專利名稱：光刻機(jī)硅片臺(tái)移動(dòng)裝置及采用該移動(dòng)裝置的光刻機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光刻機(jī)硅片臺(tái)移動(dòng)裝置及采用該移動(dòng)裝置的光刻機(jī)。
背景技術(shù)：
光刻是半導(dǎo)體制造過(guò)程中 一道非常重要的工序，它是將一 系列掩模版上的 芯片圖形通過(guò)曝光依次轉(zhuǎn)移到硅片相應(yīng)層上的工藝過(guò)程，被認(rèn)為是大規(guī)模集成 電路制造中的核心步驟。半導(dǎo)體制造中一系列復(fù)雜而耗時(shí)的光刻工藝主要由相 應(yīng)的光刻機(jī)來(lái)完成。而光刻技術(shù)的發(fā)展或者說(shuō)光刻機(jī)的技術(shù)進(jìn)步則主要圍繞著 線寬、套刻精度和生產(chǎn)率這三大指標(biāo)展開。
在步進(jìn)投影式光刻機(jī)中，硅片臺(tái)的主要用途在于為直接承載硅片的吸盤提 供運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、動(dòng)力驅(qū)動(dòng)等。隨著半導(dǎo)體廠商對(duì)套刻精度和生產(chǎn)率要求的不斷提 高，光刻機(jī)中用于直接承載硅片的吸盤要求具有極高的同步運(yùn)動(dòng)精度和運(yùn)動(dòng)速 度。在目前大多數(shù)步進(jìn)投影式光刻機(jī)中，設(shè)計(jì)者們?cè)谖P底部設(shè)計(jì)了相應(yīng)的氣 浮結(jié)構(gòu)，而選用一塊大理石作為整個(gè)吸盤的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，從而有利于精確控制高 速運(yùn)動(dòng)的吸盤的位置。光刻機(jī)中硅片臺(tái)的支撐框架上同時(shí)設(shè)置有吸盤的動(dòng)力驅(qū) 動(dòng)裝置，為了減小吸盤高速運(yùn)動(dòng)時(shí)對(duì)框架的反作用力，通過(guò)引入基于動(dòng)量守恒 原理的平衡塊實(shí)現(xiàn)這一目的。為了在非常有限的運(yùn)動(dòng)范圍內(nèi)有效抵消吸盤高速 運(yùn)動(dòng)對(duì)硅片臺(tái)框架的反作用力，平衡塊一般具有很大的質(zhì)量。加之硅片臺(tái)支撐 框架、以及為配合相應(yīng)部件正常工作而設(shè)計(jì)的電纜、傳感器、管道等，整個(gè)硅 片臺(tái)的重量可以達(dá)到4噸左右，直接將硅片臺(tái)與光刻機(jī)整機(jī)框架裝配勢(shì)必造成整機(jī)框架的負(fù)擔(dān)。
實(shí)際生產(chǎn)中，整個(gè)硅片臺(tái)對(duì)外界力的干擾還有嚴(yán)格要求。早期光刻機(jī)中， 由于硅片臺(tái)的質(zhì)量較輕，采用吊框式結(jié)構(gòu)直接將硅片臺(tái)與主基板連接，通過(guò)主擾。
另一方面，在光刻機(jī)整機(jī)系統(tǒng)的集成過(guò)程中，按照裝配流程的要求，需要頻 繁地將硅片臺(tái)移至光刻機(jī)主體以外或恢復(fù)原來(lái)的位置。硅片臺(tái)的故障維修或者 定期維修維護(hù)工作的需要，同樣要求能夠頻繁自如地移動(dòng)硅片臺(tái)的位置。再者， 整個(gè)硅片臺(tái)在與整機(jī)重新裝配時(shí)，需要保證一定的重復(fù)定位精度，從而保證其 在整機(jī)中的位置不變。
綜上所述，合理設(shè)計(jì)硅片臺(tái)與光刻機(jī)整機(jī)框架的結(jié)構(gòu)布局，有效隔離硅片 臺(tái)受地面振動(dòng)的干擾，以及如何快速、簡(jiǎn)便自如地移動(dòng)硅片臺(tái)并對(duì)其準(zhǔn)確定位 成為保證光刻機(jī)正常工作亟待解決的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠快速、簡(jiǎn)便、自如地移動(dòng)硅片臺(tái)的光刻機(jī) 硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置。
本發(fā)明的目的還在于提供一種采用上述光刻機(jī)硅片臺(tái)移動(dòng)裝置的光刻機(jī)。
一種光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置包括支撐該光刻機(jī)硅片臺(tái)的支撐板；設(shè)置 于該支撐板的與該硅片臺(tái)相對(duì)一側(cè)的氣囊；設(shè)置于該支撐板的與該氣嚢同側(cè)的 氣墊裝置；設(shè)置于該支撐板的與該氣嚢同側(cè)的滾輪；向該氣嚢內(nèi)充氣，該氣嚢 支撐該支撐板及該光刻機(jī)的硅片臺(tái)，當(dāng)移動(dòng)該光刻機(jī)硅片臺(tái)時(shí)，該氣嚢釋放氣 體的同時(shí)打開該氣墊裝置，該氣墊裝置形成的氣墊支撐該支撐板及該硅片臺(tái)，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置利用該滾輪將該硅片臺(tái)移出或移入該光刻機(jī)。
