光源10可照射光例如紫外線。在一示例性實(shí)施例中，光例如可以是部分偏振的紫外線或線性偏振的紫外線。參照?qǐng)D3，曝光設(shè)備的一示例性實(shí)施例的光掩模40包括透射光的透射部分Ta和阻擋光透射的光阻擋部分0a。透射部分Ta和光阻擋部分Oa可交替設(shè)置。從光源10發(fā)射的光15穿過光掩模40的透射部分Ta并且所述光照射到下和上面板100和200的第一和第二配向?qū)?1和21的光反應(yīng)配向材料，從而引起光反應(yīng)諸如光聚合反應(yīng)。在這樣的實(shí)施例中，當(dāng)光相對(duì)于下或上面板100或200的表面傾斜照射時(shí)，將與下或上面板100或200的表面相鄰的液晶分子31可傾斜，使得其縱軸可相對(duì)于下或上面板100或200的表面的法線形成一預(yù)定方位角(即，預(yù)定的預(yù)傾斜角Pt)。在一示例性實(shí)施例中，光相對(duì)于單元像素PX的照射方向可改變以在液晶顯示器的單元像素PX中形成多個(gè)域。下面，將參照?qǐng)D4A至圖4D描述使照射方向不同的方法的一示例性實(shí)施例。首先，參照?qǐng)D4A(a)，光掩模40位于液晶顯示器的下面板100上，光沿第一配向方向ALl傾斜照射。于是，非?？拷旅姘?00的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向在單元像素PX的左部成為配向方向AL1。通過在光沿第一配向方向ALl照射的同時(shí)沿第二配向方向AL2傾斜地照射光，其中第二配向方向AL2是第一配向方向ALl的相反方向，充分靠近下面板100的表面的液晶分子31在單元像素PX的右部可沿第二配向方向AL2預(yù)傾斜。 類似地，參照?qǐng)D4A (b)，當(dāng)光掩模40設(shè)置在上面板200中且光沿彼此相反的第三配向方向AL3和第四配向方向AL4傾斜照射時(shí)，在單元像素PX中，充分靠近上面板200的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向可成為第三配向方向AL3和第四配向方向AL4。在光配向工藝之后，下和上面板100和200彼此聯(lián)接，通過注入液晶材料制造液晶顯示面板，在液晶層3的中間部分處液晶材料31如圖4A(c)所示可沿四個(gè)不同的中間配向方向配向，例如，右上配向方向E1、右下配向方向E2、左下配向方向E3和左上配向方向E4。因此，四個(gè)不同的域可形成在單元像素PX中。圖4A (c)所示的四個(gè)不同的中間配向方向E1、E2、E3和E4可以是液晶分子31沿液晶層3的整個(gè)厚度方向的平均配向方向。圖4B所示的光配向方法的示例性實(shí)施例與圖4A所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，但照射到下面板100的光的照射方向可與圖4A所示的示例性實(shí)施例不同。例如在一示例性實(shí)施例中，參照?qǐng)D4B(a)，通過向液晶顯示器的下面板100照射光，充分靠近下面板100的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向在單元像素PX的右部成為第一配向方向ALl，通過向液晶顯示器的下面板100照射光，充分靠近下面板100的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向在單元像素PX的左部成為第二配向方向AL2。參照?qǐng)D4B (b)，充分靠近液晶顯示器的上面板200的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向與圖4A (b)中的充分靠近上面板200的表面液晶分子31的預(yù)傾斜方向?qū)嵸|(zhì)上相同。在關(guān)于下和上面板100和200的光配向工藝之后，下和上面板100和200彼此結(jié)合，通過注入液晶材料完成液晶顯示面板，并且在液晶層3的中間部分處液晶分子31可如圖4B (c)所示地排列。在這樣的實(shí)施例中，在單元像素PX的右上部的液晶分子31可沿右上配向方向El預(yù)傾斜，在單元像素PX的右下部的液晶分子31可沿左上配向方向E4預(yù)傾斜，在單元像素PX的左下部的液晶分子31可沿左下配向方向E3預(yù)傾斜，在單元像素PX的左上部的液晶分子31可沿右下配向方向E2預(yù)傾斜。圖4C所示的光配向方法的示例性實(shí)施例與圖4A所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，但照射到上面板200的光的照射方向可不同于圖4A所示的示例性實(shí)施例的照射方向。參照?qǐng)D4C (a)，充分靠近液晶顯示器的下面板100的表面液晶分子31的預(yù)傾斜方向與圖4A (a)中充分靠近下面板100的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向?qū)嵸|(zhì)上相同。參照?qǐng)D4C(b)，通過向液晶顯示器的上面板200照射光，充分靠近上面板200的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向在單元像素PX的上部成為第四配向方向AL4，充分靠近上面板200的表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向在單元像素PX的下部成為第三配向方向AL3。當(dāng)通過聯(lián)接下和上面板100和200完成液晶顯示面板時(shí)，在液晶層3的中間部分處液晶分子31可如圖4C(c)所示地排列。在這樣的實(shí)施例中，在單元像素PX的右上部的液晶分子31可沿左下配向方向E3預(yù)傾斜，在單元像素PX的右下部的液晶分子31可沿右下配向方向E2預(yù)傾斜，在單元像素PX的左下部的液晶分子31可沿右上配向方向El預(yù)傾斜，在單元像素PX的左上部的液晶分子31可沿左上配向方向E4預(yù)傾斜。圖4D所示的光配向方法的示例性實(shí)施例與圖4A所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，但照射到下和上面板100和200的光的照射方向可不同于圖4A所不的不例性實(shí)施例的照射到下和上面板100和200的光的照射方向。在一示例性實(shí)施例中，例如，參照?qǐng)D4D(a)，在下面板100的單元像素PX的左部和右部處充分靠近下面板100表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向與圖4A Ca)所示的方向相反，并且在上面板200的單元像素PX的上部和下部處充分靠近上面板200表面的液晶分子31的預(yù)傾斜方向與圖4A (b)所示的方向相反。因此，當(dāng)通過聯(lián)接下和上面板100和200完成液晶顯示面板時(shí)，在液晶層3的中間部分處的 液晶分子31可如圖4D (c)所示地配向。在這樣的實(shí)施例中，在單元像素PX的右上部的液晶分子31可沿左上配向方向E4預(yù)傾斜，在單元像素PX的右下部的液晶分子31可沿右上配向方向El預(yù)傾斜，在單元像素PX的左下部的液晶分子31可沿右下配向方向E2預(yù)傾斜，在單元像素PX的左上部的液晶分子31可沿左下配向方向E3預(yù)傾斜。