專(zhuān)利名稱(chēng)：用于制版掩膜的噴墨記錄用片材及制造苯胺印刷版的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它具有良好的曝光性質(zhì)并且當(dāng)在制版步驟中于減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)顯示出良好的透氣性，還涉及制造苯胺印刷版的方法。
背景技術(shù)：
迄今為止，在版印刷，例如橡皮版印刷中，普遍通過(guò)照相工藝生產(chǎn)印刷版，該工藝使用由銀照相系統(tǒng)原底拷貝制備得到的制版掩膜。然而，近些年來(lái)，已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種使用不進(jìn)行濕處理的噴墨記錄系統(tǒng)的簡(jiǎn)單、廉價(jià)的制版掩膜，并用于制造苯胺印刷版、絲印刷版等。
在制造苯胺印刷版的工藝中，使制版掩膜與光敏樹(shù)脂版在減壓下接觸，然后曝光。此時(shí)，由于透氣不充分，就會(huì)產(chǎn)生這樣的問(wèn)題，即起泡存在導(dǎo)致曝光失敗，由此得到的苯胺印刷版的分辨率會(huì)變差，或者會(huì)導(dǎo)致圖案的不均勻轉(zhuǎn)移。制版掩膜上的不規(guī)則處的尺寸和密度被認(rèn)為會(huì)對(duì)殘留的氣泡產(chǎn)生影響。并且，通過(guò)使用噴墨記錄系統(tǒng)的制版掩膜相互接觸的光敏樹(shù)脂版和墨水接收層之間透氣，被認(rèn)為是很重要的。因此，報(bào)道了在墨水接收層(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)使用表面粗糙劑，例如二氧化硅顆粒的方法或通過(guò)對(duì)得到的噴墨記錄介質(zhì)進(jìn)行壓花處理以使墨水接收層的表面不規(guī)則的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。然而，在各個(gè)方法中，使用含有水溶性樹(shù)脂作為主要部分的可膨脹的墨水接收層作為墨水接收層，因此會(huì)產(chǎn)生這樣一個(gè)問(wèn)題就是墨水的干燥很慢，并且掩膜本身的耐水性很低。此外，關(guān)于使用二氧化硅顆粒表面粗糙劑的方法會(huì)產(chǎn)生這樣一個(gè)問(wèn)題，即沒(méi)有關(guān)于墨水接收層的表面粗糙度的專(zhuān)門(mén)研究，在制版掩膜與光敏樹(shù)脂版在減壓下接觸的時(shí)候，不知道是否有足夠的透氣。并且通過(guò)進(jìn)行壓紋處理在墨水接收層表面上形成不規(guī)則形狀的方法，不可能形成墨水接收層的足夠的表面粗糙度，也不足以改善透氣性。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1JP-A-2000-135860專(zhuān)利文獻(xiàn)2JP-A-2002-52807

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它具有良好的曝光性質(zhì)并在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)顯示出良好的透氣性，還提供了制造使用該片得到苯胺印刷版的方法。
本發(fā)明提供了用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它包括基片和形成在其上的多孔層，它具有JIS-K736-1規(guī)定的至少70％的總光透射比，其中，所述多孔層含有100質(zhì)量份的無(wú)機(jī)顆粒，1-30質(zhì)量份的粘合劑，以及0.1-3質(zhì)量份的平均粒度為4-15μm的多孔顆粒，所述無(wú)機(jī)顆粒選自于氧化鋁、水合氧化鋁、以及二氧化硅、二氧化硅-氧化鋁復(fù)合物，其平均粒度最大為250nm，所述多孔層的厚度為5-50μm，J.TAPPI No.5-2所規(guī)定的奧肯型(Oken type)平滑度為200-10000秒(seconds)。在該文獻(xiàn)中，平均粒度是以大顆粒的粒度計(jì)。