其中，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括與該支撐板連接的驅(qū)動(dòng)支架，該 滾輪設(shè)置于該驅(qū)動(dòng)支架。該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)，該驅(qū)動(dòng) 電機(jī)帶動(dòng)該滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。該驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)傳動(dòng)裝置帶動(dòng)該滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。該驅(qū)動(dòng)電機(jī) 和該傳動(dòng)裝置設(shè)置于該驅(qū)動(dòng)支架。該驅(qū)動(dòng)支架通過(guò)片簧與該支撐板連接。
該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括壓力檢測(cè)裝置,該壓力檢測(cè)裝置與該氣嚢 連接，檢測(cè)該氣嚢內(nèi)氣體的壓力。該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置的氣嚢分為兩組， 分別為第 一組氣嚢和第二組氣嚢，調(diào)整該第 一組氣嚢內(nèi)的氣體以確保該光刻機(jī) 硅片臺(tái)與該光刻機(jī)的準(zhǔn)確定位，該第 一組氣嚢和第二組氣囊共同支撐該支撐板 及該硅片臺(tái)。該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括與該第一組氣嚢連接的第一壓 力檢測(cè)裝置，與該第二組氣嚢連接的第二壓力檢測(cè)裝置。
一種光刻機(jī)，包括一支撐框架和硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，該硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置
包括支撐該光刻機(jī)硅片臺(tái)的支撐板；設(shè)置于該支撐板的與該硅片臺(tái)相對(duì)一側(cè) 的氣囊；設(shè)置于該支撐板的與該氣嚢同側(cè)的氣墊裝置；設(shè)置于該支撐板的與該 氣囊同側(cè)的滾輪；向該氣嚢內(nèi)充氣，該氣囊支撐該支撐板及該光刻機(jī)的硅片臺(tái)； 當(dāng)移動(dòng)該光刻機(jī)硅片臺(tái)時(shí)，該氣嚢釋放氣體的同時(shí)打開該氣墊裝置，該氣墊裝 置形成的氣墊支撐該支撐板及該硅片臺(tái)，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置利用該滾 輪將該硅片臺(tái)移出或移入該支撐框架。
其中，該支撐板設(shè)置有硅片臺(tái)和氣墊裝置的兩個(gè)表面之間的側(cè)壁設(shè)置有定 位銷，該定位銷固定該光刻機(jī)硅片臺(tái)與該支撐框架之間的位置。該支撐框架的 側(cè)壁向內(nèi)延伸出凸塊，該凸塊設(shè)置有定位孔，該定位孔與該定位銷相配合固定 該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置與該支撐框架之間的位置。
該支撐板設(shè)置有硅片臺(tái)和氣墊裝置的兩個(gè)表面之間的側(cè)壁設(shè)置有安全銷，該支撐框架的側(cè)壁設(shè)置凹槽，當(dāng)該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置與該支撐框架之間 定位后，該安全銷插入該凹槽。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置利用該第一、第二組氣嚢支撐 該支撐板及該硅片臺(tái)，該第一、第二組氣嚢釋放氣體的同時(shí)打開該氣墊裝置， 該氣墊裝置形成的氣墊支撐該支撐板及該硅片臺(tái)，該硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置利用該 滾輪將該硅片臺(tái)移出或移入該支撐框架。在該硅片臺(tái)移出或移入該支撐框架時(shí)， 由于該氣墊裝置與地基之間形成氣墊，因此，本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng) 電機(jī)的功率要求較低，該硅片臺(tái)的移入移出過(guò)程簡(jiǎn)單易行，輕松方便。