下面將參照?qǐng)D5和圖6詳細(xì)描述光配向工藝中使用的曝光設(shè)備中包括的光掩模的一示例性實(shí)施例。圖5是根據(jù)本發(fā)明在光配向工藝中使用的光掩模的一示例性實(shí)施例的平面圖，圖6是根據(jù)本發(fā)明在光配向工藝中使用的光掩模的透射部分的一示例性實(shí)施例的平面圖。參照?qǐng)D5，根據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備的一示例性實(shí)施例包括至少兩個(gè)光掩模行。所述至少兩個(gè)光掩模行的每個(gè)包括至少兩個(gè)光掩模，且包括在光掩模行中的彼此充分靠近的兩個(gè)光掩模彼此部分重疊(overlap)。下面,彼此部分重疊的至少兩個(gè)光掩?？砂ǖ谝还庋谀?0a和第二光掩模40b。在一不例性實(shí)施例中，第一和第二光掩模40a和40b包括多個(gè)透射部分Ta和光阻擋部分0a。透射部分Ta和光阻擋部分Oa可交替布置，其布置圖案及透射部分Ta的形狀可各種各樣。第一光掩模40a和第二光掩模40b的每個(gè)包括光源,如圖2所不。第一和第二光掩模40a和40b沿第二方向Db掃描下和上面板100和200并向下和上面板100和200的表面傾斜地照射光例如紫外線。在這樣的實(shí)施例中，部分第一和第二光掩模40a和40b彼此重疊，且所述重疊部分使下和上面板100和200上的相同區(qū)域被掃描。第一光掩模40a中的與第二光掩模40b不重疊的區(qū)域是第一光掩模40a的非重疊區(qū)域(例如，第一區(qū)域A)，第二光掩模40b中的與第一光掩模40a不重疊的區(qū)域是第二光掩模40b的非重疊區(qū)域(例如，第二區(qū)域B)，第一和第二光掩模40a和40b彼此重疊的區(qū)域是重疊區(qū)域AB。在第一、第二和重疊區(qū)域A、B和AB中，第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta沿實(shí)質(zhì)上垂直于第二方向Db的第一方向Da以恒定間隔布置，且所布置的透射部分Ta的節(jié)距(即，相鄰的透射部分Ta的相同側(cè)之間的距離)可與單元像素PX的沿第一方向Da的長(zhǎng)度實(shí)質(zhì)上相同。第一區(qū)域A和第二區(qū)域B的透射部分Ta實(shí)質(zhì)上具有矩形形狀，但其形狀不限于此。圖6所示的透射部分Ta包括實(shí)質(zhì)上平行于第二方向Db的長(zhǎng)邊及實(shí)質(zhì)上平行于與第二方向Db實(shí)質(zhì)上垂直的第一方向Da的寬邊。下面，關(guān)于透射部分Ta，長(zhǎng)度方向可與第二方向Db —致,寬度方向可與第一方向Da —致。長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度L2可大于寬邊的長(zhǎng)度LI,寬邊的長(zhǎng)度LI可為單元像素PX的半節(jié)距(即，單元像素PX的沿第一方向Da的長(zhǎng)度的大約一半)。重疊區(qū)域包括至少兩個(gè)子區(qū)域，包括在第一光掩模40a和第二光掩模40b的至少一個(gè)中的透射部分Ta的形狀或布置形式在所述至少兩個(gè)子區(qū)域中彼此不同。在一不例性實(shí)施方式中，如圖5所不,第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB包括沿第一方向Da順序布置的三個(gè)子區(qū)域，例如第一子區(qū)域AB1、第二子區(qū)域AB2和第三子區(qū)域AB3。在一示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB的第一、第二和第三子區(qū)域AB1、AB2和AB3的每個(gè)透射部分Ta的面積可小于第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的每個(gè)透射部分Ta的面積。在 一備選示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB的第一、第二和第三子區(qū)域ABl、AB2和AB3的透射部分Ta的間隔可大于第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的透射部分Ta的間隔。在一示例性實(shí)施例中，參照?qǐng)D5，第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的每個(gè)透射部分Ta的形狀與圖6所示的透射部分Ta或第一區(qū)域A和第二區(qū)域B的透射部分Ta基本相同。在這樣的實(shí)施例中，在第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的對(duì)應(yīng)于第一光掩模40a和第二光掩模40b的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此不重疊。在第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中第一光掩模40a的透射部分Ta和第二光掩模40b的透射部分Ta可沿第一方向Da交替布置，且在第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中光掩模40a和40b的每個(gè)的透射部分Ta的節(jié)距可以是第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的透射部分Ta的節(jié)距的兩倍。在一示例性實(shí)施例中，在第一和第三子區(qū)域ABl和AB3之間的第二子區(qū)域AB2中第一光掩模40a和第二光掩模40b的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此重疊。在這樣的實(shí)施例中，第一光掩模40a和第二光掩模40b的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可沿第一方向Da改變。在一示例性實(shí)施例中，例如，在第一光掩模40a的第二子區(qū)域AB2中透射部分Ta的沿第二方向Db的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可沿第一方向Da從左到右逐漸減小，并且在第二光掩模40b的第二子區(qū)域AB2中透射部分Ta的沿第二方向Db的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可沿第一方向Da從左到右逐漸增大。因此，透過第一光掩模40a或第二光掩模40b的透射部分Ta的光的照射量沿第一方向Da從左到右逐漸減小或增大。在一示例性實(shí)施例中，在第一光掩模40a的第二子區(qū)域AB2中一個(gè)透射部分Ta的面積與第二光掩模40b的第二子區(qū)域AB2中相應(yīng)的一個(gè)透射部分Ta的面積的總和可為第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的面積的約80%至約150%。