專利名稱：吸取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及吸取裝置，特別涉及一種用于拾取光學(xué)元件的吸取裝置。
背景技術(shù)：
鏡頭制程中，常采用吸取裝置拾取各類光學(xué)元件?，F(xiàn)有的吸取裝置一般形成有與 所夾持的光學(xué)元件形狀相匹配的開(kāi)口。使用時(shí)，開(kāi)口與真空源連通并對(duì)著光學(xué)元件，光學(xué)元 件將在填補(bǔ)真空源引起的氣流的作用下填入并密封開(kāi)口，利用空氣負(fù)壓緊緊吸附于吸取裝 置。然而，實(shí)際使用時(shí)，受限于加工精度，光學(xué)元件通常存在尺寸誤差。若尺寸誤差過(guò)大，光 學(xué)元件與開(kāi)口可能失去匹配關(guān)系，無(wú)法密封開(kāi)口，出現(xiàn)“漏氣”現(xiàn)象，導(dǎo)致吸取裝置對(duì)光學(xué)元 件的吸附力不足，無(wú)法穩(wěn)固拾取光學(xué)元件。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可穩(wěn)固拾取存在尺寸誤差甚至不同尺寸的光學(xué)元件的 吸取裝置。一種吸取裝置，用于與真空源連通以拾取光學(xué)元件。該吸取裝置開(kāi)設(shè)有與該真空 源連通、用于填設(shè)該光學(xué)元件的圓臺(tái)狀開(kāi)口。采用該吸取裝置，存在尺寸誤差的光學(xué)元件或不同尺寸的光學(xué)元件可填設(shè)于該圓 臺(tái)狀開(kāi)口與其尺寸相匹配的地方，并密封該圓臺(tái)狀開(kāi)口，利用空氣負(fù)壓緊緊吸附于該吸取 裝置。即，該吸取裝置可以穩(wěn)固拾取存在尺寸誤差甚至不同尺寸的光學(xué)元件。


圖1為本發(fā)明第一實(shí)施方式的吸取裝置的立體示意圖。圖2為圖1所示的吸取裝置沿II-II方向的剖面示意圖。圖3為本發(fā)明第二實(shí)施方式的吸取裝置的剖面示意圖。圖4為圖3所示的吸取裝置沿IV-IV方向的剖面示意圖。
具體實(shí)施例方式第一實(shí)施方式請(qǐng)一并參閱圖1及圖2，本實(shí)施方式的吸取裝置10用于拾取光學(xué)元件20，如鏡片 或?yàn)V光片。吸取裝置10包括氣管12。氣管12包括吸取端120。吸取端120開(kāi)設(shè)于有圓臺(tái) 狀開(kāi)口 14。圓臺(tái)狀開(kāi)口 14通過(guò)氣管與真空源(圖未示)連通。由于采用圓臺(tái)狀開(kāi)口 14，即使存在尺寸誤差或者不同尺寸的多個(gè)光學(xué)元件20總 可填設(shè)于圓臺(tái)狀開(kāi)口 14與其尺寸相匹配的位置，并密封圓臺(tái)狀開(kāi)口 14，利用空氣負(fù)壓緊緊 吸附于吸取裝置10。吸取裝置10可以穩(wěn)固拾取存在尺寸誤差甚至不同尺寸的光學(xué)元件20。優(yōu)選地，吸取裝置10還包括設(shè)置于圓臺(tái)狀開(kāi)口 14內(nèi)壁的緩沖層16。緩沖層16可 緩沖光學(xué)元件20在填補(bǔ)真空源的氣流的作用下填入圓臺(tái)狀開(kāi)口 14時(shí)受到的沖擊力，避免光學(xué)元件20因此損壞。緩沖層16可采用各種彈性材料制成，如橡膠。第二實(shí)施方式請(qǐng)一并參閱圖3及圖4，本實(shí)施方式的吸取裝置30包括氣管32、彈性元件34及 環(huán)形吸嘴36。氣管32包括吸取端320及靠近吸取端320設(shè)置的擋止部322。環(huán)形吸嘴36 部分套設(shè)于吸取端320。環(huán)形吸嘴36與氣管32相背的一端開(kāi)設(shè)有圓臺(tái)狀開(kāi)口 38。圓臺(tái)狀 開(kāi)口 38通過(guò)氣管32與真空源(圖未示)連通。彈性元件36套設(shè)于氣管32并連接擋止部 322。由于采用圓臺(tái)狀開(kāi)口 38，吸取裝置30也可以穩(wěn)固拾取存在尺寸誤差甚至不同尺 寸的光學(xué)元件20。本實(shí)施方式中，擋止部322為一個(gè)固定套設(shè)于氣管32的圓環(huán)。當(dāng)然，擋止部322 并不限于本實(shí)施方式，可以為其他可以連接并擋止彈性元件34的部件。