圖1是采用本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置的光刻^^的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置設(shè)置硅片臺(tái)一側(cè)的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3是本發(fā)明的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置另一側(cè)面的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作 進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
請(qǐng)參閱圖1,圖1為采用本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置的光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。 該光刻機(jī)10包括支撐框架12、物鏡13、主基板14、硅片臺(tái)15和硅片臺(tái)移動(dòng)裝 置16。該支撐框架12固定在地基11上，該物鏡13和主基板14設(shè)置在該支撐 框架12上，該硅片臺(tái)15設(shè)置于該物鏡13下方，該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16承載該 硅片臺(tái)15,用于將該硅片臺(tái)15移入或者移出該支撐框架12。
該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16包括支撐該硅片臺(tái)15的支撐板160;設(shè)置于該支撐板160的與該硅片臺(tái)15相對(duì)一側(cè)的氣嚢17;設(shè)置于該支撐板160的與該氣嚢 17同側(cè)的氣墊裝置；設(shè)置于該支撐板160的與該氣嚢17同側(cè)的滾輪；向該氣嚢 17內(nèi)充氣，該氣嚢17支撐該支撐板160及該硅片臺(tái)15。當(dāng)移動(dòng)該硅片臺(tái)15時(shí)， 該氣嚢17釋放氣體的同時(shí)打開該氣墊裝置，該氣墊裝置形成的氣墊支撐該支撐 板160及該硅片臺(tái)15，該硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置16利用該滾輪將該硅片臺(tái)15移出 或移入該支撐框架12。
下面結(jié)合圖2、圖3詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16的結(jié)構(gòu)。請(qǐng)參閱圖 2，圖2是圖l所示的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16的承載該硅片臺(tái)15—側(cè)的結(jié)構(gòu)示意圖。 該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16包括該支撐板160。該支撐板160靠近該硅片臺(tái)15的一側(cè) 設(shè)置有接口 163，該接口 163用于將該硅片臺(tái)15固定在該支撐板160上。本發(fā) 明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16的支撐板160包括4個(gè)接口 163，這4個(gè)接口 163呈四 邊形狀分布在該支撐板160上。
該支撐板160設(shè)置有硅片臺(tái)15和氣墊裝置161的兩個(gè)表面之間的側(cè)壁設(shè)置 有定位銷164,該支撐框架12的側(cè)壁設(shè)置有定位孔，該定位孔與該定位銷164 相配合固定該硅片臺(tái)15與該支撐框架12之間的位置。優(yōu)選的，該支撐框架12 的側(cè)壁向內(nèi)延伸出凸塊121,該定位孔設(shè)置于該凸塊121上。該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置 16通過(guò)3個(gè)定位銷164與支撐框架12配合以間接確保硅片臺(tái)15與支撐框架12 的準(zhǔn)確定位，不存在欠約束或過(guò)約束的問(wèn)題，定位精度高，從而為該光刻機(jī)10 的正常工作提供保障。
該支撐板160設(shè)置有硅片臺(tái)15和氣墊裝置161的兩個(gè)表面之間的側(cè)壁設(shè)置 有安全銷165，該支撐框架12的側(cè)壁設(shè)置凹槽。當(dāng)該硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置16與該 支撐框架12之間定位后，該安全銷165插入該支撐框架12的凹槽。當(dāng)該光刻 機(jī)IO正常工作時(shí)，如果該氣嚢17發(fā)生短時(shí)間的壓力不足現(xiàn)象，該安全銷165
9可短暫支撐硅片臺(tái)15。