此外，本發(fā)明提供了一種制造苯胺印刷版的方法，它包括對(duì)用于上述制版掩膜的噴墨記錄用片材上的圖案用黑色顏料墨水進(jìn)行噴墨記錄，以制造制版掩膜的步驟，所述掩膜在350nm波長(zhǎng)下吸光度為3-5，在黑色印刷部分J.TAPPI No.5-2所規(guī)定的奧肯型平滑度為1000-50000秒，以及在減壓下將得到的制版掩膜與光敏樹(shù)脂版接觸，然后進(jìn)行曝光處理以制造苯胺印刷版的步驟。
按照本發(fā)明，能得到用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它具有高分辨率，并且在制版過(guò)程中于減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)透氣性極好，并且不會(huì)曝光失敗。此外，通過(guò)本發(fā)明的方法，能得到具有高分辨率，并且沒(méi)有例如印刷不規(guī)則等缺陷的苯胺印刷版。
具體實(shí)施例方式
在本發(fā)明中，在基片上形成多孔層，該多孔層含有100質(zhì)量份的無(wú)機(jī)顆粒，1-30質(zhì)量份的粘合劑，0.1-3質(zhì)量份的平均粒度為4-15μm的多孔顆粒。因此，能得到具有合適的平滑度且透光度極好的多孔層的制版掩膜，較佳的是可以在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)平穩(wěn)地進(jìn)行透氣。
在本發(fā)明中，對(duì)用于基片的材料并無(wú)特別限制，可以使用，例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚烯烴(例如聚丙烯或聚乙烯)或聚碳酸酯。
基片的厚度優(yōu)選為50-300μm。較佳地，該基片的總光透射比至少為90％。如果基片的厚度小于50μm，則得到的制版掩膜的強(qiáng)度會(huì)變差，并且在層壓到光敏樹(shù)脂版上時(shí)的操作效率會(huì)降低，此外，記錄用片材的剛性會(huì)不足，并且在打印機(jī)中的供送性能會(huì)變差，這些都是不利的。如果基片的厚度超過(guò)300μm，則基片不能進(jìn)入到打印機(jī)，這也是不利的。特別好的是，基片的厚度為75-200μm。此外，如果需要，可以對(duì)基片進(jìn)行各種表面處理，例如用于表面處理的電暈放電處理、涂覆等。
所述無(wú)機(jī)顆粒是選自于氧化鋁、水合氧化鋁、二氧化硅和二氧化硅-氧化鋁復(fù)合物的無(wú)機(jī)顆粒中的任何一種。就氧化鋁而言，優(yōu)選火成氧化鋁；就水合氧化鋁而言，優(yōu)選勃姆石；就二氧化硅而言，優(yōu)選膠體二氧化硅或合成的細(xì)顆粒二氧化硅(例如沉淀二氧化硅或火成二氧化硅)。另外，就二氧化硅-氧化鋁復(fù)合物而言，常規(guī)的就適合使用。然而，對(duì)于本發(fā)明的無(wú)機(jī)顆粒，優(yōu)選使用由二氧化硅和氧化鋁構(gòu)成的團(tuán)聚顆粒，該團(tuán)聚顆粒通過(guò)將溶于水時(shí)顯酸性的氧化鋁鹽逐步加入到含有二氧化硅顆粒的二氧化硅溶膠中而獲得。從極好的墨水吸收性、定影性、以及由此可得到的多孔層的透光度的角度來(lái)講，特別優(yōu)選的無(wú)機(jī)顆粒是勃姆石、火成氧化鋁或火成二氧化硅。此外，所述無(wú)機(jī)顆粒需要具有最大為250nm的平均粒度，由此得到的多孔層的透光度會(huì)很好，得到的記錄用片材的總透射比會(huì)改善，曝光性能會(huì)很好。如果所述無(wú)機(jī)顆粒的平均粒度超過(guò)250nm，則得到的多孔層的透光度會(huì)變差，而這是不利的。無(wú)機(jī)顆粒的平均粒度特別優(yōu)選10-200nm。