彈性元件34為彈簧或彈性套筒。本實(shí)施方式采用彈簧。采用彈性元件34可以緩 沖光學(xué)元件20在填補(bǔ)真空源的氣流的作用下填入圓臺(tái)狀開(kāi)口 14時(shí)受到的沖擊力，避免光 學(xué)元件20因此損壞。優(yōu)選地，吸取裝置30也可以在圓臺(tái)狀開(kāi)口 38的內(nèi)壁設(shè)置緩沖層40，以進(jìn)一步緩沖 光學(xué)元件20在填補(bǔ)真空源的氣流的作用下填入圓臺(tái)狀開(kāi)口 14時(shí)受到的沖擊力。本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，以上的實(shí)施方式僅是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明， 而并非用作為對(duì)本發(fā)明的限定，只要在本發(fā)明的實(shí)質(zhì)精神范圍之內(nèi)，對(duì)以上實(shí)施例所作的 適當(dāng)改變和變化都落在本發(fā)明要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種吸取裝置，用于與真空源連通以拾取光學(xué)元件，其特征在于，該吸取裝置開(kāi)設(shè)有與該真空源連通、用于填設(shè)該光學(xué)元件的圓臺(tái)狀開(kāi)口。
2.如權(quán)利要求1所述的吸取裝置，其特征在于，該吸取裝置包括有設(shè)置于該圓臺(tái)狀開(kāi) 口內(nèi)表面的緩沖層。
3.如權(quán)利要求2所述的吸取裝置，其特征在于，該緩沖層為橡膠層。
4.如權(quán)利要求1所述的吸取裝置，其特征在于，該吸取裝置包括氣管，該氣管包括吸取 端，該圓臺(tái)狀開(kāi)口開(kāi)設(shè)于該吸取端。
5.如權(quán)利要求4所述的吸取裝置，其特征在于，該吸取裝置包括有設(shè)置于該圓臺(tái)狀開(kāi) 口內(nèi)表面的緩沖層。
6.如權(quán)利要求5所述的吸取裝置，其特征在于，該緩沖層為橡膠層。
7.如權(quán)利要求1所述的吸取裝置，其特征在于，該吸取裝置包括有氣管、彈性元件及環(huán) 狀吸嘴，該氣管包括吸取端及靠近該吸取端設(shè)置的擋止部，該環(huán)形吸嘴部分滑動(dòng)套設(shè)于該 吸取端，該圓臺(tái)狀開(kāi)口開(kāi)設(shè)于該環(huán)形吸嘴與該氣管相背的一端，該彈性元件套設(shè)于該氣管 并連接該擋止部與該環(huán)形吸嘴，用于緩沖該圓形片狀工件填入該圓臺(tái)狀開(kāi)口時(shí)受到的撞擊 力。
8.如權(quán)利要求7所述的吸取裝置，其特征在于，該彈性元件為彈簧或彈性套筒。
9.如權(quán)利要求7所述的吸取裝置，其特征在于，該吸取裝置包括有設(shè)置于該圓臺(tái)狀開(kāi) 口內(nèi)表面的緩沖層。
10.如權(quán)利要求9所述的吸取裝置，其特征在于，該緩沖層為橡膠層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種吸取裝置，用于與真空源連通以拾取光學(xué)元件。該吸取裝置開(kāi)設(shè)有與該真空源連通、用于填設(shè)該光學(xué)元件的圓臺(tái)狀開(kāi)口。采用該吸取裝置，存在尺寸誤差的光學(xué)元件或不同尺寸的光學(xué)元件可填設(shè)于該圓臺(tái)狀開(kāi)口與光學(xué)元件尺寸相匹配的地方，并密封該圓臺(tái)狀開(kāi)口，利用空氣負(fù)壓緊緊吸附于該吸取裝置。即，該吸取裝置可以穩(wěn)固拾取存在尺寸誤差甚至不同尺寸的光學(xué)元件。
文檔編號(hào)G02B7/00GK101872047SQ20091030173
公開(kāi)日2010年10月27日 申請(qǐng)日期2009年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月21日
發(fā)明者王子威 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司