請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D3,圖3是本發(fā)明的硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置16另一側(cè)面的結(jié)構(gòu)示意 圖。該支撐板160的與該硅片臺(tái)15相對(duì)的一側(cè)設(shè)置有氣墊裝置161、氣囊17、 驅(qū)動(dòng)裝置18和壓力檢測(cè)裝置。該壓力檢測(cè)裝置與該氣嚢17相連，用于檢測(cè)該 氣嚢17內(nèi)氣體的壓力。該氣嚢17分為兩組，分別為第一組氣嚢171和第二組 氣嚢172，該第一組氣嚢171與該第二組氣嚢172依次相間且呈多邊形對(duì)稱分布 在該支撐板160—側(cè)。優(yōu)選的，該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16包括六個(gè)氣囊，其中三個(gè) 為第一組氣嚢171，另外三個(gè)為第二組氣嚢172。該第一組氣嚢171與該第二組 氣嚢172依次相間且呈六邊形對(duì)稱分布在該支撐板160 —側(cè)。
與該第一組氣嚢171連接的壓力檢測(cè)裝置為第一壓力4全測(cè)裝置191，該第一 壓力檢測(cè)裝置191用于控制該第一組氣嚢171內(nèi)的氣體壓力。與該第二組氣嚢 172連接的壓力檢測(cè)裝置為第二壓力檢測(cè)裝置192，該第二壓力檢測(cè)裝置192用 于控制該第二組氣嚢172內(nèi)的氣體壓力。當(dāng)該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16將該硅片臺(tái)15 移入該支撐框架12后，該第一、第二組氣嚢171、 172內(nèi)充氣來(lái)共同支撐該支 撐板160及該硅片臺(tái)15。該氣墊裝置161以及該驅(qū)動(dòng)裝置18停留在該支撐板 160和該地基11之間。優(yōu)選的，該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16包括四個(gè)氣墊裝置161, 該四個(gè)氣墊裝置161呈四邊形對(duì)稱分布在該支撐板160的與該氣嚢17相同的一 側(cè)。
該驅(qū)動(dòng)裝置18包括驅(qū)動(dòng)支架181、滾輪182、傳動(dòng)裝置183、驅(qū)動(dòng)電機(jī)184 和片簧185。該驅(qū)動(dòng)支架181通過(guò)該片簧185與該支撐板160連接。該滾輪]82、 該傳動(dòng)裝置183、該驅(qū)動(dòng)電才/L 184i殳置于該驅(qū)動(dòng)支架181。該驅(qū)動(dòng)電枳』184通過(guò) 該傳動(dòng)裝置183帶動(dòng)該滾輪182轉(zhuǎn)動(dòng)。優(yōu)選的，該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16包括兩個(gè) 驅(qū)動(dòng)裝置18。該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16的工作原理如下
當(dāng)該硅片臺(tái)15將要移出該支撐框架12時(shí)，緩慢釋放該第一、第二組氣嚢 171、 172內(nèi)的氣體，在該第一、第二組氣囊171、 172釋放氣體的同時(shí)，打開該 氣墊裝置161的開關(guān)使該氣墊裝置161工作，該氣墊裝置161與該地基11之間 形成氣墊。該第一、第二組氣嚢171、 172內(nèi)的氣體逐漸減少，該硅片臺(tái)15的 高度逐漸下降。當(dāng)該硅片臺(tái)15的高度下降到一定程度時(shí)，由于該氣墊裝置161 與該地基11之間形成的氣墊厚度有限，該驅(qū)動(dòng)裝置18上的滾輪182與該地基 11直接接觸，從而使該驅(qū)動(dòng)支架181與該支撐板160之間的片簧185向背離地 基11的方向發(fā)生變形，該片簧185產(chǎn)生的回復(fù)力再通過(guò)驅(qū)動(dòng)支架181直接作用 于該滾輪182上，該回復(fù)力對(duì)該滾輪182的作用力垂直作用于地基11上，從而 使形成的氣墊支撐該支撐板160及該硅片臺(tái)15,此時(shí)，該第一、第二組氣嚢171、 172處于非工作狀態(tài)。該驅(qū)動(dòng)電初j 184通過(guò)該傳動(dòng)裝置183帶動(dòng)該滾輪182在地 基11上緩慢滾動(dòng)，該滾輪182與地面之間形成有效的摩擦，便于在地面上滾動(dòng)。 從而將該硅片臺(tái)15移出該支撐框架12。