因此，在第二子區(qū)域AB2中通過第一和第二光掩模40a和40b曝光的部分的光的照射量可為對(duì)應(yīng)于第一和第二區(qū)域A和B的一個(gè)透射部分Ta的照射區(qū)域的光的照射量的約80%至約150%。在這樣的實(shí)施例中，即使當(dāng)在第二子區(qū)域AB2中通過第一和第二光掩模40a和40b曝光的部分的光照射量大于對(duì)應(yīng)于第一和第二區(qū)域A和B的一個(gè)透射部分Ta的照射區(qū)域的光的照射量，由配向?qū)?1和12的配向強(qiáng)度導(dǎo)致的液晶分子31的預(yù)傾斜角可實(shí)質(zhì)上彼此相同。關(guān)于下和上面板100和200的光的照射量不于圖5中。參照?qǐng)D5，下和上面板100和200的光的照射量Edr由對(duì)應(yīng)于透射部分Ta的面積表不，在下和上面板100和200中光透過第一和第二光掩模40a和40b照射。在這樣的實(shí)施例中，光的照射量Edr在第一和第二光掩模40a和40b的整個(gè)第一、第二和重疊區(qū)域A、B和AB上大體均勻分布。在一示例性實(shí)施例中，掩模的制造成本充分降低，且通過在光配向工藝中使用兩個(gè)或更多光掩模而充分改善了大顯示面板的制造。在這樣的實(shí)施例中，在使用兩個(gè)或更多光掩模的情形下，如圖5所示，通過部分重疊光掩模，由照射光導(dǎo)致的光照射區(qū)域之間的邊界線和顯示缺陷的發(fā)生充分減少。在一示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB中透射部分Ta的形狀和布置被有效修改，使得透過第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB的透射部分Ta的光照射量的總和實(shí)質(zhì)上均勻，并與透過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的透射部分Ta的光的照射量實(shí)質(zhì)上相同。將參照?qǐng)D7至圖15描述各種備選示例性實(shí)施例。圖7、圖8和圖9是根據(jù)本發(fā)明的光掩模的一備選不例性實(shí)施例的俯視平面圖，不 出在其重疊區(qū)域中的透射部分的各種布置和形狀；圖10是曲線圖，示出圖7、圖8和圖9中所示的光掩模的開口率(％)與位置的關(guān)系；圖11是根據(jù)本發(fā)明的光掩模的另一備選示例性實(shí)施例的俯視平面圖，示出在其重疊區(qū)域中的透射部分的布置和形狀；圖12是曲線圖，示出圖7、圖9和圖11中所示的光掩模的開口率與位置的關(guān)系；圖13是根據(jù)本發(fā)明的光掩模的又一備選示例性實(shí)施例的俯視平面圖，示出在其重疊區(qū)域中的透射部分的布置和形狀；圖14是曲線圖，示出圖13中所示的光掩模的開口率與位置的關(guān)系；圖15是曲線圖，示出根據(jù)本發(fā)明的光掩模的一備選不例性實(shí)施例的開口率與位置的關(guān)系。參照?qǐng)D7至圖10，所示的示例性實(shí)施例的第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB的結(jié)構(gòu)與圖5所示的示例性實(shí)施例的不同。參照?qǐng)D7，光掩模的所示的示例性實(shí)施例的重疊區(qū)域AB的第一子區(qū)域ABl與圖5所不的不例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，除了沿第一方向Da布置的第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta以外，其中第一光掩模40a上的透射部分Ta的布置間隔沿著第一方向Da增大，且第二光掩模40b上的透射部分Ta的布置間隔沿著第一方向Da減小。在一示例性實(shí)施例中，本發(fā)明不限于所示出的示例性實(shí)施例，布置間隔能夠以各種方式被控制。參照?qǐng)D9，所示示例性實(shí)施例的重疊區(qū)域AB的第三子區(qū)域AB3與圖7所示的第一子區(qū)域ABl實(shí)質(zhì)上相同，除了布置間隔的改變以外，該布置間隔的改變與圖7中的透射部分Ta的布置間隔的改變相反。在圖8所示的第二子區(qū)域AB2中，包括在第一光掩模40a和第二光掩模40b中的透射部分Ta的任何一個(gè)的面積為圖5所示的透射部分Ta的面積的約一半。在圖8 (a)所示的第二子區(qū)域AB2中，第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta可使光照射到與圖5中相同的照射區(qū)域中。在第二子區(qū)域AB2中，透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可為圖6所示的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度L2的一半。在圖8 (b)至圖8 (f)所不的第二子區(qū)域AB2中，對(duì)應(yīng)于第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此不重疊。然而，當(dāng)?shù)谝缓偷诙庋谀?0a和40b的相應(yīng)透射部分Ta結(jié)合以形成組合形狀時(shí)，該組合形狀與圖6所示的透射部分Ta大致相同。因此，對(duì)應(yīng)于第二子區(qū)域AB2的照射區(qū)域的光的照射量與第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的光的照射量基本相同。在這樣的實(shí)施例中，透射部分Ta的形狀可如圖8 (b)至圖8 (f)所示地進(jìn)行各種改變，但本發(fā)明不限于此。參照?qǐng)D10，示出了圖7、圖8和圖9所示的第一光掩模40a的透射部分Ta的沿第一方向Da的開口率曲線Ga和第二光掩模40b的透射部分Ta的沿第一方向Da的開口率曲線Gb。開口率表達(dá)為第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的透射部分Ta的面積與第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的總面積的百分比，透過透射部分Ta的光的照射量表達(dá)為透過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的透射部分Ta的光的照射量與從光源發(fā)出的光的量的百分比。在一示例性實(shí)施例中，透過透射部分Ta的光的照射量的總和Gt在第一和第二光掩模40a和40b的整個(gè)重疊區(qū)域例如第一、第二和第三子區(qū)域AB1、AB2和AB3上實(shí)質(zhì)上恒定，且可與透過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B中的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量實(shí)質(zhì)上相同。圖11和圖12所示的示例性實(shí)施例與上述圖7至圖9所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，除了第二子區(qū)域AB2中的透射部分Ta的形狀以外。