所述粘合劑可以是，例如淀粉或其改性產(chǎn)物、聚乙烯醇或其改性產(chǎn)物、苯乙烯/丁二烯膠乳、腈/丁二烯膠乳、羥基纖維素、羥甲基纖維素、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸或聚丙烯酰胺。其中，優(yōu)選聚乙烯醇或其改性產(chǎn)物，因?yàn)榈玫降亩嗫讓拥哪招曰蚰退粤己谩?br> 在本發(fā)明中，多孔層包括1-30質(zhì)量份的粘合劑，以100質(zhì)量份無(wú)機(jī)顆粒計(jì)。因此，能得到墨水吸收性極好且不易受由于在噴墨記錄之后的處理過(guò)程中墨水的再沉淀而導(dǎo)致的污染的多孔層。如果粘合劑的含量少于1質(zhì)量份，則多孔層的機(jī)械強(qiáng)度會(huì)變差，而這是不利的。如果含量超過(guò)30質(zhì)量份，則得到的多孔層的墨水吸收性會(huì)變差，而這是不利的。粘合劑的含量特別優(yōu)選3-15質(zhì)量份。
較佳地，多孔層的平均孔隙半徑為3-30nm，孔隙體積為0.3-2cm3/g，因此能得到具有良好的墨水吸收性的多孔層。特別優(yōu)選的是，多孔層平均孔隙半徑為8-15nm，孔隙體積為0.5-1.5cm3/g。在本發(fā)明中，孔隙的性質(zhì)通常用氮?dú)馕?脫吸附方法來(lái)測(cè)定。
此外，所述多孔層含有0.1-3質(zhì)量份的平均粒度為4-15μm的多孔顆粒、以100質(zhì)量份無(wú)機(jī)顆粒計(jì)。由此能在苯胺印刷版的制造過(guò)程中，在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)透氣充足，并且能得到?jīng)]有針眼的具有高掩蔽性能的制版掩膜。如果多孔顆粒的平均粒度小于4μm，則平滑度會(huì)很高，由此透氣性會(huì)變差，從而導(dǎo)致曝光失敗，這是不利的。如果平均粒度超過(guò)15μm，則會(huì)在噴墨記錄過(guò)程中形成針眼，與光敏樹(shù)脂版的接觸性會(huì)變差，會(huì)在制版掩膜與光敏樹(shù)脂版之間可能形成空隙，并且在曝光時(shí)會(huì)產(chǎn)生不規(guī)則形狀，這些都是不利的。此外，如果多孔顆粒的含量小于0.1質(zhì)量份，則難以將多孔層調(diào)節(jié)整到適當(dāng)?shù)钠交?。如果含量超過(guò)3質(zhì)量份，則得到的制版掩膜的總透射比會(huì)變差，這是不利的。多孔顆粒的含量特別優(yōu)選為0.5-2質(zhì)量份。
就多孔顆粒而言，視需要，可以使用無(wú)機(jī)顏料顆?；蛴袡C(jī)顏料顆粒。無(wú)機(jī)顏料顆?？梢允?，例如氧化鋁、二氧化硅、二氧化硅/氧化鋁組合物、鋁硅酸鹽、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦、氧化鋅、碳酸鋅、硅酸鋁、硅酸鈣、硅酸鎂、高嶺土或滑石。有機(jī)顏料顆粒可以是，例如脲醛樹(shù)脂、纖維素、淀粉或聚甲基丙烯酸甲酯。就多孔顆粒而言，從普遍的實(shí)用性和顆粒粒度的均勻性的角度考慮，特別優(yōu)選二氧化硅。
所述多孔顆粒平均孔隙半徑宜為1.5-50nm，孔隙體積為宜0.5-3cm3/g。因此當(dāng)在得到的多孔層上進(jìn)行噴墨記錄時(shí)，能得到?jīng)]有針眼的具有良好分辨率的制版掩膜。
本發(fā)明中，多孔層需要的厚度為5-50μm。如果多孔層的厚度小于5μm，則墨水的吸收性會(huì)變差，噴墨記錄會(huì)變困難，這些都是不利的。如果厚度超過(guò)50μm，則得到的多孔層的透光性會(huì)變差，并且對(duì)基片的粘合強(qiáng)度變差，這些也是不利的。多孔層的特別優(yōu)選的厚度為10-40μm。