當(dāng)該硅片臺(tái)15將要移入該支撐框架12時(shí)，打開該氣墊裝置161的開關(guān)使 該氣墊裝置161工作，該氣墊裝置161與該地基11之間形成氣墊，該驅(qū)動(dòng)裝置 18上的驅(qū)動(dòng)電機(jī)184通過(guò)該傳動(dòng)裝置183帶動(dòng)該滾輪182反向旋轉(zhuǎn)，從而將該 硅片臺(tái)15移入到該支撐框架12內(nèi)。然后，對(duì)該第一、第二組氣囊171、 172開 始充氣，該硅片臺(tái)15的高度緩慢升高，當(dāng)該硅片臺(tái)15升到一定高度時(shí)，該氣 墊裝置161與該驅(qū)動(dòng)裝置18離開該地基11,并處于該支撐板160和該地基11 之間，該氣墊裝置161停止工作，該驅(qū)動(dòng)裝置18的片簧185恢復(fù)到自由狀態(tài)， 該第一、第二組氣囊171、 172支撐該支撐板160及該硅片臺(tái)15。繼續(xù)對(duì)該第一、 第二組氣嚢171、 172進(jìn)行充氣，直到該定位銷164與該支撐框架12的定位孔良好定位后，保持該第一、第二組氣嚢171、 172內(nèi)的氣體恒壓。該安全銷165 插入該支撐框架12的凹槽，以防止該第一、第二組氣嚢171、 172可能出現(xiàn)的 短時(shí)間壓力不足，導(dǎo)致該硅片臺(tái)15高度下降的問(wèn)題，為該光刻機(jī)10連續(xù)穩(wěn)定 的工作提供保障。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16利用該第一、第二組氣嚢171、 172支撐該支撐板160及該硅片臺(tái)15,該第一、第二組氣囊171、 172釋放氣體 的同時(shí)打開該氣墊裝置161，該氣墊裝置161形成的氣墊支撐該支撐板160及該 硅片臺(tái)15,該硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16利用該滾輪182將該硅片臺(tái)15移出或移入該 支撐框架12。在該硅片臺(tái)15移出或移入該支撐框架12時(shí)，由于該氣墊裝置161 與地基11之間形成氣墊，因此，本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16對(duì)驅(qū)動(dòng)電機(jī)184 的功率要求較低，該硅片臺(tái)15的移入移出過(guò)程簡(jiǎn)單易行，輕松方便。該硅片臺(tái) 15與支撐框架12多次拆裝后，仍能夠確保該硅片臺(tái)15相對(duì)于該支撐框架12較 高的重復(fù)定位精度，精度損失少。
采用本發(fā)明的珪片臺(tái)移動(dòng)裝置16的光刻機(jī)10利用該第一、第二組氣嚢171、 172支撐該支撐板160及該硅片臺(tái)15,由于該第一、第二組氣囊171、 172的剛 度較小，可以有效減少地基11對(duì)該硅片臺(tái)15的振動(dòng)影響，提高了該光刻機(jī)IO 的工作性能。
本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16的第一壓力檢測(cè)裝置191控制第一組氣嚢171 的氣體壓力，第二壓力才全測(cè)裝置192控制第二組氣嚢172的氣體壓力。笫一組 氣嚢171除了施加垂直向上的作用力于該定位銷164以使定位銷164與定位孔 良好配合來(lái)間接確保硅片臺(tái)15與支撐框架12準(zhǔn)確定位之外，還要聯(lián)合第二組 氣嚢172—同支撐整個(gè)硅片臺(tái)15和支撐板160的重量。第一組氣嚢171與第二 組氣嚢172共6個(gè)氣嚢成對(duì)稱分布，以保證該硅片臺(tái)15的受力平衡。本發(fā)明的光刻機(jī)10的支撐框架12設(shè)置在地基11上，也可以設(shè)置在其他基
座上；該驅(qū)動(dòng)裝置18的驅(qū)動(dòng)支架181通過(guò)片簧185連接支撐板160，也可以直 接設(shè)置在該支撐板160上，并不限于上述實(shí)施方式所述。
本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16的支撐板160包括4個(gè)接口 163，也可以包括 其他個(gè)數(shù)的接口；該4個(gè)接口 163呈四邊形分布在該支撐板160上，也可以以 其他形狀分布在支撐板160上，并不限于上述實(shí)施方式所述。
本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置16包括6個(gè)對(duì)稱分布的氣嚢17及4個(gè)對(duì)稱分布 的氣墊裝置161,該氣嚢17以及該氣墊裝置161的^:量和分布情況也可以才艮據(jù) 實(shí)際需要而做適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，并不限于上述實(shí)施方式所述。
在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下還可以構(gòu)成許多有很大差別的實(shí)施
例。應(yīng)當(dāng)理解，除了如所附的權(quán)利要求所限定的，本發(fā)明不限于在說(shuō)明書中所 述的具體實(shí)施例。