圖11 (a)所示的示例性實(shí)施例與上述圖5所示的第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB的第二子區(qū)域AB2實(shí)質(zhì)上相同。然而，在圖11 (b)所示的示例性實(shí)施例中，第一光掩模的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度 沿第一方向Da從左向右增大，第二光掩模40b的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度沿第一方向Da從左向右減小。然而，在第二子區(qū)域AB2中彼此對(duì)應(yīng)的第一光掩模40a的一個(gè)透射部分Ta和第二光掩模40b的一個(gè)透射部分Ta的面積的總和可與圖6所示的透射部分Ta的面積實(shí)質(zhì)上相同。參照?qǐng)D12，示出了圖11所示的第一光掩模40a的透射部分Ta的沿第一方向Da的開口率曲線Ga和第二光掩模40b的透射部分Ta的沿第一方向Da的開口率曲線Gb。第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的開口率曲線Ga和Gb與圖10中的第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的開口率實(shí)質(zhì)上相同，但第二子區(qū)域AB2中的開口率曲線Ga和Gb基于透射部分Ta的長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度或面積的改變而增加或降低。類似于圖10，透過第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的光的照射量的總和Gt在整個(gè)重疊區(qū)域例如第一、第二和第三子區(qū)域ABl、AB2和AB3上實(shí)質(zhì)上恒定，且可與透過第一區(qū)域A和第二區(qū)域B中的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量實(shí)質(zhì)上相同。圖13和圖14所示的示例性實(shí)施例與圖5所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，除了重疊區(qū)域AB的第二子區(qū)域AB2及第一和第三子區(qū)域ABl和AB3的透射部分Ta的布置結(jié)構(gòu)之外。在這樣的實(shí)施例中，第二子區(qū)域AB2中的透射部分Ta的形狀與圖6所示的透射部分Ta的形狀實(shí)質(zhì)上相同，且第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta彼此不重疊或不對(duì)準(zhǔn)并交替布置。在第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中，透射部分Ta沿長(zhǎng)度方向(即，第二方向Db)的長(zhǎng)度逐漸增大或減小。因此，如圖14所示，第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的第一光掩模40a的透射部分Ta的開口率Ga以及第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的第二光掩模40b的透射部分Ta的開口率Gb沿第一方向Da逐漸減小或增大，并且在第二子區(qū)域AB2中開口率Ga和Gb以恒定間隔顯示100%。在這樣的實(shí)施例中，透過透射部分Ta的光的照射量的總和Gt在第一和第二光掩模40a和40b的整個(gè)重疊區(qū)域例如第一、第二和第三子區(qū)域ABU AB2和AB3上實(shí)質(zhì)上恒定，且可與透過第一區(qū)域A和第二區(qū)域B中的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量實(shí)質(zhì)上相同。參照?qǐng)D15,第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB的第一和第三子區(qū)域ABl和AB3中的透射部分Ta具有圖6所示的透射部分Ta的約一半的尺寸，因此，其開口率可為約50%。在第二子區(qū)域AB2中，第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta彼此不重疊，即，它們不對(duì)準(zhǔn)，多個(gè)透射部分Ta形成多個(gè)組，包括在一個(gè)組中的透射部分Ta的數(shù)目及相鄰組之間的間隔從左或右朝向第二子區(qū)域AB2的中心逐漸降低。該特性示于圖15的曲線Ga和Gb中。在所示示例性實(shí)施例中，透過透射部分Ta的光的照射量的總和Gt在第一和第ニ光掩模40a和40b的整個(gè)重疊區(qū)域AB例如第一、第二和第三子區(qū)域AB1、AB2和AB3上恒定。在一示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB的透射部分Ta的數(shù)目可在10至30的范圍內(nèi)，但本發(fā)明不限于此。在一示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB沿第一方向Da的長(zhǎng)度可在約10毫米(mm)至約IOOmm的范圍內(nèi)，但不限于此。下面將參照?qǐng)D16和圖17描述根據(jù)本發(fā)明的光配向方法和光掩模的不例性實(shí)施例。
圖16是根據(jù)本發(fā)明的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例的平面圖，圖17是在圖16中所示的光配向エ藝中使用的光掩模的一示例性實(shí)施例的俯視平面圖。參照?qǐng)D16，其中排列方向彼此不同的多個(gè)域可通過兩個(gè)單曝光エ藝形成在単元像素PX中。該エ藝稱為雙重曝光エ藝。在圖16 (a)所示的雙曝光設(shè)備的示例性實(shí)施例中，其中照射方向彼此不同的曝光可利用兩個(gè)光源以及多個(gè)反射鏡和偏振器對(duì)下和上面板100和200分別執(zhí)行一次。在圖16 (b)所不的雙曝光設(shè)備的不例性實(shí)施例中,其中照射方向彼此不同的曝光可利用ー個(gè)光源和多個(gè)反射鏡及分束器BS對(duì)下和上面板100和200分別執(zhí)行一次。在這樣的實(shí)施例中，光掩模40包括對(duì)應(yīng)于不同照射區(qū)域的兩個(gè)部分41和42，并且照射方向彼此不同的光透過所述兩個(gè)部分41和42的透射部分且被照射到此。參照?qǐng)D17,在雙曝光エ藝的不例性實(shí)施例中，第一光掩模40c包括沿第二方向Db彼此充分靠近的第一行41c和第二行42c,第二光掩模40d包括沿第二方向Db彼此充分靠近的第一行41d和第二行42d。在第一區(qū)A和第二區(qū)B中,其中第一和第二光掩模40c和40d彼此不重疊,第一光掩模40c的第一行41c的透射部分Ta和第二行42c的透射部分Ta交替設(shè)置，并且第二行42c的每個(gè)透射部分Ta設(shè)置在第一行41c的兩個(gè)相鄰?fù)干洳糠諸a之間。