得到的多孔層需要的平滑度(奧肯型)為200-10000秒，如J.TAPPI No.5-2所規(guī)定，由此在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)，空氣可以平穩(wěn)地放出釋放。如果平滑度小于200秒，則在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)粘合強(qiáng)度會(huì)變差，由此會(huì)在曝光時(shí)造成不規(guī)則，這些都是不利的。如果平滑度超過(guò)10000秒，則在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)的透氣性會(huì)不足，且可能導(dǎo)致曝光失敗，這些都是不利的。多孔層特別優(yōu)選的平滑度(奧肯型)為400-8500秒。
本發(fā)明得到的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材需要具有JIS K7361-1所規(guī)定的至少70％的總透射比。如果總透射比小于70％，則曝光性質(zhì)會(huì)變差，這是不利的。總透射比優(yōu)選至少80％，特別優(yōu)選至少90％。
本發(fā)明的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，可以使用染料墨水或顏料墨水。然而，從掩蔽性能、貯藏和耐水性的角度考慮，特別優(yōu)選顏料墨水。顏料墨水中的顏料的平均粒度宜為0.005-1μm，由此顏料將會(huì)全部沉積在多孔層的表面，而不會(huì)滲透到具有上述孔隙性質(zhì)的多孔層的內(nèi)部中，并能得到具有良好掩蔽性能的制版掩膜。
在本發(fā)明中，作為在所述片上形成多孔層的手段，可以使用常規(guī)的方法。例如，可以提及下述方法，其中，制備含有無(wú)機(jī)顆粒、粘合劑和多孔顆粒的漿液，并通過(guò)例如輥涂機(jī)、氣刀涂布機(jī)、刮涂、桿涂機(jī)、棒涂機(jī)、點(diǎn)涂機(jī)、凹板涂機(jī)、模壓涂布機(jī)、幕涂機(jī)、噴涂機(jī)或滑涂機(jī)施涂漿液，然后干燥。干燥方法可以是，例如作為加熱系統(tǒng)的熱空氣、紅外線或加熱汽缸。
在本發(fā)明中，苯胺印刷版宜通過(guò)以下步驟來(lái)制備，在用于本發(fā)明的制版掩膜的噴墨記錄用片材上用黑色顏料墨水進(jìn)行噴墨記錄，以制造制版掩膜，該制版掩膜的黑色印刷部分在350nm波長(zhǎng)下的吸光度為3-5，J.TAPPI No.5-2所規(guī)定的平滑度(奧肯型)為1000-50000秒。當(dāng)黑色印刷部分在350nm波長(zhǎng)下的吸光度為3-5時(shí)，在用于制版掩膜的噴墨記錄用片材的多孔層保留適宜含量的顏料，由此用于曝光的透光度適宜。此外，黑色顏料墨水進(jìn)行噴墨記錄的印刷部分的平滑度為1000-50000秒時(shí)，在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)可充分地進(jìn)行透氣。如果黑色印刷部分的平滑度小于1000秒，則在印刷表面與光敏樹(shù)脂版之間會(huì)形成空隙，且曝光時(shí)的分辨率會(huì)降低，這些是不利的。如果平滑度超過(guò)50000秒，則透氣不能平穩(wěn)地進(jìn)行，且會(huì)導(dǎo)致轉(zhuǎn)移不規(guī)則，這些都是不利的。
通過(guò)使用由此得到的制版掩膜，可以通過(guò)將掩膜與光敏樹(shù)脂版在減壓下接觸，接著進(jìn)行曝光處理的步驟來(lái)制造苯胺印刷版。就該光敏樹(shù)脂版而言，可適宜地使用迄今為止普遍用作苯胺印刷版的那些。例如，可以是層壓在基片膜上的具有粘合劑層、光敏樹(shù)脂層和保護(hù)層等的固體光敏樹(shù)脂版。優(yōu)選的是，在減壓下所述接觸和曝光處理宜用常規(guī)方法進(jìn)行。