1權(quán)利要求
1.一種光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置包括支撐該光刻機(jī)硅片臺(tái)的支撐板；設(shè)置于該支撐板的與該硅片臺(tái)相對(duì)一側(cè)的氣囊；設(shè)置于該支撐板的與該氣囊同側(cè)的氣墊裝置；設(shè)置于該支撐板的與該氣囊同側(cè)的滾輪；向該氣囊內(nèi)充氣，該氣囊支撐該支撐板及該光刻機(jī)的硅片臺(tái)，當(dāng)移動(dòng)該光刻機(jī)硅片臺(tái)時(shí)，該氣囊釋放氣體的同時(shí)打開該氣墊裝置，該氣墊裝置形成的氣墊支撐該支撐板及該硅片臺(tái)，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置利用該滾輪將該硅片臺(tái)移出或移入該光刻機(jī)。
2. 如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該光刻機(jī)硅 片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括與該支撐板連接的驅(qū)動(dòng)支架，該滾輪設(shè)置于該驅(qū)動(dòng)支架。
3. 如權(quán)利要求2所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該光刻機(jī)硅 片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)，該驅(qū)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)該滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
4. 如權(quán)利要求3所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該驅(qū)動(dòng)電機(jī) 通過(guò)傳動(dòng)裝置帶動(dòng)該滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
5. 如權(quán)利要求4所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該驅(qū)動(dòng)電機(jī) 和該傳動(dòng)裝置設(shè)置于該驅(qū)動(dòng)支架。
6. 如權(quán)利要求2所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該驅(qū)動(dòng)支架 通過(guò)片簧與該支撐板連接。
7. 如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該光刻機(jī)硅 片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括壓力檢測(cè)裝置，該壓力檢測(cè)裝置與該氣嚢連接，檢測(cè)該氣囊內(nèi)氣體的壓力。
8. 如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該光刻機(jī)珪 片臺(tái)的移動(dòng)裝置的氣嚢分為兩組，分別為第一組氣嚢和第二組氣嚢，調(diào)整該第 一組氣囊內(nèi)的氣體以確保該光刻機(jī)硅片臺(tái)與該光刻機(jī)的準(zhǔn)確定位，該第一組氣 囊和第二組氣囊共同支撐該支撐板及硅片臺(tái)。
9. 如權(quán)利要求8所述的光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置，其特征在于該光刻機(jī)硅 片臺(tái)的移動(dòng)裝置還包括與該第一組氣嚢連接的第一壓力檢測(cè)裝置,與該第二組氣 嚢連接的第二壓力檢測(cè)裝置。
10. —種光刻機(jī)，包括一支撐框架，其特征在于，該光刻機(jī)還包括硅片臺(tái)的 移動(dòng)裝置，該硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置包括支撐該光刻機(jī)硅片臺(tái)的支撐板； 設(shè)置于該支撐板的與該硅片臺(tái)相對(duì)一側(cè)的氣嚢； 設(shè)置于該支撐板的與該氣嚢同側(cè)的氣墊裝置； 設(shè)置于該支撐板的與該氣嚢同側(cè)的滾輪；向該氣囊內(nèi)充氣，該氣嚢支撐該支撐板及該光刻機(jī)的硅片臺(tái)；當(dāng)移動(dòng)該光 刻機(jī)硅片臺(tái)時(shí)，該氣嚢釋放氣體的同時(shí)打開該氣墊裝置，該氣墊裝置形成的氣 墊支撐該支撐板及該硅片臺(tái)，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置利用該滾輪將該硅片 臺(tái)移出或移入該支撐框架。