第一行41c或第ニ行42c的透射部分Ta的第一方向Da長(zhǎng)度與單元像素PX的第一方向Da長(zhǎng)度的一半實(shí)質(zhì)上相同。在一不例性實(shí)施方式中，如圖17所不,第一和第二光掩模40c和40d的重疊區(qū)域AB包括多個(gè)子區(qū)域，例如第四子區(qū)域AB4、第五子區(qū)域AB5和第六子區(qū)域AB6，其中透射部分Ta的形狀和布置彼此不同。在一備選示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB可僅包括第四、第五和第六子區(qū)域AB4、AB5和AB6之一。在第四和第五子區(qū)域AB4和AB5中，第一光掩模40c的第一行41c和第二光掩模40d的第一行41d的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此不重疊，并且所述透射部分Ta沿第一方向Da以恒定間隔交替設(shè)置。因此，第四和第五子區(qū)域AB4和AB5中的第一和第二光掩模40c和40d的第一行41c和41d中的透射部分Ta的光的照射量與透過第一區(qū)域A和第二區(qū)域B的第一行41c和41d中的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量實(shí)質(zhì)上相同。類似地，第四子區(qū)域AB4的第二行42c和42d中的第一和第二光掩模40c和40d的透射部分Ta的光的照射量與透過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的第二行42c和42d中的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量實(shí)質(zhì)上相同在第六子區(qū)域AB6中，第一光掩模40c的第一行41c和第二光掩模40d的第一行41d的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此重疊。在這樣的實(shí)施例中，第一光掩模40c的的第一行41c的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度沿第一方向Da從左向右逐漸減小，第二光掩模40d的的第一行41d的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度沿第一方向Da從左向右逐漸增加。因此，透過第六子區(qū)域AB6的第一行41c和41d中的透射部分Ta的光的總照射量可實(shí)質(zhì)上等于或大于透過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量。在第六子區(qū)域AB6中，與第一光掩模40c的第二行42c的透射部分Ta對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與第二光掩模40d的第二行42d的透射部分Ta對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域彼此重疊，但每個(gè)透射部分Ta沿長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度或面積基本是圖6所示的透射部分Ta的長(zhǎng)度或面積的一半。因此，透過第六子區(qū)域AB6的透射部分Ta的照射區(qū)域的光的總照射量可實(shí)質(zhì)上等于或大于透過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的光的照射量。
在一備選示例性實(shí)施例中，雙曝光設(shè)備的光掩模40c和40d的重疊區(qū)域AB可僅包括一個(gè)子區(qū)域。在這樣的實(shí)施例中，在所述子區(qū)域中，第一和第二光掩模40c和40d的透射部分Ta彼此不重疊(即，第一和第二光掩模40c和40d的透射部分Ta不沿相同直線對(duì)準(zhǔn))并且交替布置，或者對(duì)準(zhǔn)的照射區(qū)域彼此重疊使得重疊的(對(duì)準(zhǔn)的)透射部分Ta的區(qū)域組合，第一光掩模40c中一個(gè)透射部分Ta和第二光掩模40d中一個(gè)透射部分Ta的組合的總面積可與第一和第二區(qū)域A和B的一個(gè)透射部分Ta的面積實(shí)質(zhì)上相同。下面，將參照?qǐng)D18至圖24描述根據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備的光掩模的一備選示例性實(shí)施例。相同的附圖標(biāo)記在整個(gè)示例性實(shí)施例中始終表示相同的元件，下面將省略其任何重復(fù)性詳細(xì)描述。圖18、圖20和圖22是根據(jù)本發(fā)明在光配向工藝中使用的光掩模的示例性實(shí)施例的俯視平面圖；圖19和圖21是示出圖18和圖20所示的光掩模的透射部分的平面圖；圖23是平面圖，示出當(dāng)利用圖18、圖20和圖22所示的光掩模進(jìn)行曝光時(shí)光的照射量；圖24是方框圖，示出當(dāng)利用圖18、圖20和圖22所示的光掩模進(jìn)行曝光時(shí)，照射到液晶顯示器的單元像素的光的照射量。首先，參照?qǐng)D18和圖19，第一和第二光掩模40a和40b的示例性實(shí)施例與上述的示例性實(shí)施例的光掩模實(shí)質(zhì)上相同，除了透射部分Ta的形狀以外。參照?qǐng)D19，包括在第一和第二光掩模40a和40b的至少一個(gè)中的透射部分Ta的示例性實(shí)施例可關(guān)于第一方向Da不對(duì)稱。在一不例性實(shí)施例中，例如，第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta可具有一形狀，其一角被切掉，對(duì)應(yīng)于矩形的約1/4，但所述形狀不限于此。透射部分Ta可具有一形狀，其中多邊形或橢圓的約I/4、或圓的左側(cè)或右側(cè)被切掉。參照?qǐng)D18，第一區(qū)域A和第二區(qū)域B中的透射部分Ta以恒定間隔布置，且所布置的節(jié)距可以與單元像素PX的第一方向Da長(zhǎng)度相同。在一示例性實(shí)施例中，第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的形狀和布置形式的至少之一不同于第一區(qū)域A和第二區(qū)域B中的透射部分Ta的形狀和布置形式的至少之一。在這樣的實(shí)施例中，第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的照射區(qū)域可彼此不重疊。第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB可包括兩個(gè)或更多不同的子區(qū)域,其中透射部分Ta的布置彼此不同。