以下，將參照實(shí)施例(實(shí)施例1-3和實(shí)施例8)和比較例(實(shí)施例4-7)進(jìn)一步詳細(xì)地描述。此外，在這些實(shí)施例中，除非特別說(shuō)明，“份”指“質(zhì)量份”，“％”指“質(zhì)量％”。另外，孔隙特征的值通過(guò)基于Quantachrome Instruments公司制造的AUTOSORB 3B的測(cè)量結(jié)果，根據(jù)氮?dú)馕?脫吸附方法計(jì)算得到。
實(shí)施例1將100份(固體含量)氧化鋁溶膠、10份聚乙烯醇(商品名PVA124，由Kuraray有限公司制造)、0.5份硼酸和0.5份多孔二氧化硅顆粒(商品名由SUNSPHEREH51，由Dohkai化學(xué)工業(yè)有限公司制造，平均粒度5μm，平均孔隙半徑2.5nm，孔隙體積1cm3/g)混合以得到固體含量為18％的涂布液。將該涂布液用模壓涂布機(jī)施涂在透明的厚度為100μm的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜上，使得干燥后的涂層厚度為25μm，并在120℃干燥2分鐘以后得到噴墨記錄用片材。得到的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.66cm3/g。
以下，通過(guò)下述方法制備氧化鋁溶膠。
向容積為2升的玻璃反應(yīng)器中加入327g聚氯化鋁水溶液(鋁濃度為23.5％，以Al2O3計(jì)算；Cl濃度8.1％，堿性84％(依據(jù)JIS K1475)，商品名Takibine#1500，由TAKI化學(xué)有限公司制造)和1548g水，并加熱到95℃。然后，加入125g市售鋁酸鈉溶液(Al2O320％，Na2O19％)，接著在攪拌下保持液體溫度為95℃，固化24小時(shí)得到漿液。此時(shí)，在95℃下剛加完鋁酸鈉溶液后液體的pH即為8.7。用超過(guò)濾設(shè)備洗滌固化后的漿液，然后再加熱到95℃，并以相當(dāng)于洗滌后漿液中總固體含量的2％的量加入氨基硫酸鹽，接著在減壓下濃縮直到總固體含量變?yōu)?1％，接著進(jìn)行超聲分散以得到pH為4.5且含有勃姆石晶體顆粒的氧化鋁溶膠。此時(shí)，在氧化鋁溶膠中，勃姆石晶體顆粒是團(tuán)聚顆粒，并且通過(guò)動(dòng)力光散射方法用顆粒尺寸測(cè)定設(shè)備(型號(hào)LPA-30100，Otsuka Electronics有限公司制造)測(cè)得其平均粒度為145nm。
評(píng)價(jià)方法對(duì)得到的噴墨記錄用片材進(jìn)行下面的評(píng)價(jià)。評(píng)價(jià)結(jié)果示于表1。這里，對(duì)得到的噴墨記錄用片材的印刷，噴墨打印機(jī)(型號(hào)PX7000，由Seiko Epson公司制造)，使用黑色顏料墨水(商品名PHOTOBLACK ICBk24，由Seiko Epson公司制造)進(jìn)行噴墨記錄，以形成用于評(píng)價(jià)的圖案。
總透射比依據(jù)JIS K7361-1使用濁度計(jì)(型號(hào)HGM-2K，由Suga Test儀器有限公司制造)進(jìn)行測(cè)定。
平滑度依據(jù)J.TAPPI No.5-2，使用奧肯型平滑測(cè)試儀(型號(hào)EYO-5-1M，由Asahi Seiko有限公司制造，噴嘴B-1000)對(duì)打印前的噴墨記錄用片材和噴墨記錄用片材的黑色印刷部分測(cè)試。
在350nm的吸收通過(guò)使用分光光度計(jì)(型號(hào)UV2200，Shimadzu公司制造)對(duì)噴墨記錄用片材的黑色印刷部分進(jìn)行測(cè)定。