11. 如權(quán)利要求IO所述的光刻機(jī)，其特征在于該支撐板設(shè)置有硅片臺(tái)和氣 墊裝置的兩個(gè)表面之間的側(cè)壁設(shè)置有定位銷，該定位銷固定該光刻機(jī)硅片臺(tái)與 該支撐框架之間的位置。
12. 如權(quán)利要求11所述的光刻機(jī)，其特征在于該定位銷的個(gè)數(shù)為3。
13. 如權(quán)利要求11所述的光刻機(jī)，其特征在于該支撐框架包括定位孔，該定位孔與該定位銷相配合固定該光刻機(jī)硅片臺(tái)與該支撐框架之間的位置。
14. 如權(quán)利要求13所述的光刻機(jī)，其特征在于該支撐框架的側(cè)壁向內(nèi)延伸出凸塊，該定位孔設(shè)置于凸塊。
15. 如權(quán)利要求IO所述的光刻機(jī)，其特征在于該支撐板設(shè)置有硅片臺(tái)和氣 墊裝置的兩個(gè)表面之間的側(cè)壁設(shè)置有安全銷，該支撐框架的側(cè)壁設(shè)置凹槽，當(dāng) 該光刻機(jī)硅片臺(tái)與該支撐框架之間定位后，該安全銷插入該凹槽。
16. 如權(quán)利要求IO所述的光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置 還包括與該支撐板連接的驅(qū)動(dòng)支架，該滾輪設(shè)置于該驅(qū)動(dòng)支架。
17. 如權(quán)利要求16所述的光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置 還包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)，該驅(qū)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)該滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
18. 如權(quán)利要求17所迷的光刻機(jī)，其特征在于該驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)傳動(dòng)裝置帶 動(dòng)該滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
19. 如權(quán)利要求18所述的光刻才幾，其特征在于該驅(qū)動(dòng)電機(jī)和該傳動(dòng)裝置設(shè) 置于該驅(qū)動(dòng)支架。
20. 如權(quán)利要求IO所述的光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置 的氣嚢分為兩組，分別為第一組氣嚢和第二組氣嚢，調(diào)整該第一組氣嚢內(nèi)的氣 體以確保該光刻機(jī)硅片臺(tái)與該光刻機(jī)的準(zhǔn)確定位，該第一組氣嚢和第二組氣嚢 共同支撐該支撐板和該硅片臺(tái)。
21. 如權(quán)利要求20所述的光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置 還包括與該第一組氣嚢連接的第一壓力檢測(cè)裝置，與該第二組氣嚢連接的第二壓 力檢測(cè)裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置及采用該移動(dòng)裝置的光刻機(jī)。該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置包括支撐該光刻機(jī)硅片臺(tái)的支撐板；設(shè)置于該支撐板的與該硅片臺(tái)相對(duì)一側(cè)的氣囊；設(shè)置于該支撐板的與該氣囊同側(cè)的氣墊裝置；設(shè)置于該支撐板的與該氣囊同側(cè)的滾輪；向該氣囊內(nèi)充氣，該氣囊支撐該支撐板及該光刻機(jī)的硅片臺(tái)，當(dāng)移動(dòng)該光刻機(jī)硅片臺(tái)時(shí)，該氣囊釋放氣體的同時(shí)打開該氣墊裝置，該氣墊裝置形成的氣墊支撐該支撐板及該硅片臺(tái)，該光刻機(jī)硅片臺(tái)的移動(dòng)裝置利用該滾輪將該硅片臺(tái)移出或移入該光刻機(jī)。采用本發(fā)明的硅片臺(tái)移動(dòng)裝置的光刻機(jī)的硅片臺(tái)的移入移出過(guò)程更加簡(jiǎn)單，能夠確保硅片臺(tái)與光刻機(jī)支撐框架的準(zhǔn)確定位，并減少地面振動(dòng)對(duì)硅片臺(tái)的干擾。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101609263SQ200910055189
公開日2009年12月23日 申請(qǐng)日期2009年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月22日
發(fā)明者育 劉, 王天明, 磊 秦, 袁志揚(yáng) 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司