在第一子區(qū)域AB1，第一光掩模40a的透射部分Ta對(duì)應(yīng)于圖19所示的透射部分Ta的左部Tal，第二光掩模40b的透射部分Ta對(duì)應(yīng)于圖19所示的透射部分Ta的右部Ta2。在一備選示例性實(shí)施例中，透射部分能夠以不同于圖19所示的透射部分的方式分別劃分并分配到第一光掩模40a和第二光掩模40b。第三子區(qū)域AB3中第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta的分配的形狀與子區(qū)域ABl中第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta的分配的形狀相反。在一示例性實(shí)施例中，在第二子區(qū)域AB2中，第一和第二光掩模40a和40b的每個(gè)透射部分Ta具有與圖19所示的透射部分Ta相同的形狀，并且第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta沿第一方向Da交替布置。參照?qǐng)D18，透過第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta照射到下和上面板100和200的光的照射量Edr在第一、第二和重疊區(qū)域A、B和AB的每個(gè)中均勻分布。由于第一光掩模40a的一個(gè)透射部分Ta和第二光掩模40b的相應(yīng)的ー個(gè)透射部分Ta的總組合 面積實(shí)質(zhì)上等于或大于第一和第二區(qū)域A和B —個(gè)的透射部分Ta，所以與重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域的光的照射量可等于或大于第一和第二區(qū)域A和B中的光的照射量。參照?qǐng)D23和圖24，光的照射量Edr基于透射部分Ta的形狀包括高照射量Ea和低照射量Eb。例如，在一示例性實(shí)施例中，其中透射部分Ta劃分成左部和右部并且如圖19所不左部的面積大于右部的面積，與透射部分Ta的左部對(duì)應(yīng)的部分具有聞?wù)丈淞縀a,與透射部分Ta的右部對(duì)應(yīng)的部分具有低照射量Eb，如圖23所示。在圖23中，具有較少照射量的低照射量Eb由灰色表不。因此，在用于光配向單元像素PX中的液晶分子以包括多個(gè)域的方法中，對(duì)應(yīng)于單元像素PX的照射量Edr可包括高照射量Ea和低照射量Eb,如圖24 (a)和24 (b)所示。在一備選示例性實(shí)施例中，圖24所示的對(duì)應(yīng)于高照射量Ea的區(qū)域和對(duì)應(yīng)于低照射量Eb的區(qū)域可交換。在示例性實(shí)施例中，通過將光的照射量控制為在単元像素PX的不同區(qū)域中不同，液晶分子31的預(yù)傾斜角可以改變并且液晶分子31的預(yù)傾斜角的分布可以得到優(yōu)化?，F(xiàn)在參照?qǐng)D20和圖21，所示的示例性實(shí)施例的第一和第二光掩模40a和40b與圖18所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，除了重疊區(qū)域AB中的第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta的形狀以外。參照?qǐng)D21，透射部分Ta的整體形狀與圖19所示的透射部分Ta的形狀實(shí)質(zhì)上相同，但透射部分Ta可劃分為下部Ta3和上部Ta4。在重疊區(qū)域AB的第一子區(qū)域ABl中，第一光掩模40a的透射部分Ta僅包括上部Ta4，第二光掩模40b的透射部分Ta包括下部Ta3。第三子區(qū)域AB3中的透射部分Ta的形狀與第一子區(qū)域ABl中的透射部分Ta的形狀相反。在第二子區(qū)域AB2中，第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta與圖19和圖21所示的透射部分Ta的形狀實(shí)質(zhì)上相同，除了對(duì)應(yīng)于第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此不重疊(即，不宣線對(duì)準(zhǔn))并交替布置之外。參照?qǐng)D22，所示的示例性實(shí)施例的第一和第二光掩模40a和40b與圖18所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，除了沒有重疊區(qū)域AB的第二子區(qū)域AB2之外。在這樣的實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB包括兩個(gè)子區(qū)域，兩個(gè)子區(qū)域中的透射部分Ta的形狀彼此相反。在重疊區(qū)域AB，第一和第二光掩模40a和40b的相應(yīng)透射部分Ta的照射區(qū)域彼此不重疊，透射部分Ta具有與第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的透射部分Ta的形狀不同的形狀。圖5至圖24所示的示例性實(shí)施例中，第一光掩模40c的重疊區(qū)域AB中的ー個(gè)透射部分Ta與第二光掩模40d的重疊區(qū)域AB中的一個(gè)透射部分Ta的總組合面積與第一區(qū)域A和第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的面積實(shí)質(zhì)上相同，但本發(fā)明不限于此。在一備選示例性實(shí)施例中，第一光掩模40a或第二光掩模40b的重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的沿長(zhǎng)度方向或沿寬度方向的長(zhǎng)度可在所示長(zhǎng)度的約100%至約150%的范圍內(nèi)增加。在圖5至圖24所示的示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可以增加或減小至小于第一區(qū)域A或第二區(qū)域B中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度，但本發(fā)明不限于此。在ー備選示例性實(shí)施例中，重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度可増加而超過第一區(qū)域A或第二區(qū)域B中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度。在這樣的實(shí)施例中，由照射區(qū)域中的配向?qū)?1和21的配向強(qiáng)度導(dǎo)致的液晶分子31的預(yù)傾斜角不會(huì)與圖5至圖24所示的示例性實(shí)施例中的預(yù)傾斜角實(shí)質(zhì)不同。 下面，將參照?qǐng)D25至圖29描述根據(jù)本發(fā)明的光配向方法和光掩模的備選示例性實(shí)施例。圖25是根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的一示例性實(shí)施例的俯視平面圖；圖26是方框圖，示出當(dāng)利用圖25所示的光掩模進(jìn)行光配向時(shí)，単元像素中的配向?qū)拥呐湎蚍较?；圖27和圖28是示出根據(jù)本發(fā)明在光配向エ藝中使用的光掩模的視圖；圖29是曲線圖，示出在根據(jù)本發(fā)明的光配向エ藝的一示例性實(shí)施例中液晶分子的預(yù)傾斜角與曝光能量之間的關(guān)系。參照?qǐng)D25，在一示例性實(shí)施例中，在下和上面板100和200被沿第二方向Db掃描而沒有光掩模時(shí)，實(shí)質(zhì)執(zhí)行第一曝光。