外觀對(duì)噴墨記錄用片材的黑色印刷部分檢查針眼的存在。符號(hào)○表明沒(méi)有觀察到針眼，△表明稍觀察到實(shí)際有問(wèn)題水準(zhǔn)的針眼，×表明針眼太多以致于不能實(shí)際使用。另外，在印刷之后，使用噴墨記錄用片材在苯胺印刷版上進(jìn)行印刷，并對(duì)得到的苯胺印刷版確定其透氣性能和印刷版的不規(guī)則性。對(duì)于透氣性能，符號(hào)○表明透氣性良好且粘著性能良好，△表明釋放了空氣，但稍觀察到呈實(shí)際上有問(wèn)題的水準(zhǔn)的起皺或皺紋，×表明透氣性太差以致于不能實(shí)際使用。此外，對(duì)于版的不規(guī)則性，符號(hào)○表明沒(méi)有觀察到不規(guī)則處，△表明在一定程度上觀察到不規(guī)則處，但在實(shí)踐上沒(méi)有問(wèn)題，×表明不規(guī)則處太多以致于不能實(shí)際使用。
在下述實(shí)施例2-8中，以同樣的方式進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果示于表1。
實(shí)施例2以與實(shí)施例1同樣的方式得到噴墨記錄用片材，除了將多孔顆粒換成其它多孔二氧化硅顆粒(商品名SUNSPHERE H121，由Dohkai化學(xué)工業(yè)有限公司制造，平均粒度12μm，平均孔隙半徑2.5nm，孔隙體積1cm3/g)以外。得到的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.66cm3/g。
實(shí)施例3將100份火成二氧化硅(商品名AEROSIL 300，由Nippon Aerosil公司制造，平均粒度14nm)、4份聚二烯丙基胺型陽(yáng)離子樹(shù)脂(商品名SHALLOL DC902，由DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU有限公司制造)、25份聚乙烯醇、3份硼酸和0.5份與和實(shí)施例1中相同的多孔二氧化硅顆?；旌弦缘玫焦腆w含量為11％的涂布液。使用該涂布液，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行操作，得到噴墨記錄用片材。所得到的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為11nm，孔隙體積為0.9cm3/g。
實(shí)施例4以與實(shí)施例1相同的方式得到噴墨記錄用片材，除了使用球形的聚甲基丙烯酸甲酯樹(shù)脂顆粒(商品名MBX8，由Sekisui塑料有限公司制造，平均粒度8μm，無(wú)孔的)來(lái)代替多孔二氧化硅顆粒以外。所得到的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.66cm3/g。
實(shí)施例5以與實(shí)施例1相同的方式得到噴墨記錄用片材，除了沒(méi)有使用多孔二氧化硅顆粒以外。所得到的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.66cm3/g。
實(shí)施例6
以與實(shí)施例1相同的方式得到噴墨記錄用片材，除了將多孔顆粒換成其它多孔二氧化硅顆粒(商品名SUNSPHERE H31，由Dohkai化學(xué)工業(yè)有限公司制造，平均粒度3μm，平均孔隙半徑2.5nm，孔隙體積1cm3/g)以外。所得的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.66cm3/g。
實(shí)施例7以與實(shí)施例1相同的方式得到噴墨記錄用片材，除了將多孔顆粒換成其它多孔二氧化硅顆粒(商品名SUNSPHERE H201，由Dohkai化學(xué)工業(yè)有限公司制造，平均粒度20μm，平均孔隙半徑2.5nm，孔隙體積1cm3/g)以外。所得的噴墨記錄用片材的多孔層平均的孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.66cm3/g。
實(shí)施例8以與實(shí)施例1相同的方式得到噴墨記錄用片材，除了將多孔二氧化硅顆粒的量換成0.4份以外。所得到的噴墨記錄用片材的多孔層的平均孔隙半徑為9nm，孔隙體積為0.64cm3/g。