在這樣的實(shí)施例中，光的照射方向或光的傾斜方向可與第一曝光的掃描方向?qū)嵸|(zhì)上相同。在一不例性實(shí)施例中，利用彼此部分重疊的第一和第二光掩模40a和40b通過沿與第一曝光的掃描方向相反的方向掃描下和上面板100和200而執(zhí)行第二曝光。在這樣的實(shí)施例中，光的照射方向或光的傾斜方向可與第二曝光的掃描方向?qū)嵸|(zhì)上相同，并且第一和第二曝光中光的照射方向彼此相反。在一示例性實(shí)施例中，如圖26所示，在第一曝光中整個(gè)單元像素PX的第五和第六配向方向AL5和AL6實(shí)質(zhì)上彼此相同。當(dāng)通過利用光掩模40a和40b的第二曝光而使光在單元像素PX的右部被阻擋且在左部光沿與第一曝光相反的方向照射時(shí)，単元像素PX可具有不同的第六和第七配向方向AL6和AL7，使得単元像素可具有多個(gè)域，液晶分子31在各域中的排列方向彼此不同。在一示例性實(shí)施例中，控制第七配向方向AL7的配向強(qiáng)度(alignment strength),使得第二曝光的照射量大于第一曝光的照射量。再次參照?qǐng)D25,第二曝光エ藝中使用的第一和第二光掩模40a和40b在沿第二方向Db掃描下和上面板100和200時(shí)使光傾斜地照射。在這樣的實(shí)施例中，部分第一和第二光掩模40a和40b彼此重疊,且所述部分使下和上面板100和200上的相同區(qū)域被掃描。第一光掩模40a和第二光掩模40b的第一區(qū)域A和第二區(qū)域B的透射部分Ta，彼此不重疊，與圖5所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同。第一區(qū)域A和第二區(qū)域B的透射部分Ta沿第一方向Da以恒定間隔布置。在第一光掩模40a或第二光掩模40b的重疊區(qū)域AB中，透射部分Ta的沿第二方向Db的長(zhǎng)度從左向右逐漸減小或增大。在這樣的實(shí)施例中，第一光掩模40a的在重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊從第一區(qū)域A的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度開始沿第一方向Da從左向右逐漸減小。第二光掩模40b的在重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊沿第一方向Da從左向右朝向重疊區(qū)域AB的末端逐漸增大，長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度變?yōu)閷?shí)質(zhì)上等于第二區(qū)域B中的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度。在重疊區(qū)域AB中，第一光掩模40a和第二光掩模40b的透射部分Ta的照射區(qū)域彼此重疊，并且彼此對(duì)應(yīng)的第一光掩模40a的一個(gè)透射部分Ta和第二光掩模40b的一個(gè)透射部分Ta的總組合面積可與第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的面積實(shí)質(zhì)上相同。在這樣的實(shí)施例中，透過第一和第二光掩模40a和40b照射到下和上面板100和200的光的照射量Edr在整個(gè)區(qū)域(例如，第一、第二和重疊區(qū)域A、B和 AB，如圖25所示)上可實(shí)質(zhì)上均勻。在一備選不例性實(shí)施例中，彼此對(duì)應(yīng)的第一光掩模40a和第二光掩模40b的重疊區(qū)域AB中的透射部分Ta的總組合面積可大于第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的面積。在這樣的實(shí)施例中，在彼此對(duì)應(yīng)的第一光掩模40a的重疊區(qū)域AB中的一個(gè)透射部分Ta和第二光掩模40b的重疊區(qū)域AB中的一個(gè)透射部分Ta的總組合面積可在第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的一個(gè)透射部分Ta的面積的100%至約150%的范圍中，但本發(fā)明不限于此。其他特性與圖5所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同。圖27和圖28是示出根據(jù)本發(fā)明在光配向工藝的第二曝光工藝中使用的光掩模的備選不例性實(shí)施例的俯視平面圖。圖27所不的第一和第二光掩模40a和40b的不例性實(shí)施例與圖25所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，除了重疊區(qū)域AB的結(jié)構(gòu)之外。重疊區(qū)域AB與圖13所示的示例性實(shí)施例實(shí)質(zhì)上相同，將省略其任何重復(fù)的詳細(xì)描述。圖28所示的第一和第二光掩模40a和40b的示例性實(shí)施例與圖27所示的示例性實(shí)施例的第一和第二光掩模40a和40b的第一區(qū)域A和第二區(qū)域B實(shí)質(zhì)上相同，除了第一和第二光掩模40a和40b的重疊區(qū)域AB之外，其包括其中透射部分Ta的圖案形狀彼此不同的兩個(gè)或更多子區(qū)域。如圖28所示，重疊區(qū)域AB包括三個(gè)子區(qū)域。在第一子區(qū)域ABl中，第一光掩模40a的透射部分Ta與第一區(qū)域A中的透射部分Ta具有相同的形狀和布置，但第二光掩模40b的透射部分Ta的長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度隨著透射部分沿第一方向Da設(shè)置而逐漸增大。在第一子區(qū)域ABl中，由于第一和第二光掩模40a和40b的透射部分Ta彼此重疊或?qū)?zhǔn)，所以與對(duì)應(yīng)于第一區(qū)域A或第二區(qū)域B的下和上面板100和200的曝光區(qū)域相比，對(duì)應(yīng)于第一子區(qū)域ABl的下和上面板100和200的曝光區(qū)域被照射以更大量的光。在這樣的實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)于第一區(qū)域A的透射部分Ta的照射區(qū)域中的液晶分子31的預(yù)傾斜角可與對(duì)應(yīng)于第一子區(qū)域ABl的透射部分Ta的照射區(qū)域中的液晶分子31的預(yù)傾斜角相同。將參照?qǐng)D29更詳細(xì)描述照射區(qū)域中的液晶分子31的預(yù)傾斜角。在圖29中，液晶分子31的預(yù)傾斜角是基于下和上面板100和200的表面的切線的角度。在第一曝光中，液晶分子31的預(yù)傾斜角為大約2° ,但利用第一和第二光掩模40a和40b的第二曝光之后液晶分子31的預(yù)傾斜角維持恒定的預(yù)傾斜角而與曝光能量幾乎無關(guān)。參照?qǐng)D28，第一和第二光掩模40a和40b的第三子區(qū)域AB3中的透射部分Ta的布置與第一子區(qū)域ABl中的透射部分Ta的布置相反。所示示例性實(shí)施例的第二子區(qū)域AB2與圖27所示的示例性實(shí)施例的第二子區(qū)域AB2實(shí)質(zhì)上相同，將省略其任何重復(fù)的詳細(xì)描述。在示例性實(shí)施例中，利用第一和第二光掩模40a和40b的各種示例性實(shí)施例執(zhí)行光配向工藝，光掩模的制造成本以及 不同光掩模的曝光區(qū)域之間的邊界線由此減少，并且光掩模的布置裕量由此增加。盡管已經(jīng)結(jié)合目前認(rèn)為是實(shí)際的示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，但將理解，本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施例，而是相反，本發(fā)明意圖涵蓋包括在所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等效布置。