表1

本發(fā)明的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材最適合用于橡皮版印刷制版掩膜。
提交于2004年9月30日的日本專(zhuān)利申請(qǐng)2004-286955和提交于2005年3月15日的日本專(zhuān)利申請(qǐng)2005-073191的全部?jī)?nèi)容包括說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求和摘要，全部在本文中引用作為參考。
權(quán)利要求
1.一種用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它包括基片和形成在其上的多孔層，所述記錄用片材具有JIS-K7361-1所規(guī)定的至少70％的總光透射比，其中，所述多孔層含有100質(zhì)量份的無(wú)機(jī)顆粒，1-30質(zhì)量份的粘合劑，以及0.1-3質(zhì)量份的平均粒度為4-15μm的多孔顆粒，所述無(wú)機(jī)顆粒選自于氧化鋁、水合氧化鋁、二氧化硅和二氧化硅—氧化鋁復(fù)合物，其平均粒度最大為250nm，所述多孔層的厚度為5-50μm，且J.TAPPI No.5-2所規(guī)定的奧肯型平滑度為200-10000秒。
2.如權(quán)利要求1所述的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，其特征在于，所述無(wú)機(jī)顆粒是勃姆石、火成氧化鋁或火成二氧化硅。
3.如權(quán)利要求1或2所述的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，其特征在于，所述多孔層的平均孔隙半徑為3-30nm，且孔隙體積為0.3-2cm3/g。
4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，其特征在于，所述多孔顆粒是二氧化硅。
5.一種制造苯胺印刷版的方法，它包括對(duì)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的用于制版掩膜的噴墨記錄用片材上用黑色顏料墨水進(jìn)行噴墨記錄，以制造制版掩膜的步驟，所述制版掩膜在350nm的波長(zhǎng)下吸光度為3-5，在黑色印刷部分的J.TAPPI No.5-2所規(guī)定的奧肯型平滑度為1000-50000秒，以及在減壓下將得到的制版掩膜與和光敏樹(shù)脂版接觸，然后進(jìn)行曝光處理以制造苯胺印刷版的步驟。
全文摘要
提供用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它具有良好的曝光性質(zhì)，并在減壓下與光敏樹(shù)脂版接觸時(shí)顯示出良好的透氣性。一種用于制版掩膜的噴墨記錄用片材，它包括基片和形成在其上的多孔層，它具有JIS－K7361－1所規(guī)定的至少70％的總光透射比，其中，所述多孔層含有100質(zhì)量份的無(wú)機(jī)顆粒，1－30質(zhì)量份的粘合劑，以及0.1－3質(zhì)量份的平均粒度為4－15μm的多孔顆粒，所述無(wú)機(jī)顆粒選自于氧化鋁、水合氧化鋁、二氧化硅和二氧化硅－氧化鋁復(fù)合物，其平均粒度為最大為250nm，并且所述多孔層的厚度為5－50μm，J.TAPPI No.5－2所規(guī)定的奧肯型平滑度為200－10000秒。
文檔編號(hào)G03F1/70GK1755521SQ20051010849
公開(kāi)日2006年4月5日 申請(qǐng)日期2005年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月30日
發(fā)明者中尾卓也, 山田泰男 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社