權(quán)利要求
1.ー種曝光設(shè)備，用于光配向エ藝，所述曝光設(shè)備包括第一光掩模，包括多個(gè)透射部分；及第二光掩模，包括多個(gè)透射部分，其中所述第一光掩模和所述第二光掩模彼此部分重疊，使得所述第一光掩模和所述第ニ光掩模的每個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，所述第一光掩模的所述重疊區(qū)域和所述第二光掩模的所述重疊區(qū)域的至少之ー包括至少兩個(gè)子區(qū)域，且所述透射部分的形狀或布置在所述至少兩個(gè)子區(qū)域中彼此不同。
2.如權(quán)利要求I所述的曝光設(shè)備，其中所述至少兩個(gè)子區(qū)域包括至少ー個(gè)第一子區(qū)域和至少ー個(gè)第二子區(qū)域，與所述第一光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的所述透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與所述第二光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的所述透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域彼此重疊，且與所述第一光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的所述透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與所述第二光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的所述透射部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域彼此不重疊。
3.如權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其中所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域和所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域交替布置。
4.如權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其中所述第一光掩模的所述透射部分沿第一方向布置，且所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述至少ー個(gè)第一子區(qū)域中的所述透射部分的沿垂直于所述第一方向的第二方向的長(zhǎng)度沿所述第一方向逐漸改變。
5.如權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其中所述第一光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的所述透射部分和所述第二光掩模的所述至少ー個(gè)第二子區(qū)域中的所述透射部分沿所述第一方向交替布置。
6.如權(quán)利要求I所述的曝光設(shè)備，還包括第一光源，向所述第一光掩模提供光 '及第二光源，向所述第二光掩模提供光。
7.如權(quán)利要求6所述的曝光設(shè)備，其中所述第一光源和所述第二光源分別通過所述第一光掩模和所述第二光掩模傾斜地照射光。
8.—種曝光設(shè)備,用于光配向エ藝,所述曝光設(shè)備包括第一光掩模，包括沿第一方向布置的多個(gè)透射部分 '及第二光掩模，包括沿所述第一方向布置的多個(gè)透射部分，其中所述第一光掩模和所述第二光掩模彼此部分重疊，使得所述第一光掩模和所述第ニ光掩模的每個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，所述第一光掩模和所述第二光掩模的至少之ー的透射部分關(guān)于所述第一方向非対稱，且在所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述重疊區(qū)域中的所述透射部分的形狀或布置與所述第一光掩?；蛩龅诙庋谀５乃龇侵丿B區(qū)域中的所述透射部分的形狀或布置不同。
9.如權(quán)利要求8所述的曝光設(shè)備，其中與所述第一光掩模的所述重疊區(qū)域中的所述透射部分的一部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域和與所述第二光掩模的所述重疊區(qū)域中的所述透射部分的一部分對(duì)應(yīng)的照射區(qū)域不重疊。
10.如權(quán)利要求9所述的曝光設(shè)備，其中所述第一光掩模的所述重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分和所述第二光掩模的所述重疊區(qū)域中的一個(gè)透射部分的組合形狀與所述第一光掩?；蛩龅诙庋谀５乃龇侵丿B區(qū)域中的所述透射部分的形狀相同。
全文摘要
本發(fā)明提供用于光配向工藝的曝光設(shè)備和制造液晶顯示器的方法。一種用于光配向工藝的曝光設(shè)備包括第一光掩模，包括多個(gè)透射部分；及第二光掩模，包括多個(gè)透射部分，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重疊，使得第一光掩模和第二光掩模的每個(gè)包括重疊區(qū)域和非重疊區(qū)域，第一光掩模的重疊區(qū)域和第二光掩模的重疊區(qū)域的至少之一包括至少兩個(gè)子區(qū)域，且透射部分的形狀或布置在至少兩個(gè)子區(qū)域中彼此不同。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102830592SQ201210171808
公開日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2012年5月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月3日
發(fā)明者趙秀連, 李準(zhǔn)宇, 金坰兌, 廉周錫, 姜錫訓(xùn), 金恩珠 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司