專利名稱：用樹(shù)脂模制的掃描透鏡以及定位掃描透鏡的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用樹(shù)脂模制的掃描透鏡以及定位該掃描透鏡的方法。特別是，本發(fā)明涉及一種易于定位的用樹(shù)脂模制的掃描透鏡。本發(fā)明還涉及一種簡(jiǎn)易定位掃描透鏡的方法。
背景技術(shù)：
圖12為一種已知光掃描裝置100的平面示意圖，該掃描裝置例如電子復(fù)印機(jī)，激光束打印機(jī)或者激光傳真機(jī)。
如圖12所示，光掃描裝置100具有光源單元110，旋轉(zhuǎn)多棱鏡114，和掃描透鏡116。
光源單元100具有光源111，例如半導(dǎo)體激光器，和準(zhǔn)直透鏡112。旋轉(zhuǎn)多棱鏡114掃描由光源單元110發(fā)出的激光束L1。當(dāng)排列在光學(xué)盒118外部(在激光束L1終點(diǎn)處)的旋轉(zhuǎn)鼓以自身的軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，掃描透鏡116聚焦激光束L1以在旋轉(zhuǎn)鼓(未示出)上的感光體(未示出)上形成圖像。然后，當(dāng)多棱鏡114和旋轉(zhuǎn)鼓旋轉(zhuǎn)時(shí)，靜電潛象形成在旋轉(zhuǎn)鼓表面上。掃描透鏡116被稱作f-θ(f-theta)透鏡，用來(lái)矯正形成在旋轉(zhuǎn)鼓上的感光體上的圖像變形。掃描透鏡116是一種軸向不對(duì)稱非球面透鏡，用塑性樹(shù)脂整體模制制成，例如化學(xué)名稱為聚甲基丙烯酸甲酯(也就是已知的腈綸)的PMMA。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員所認(rèn)識(shí)到的，掃描透鏡116必須被精確地定位以作為f-θ(f-theta)透鏡。
圖13和14示出了傳統(tǒng)掃描透鏡116的結(jié)構(gòu)。
當(dāng)相對(duì)光學(xué)盒118定位掃描透鏡116時(shí)，掃描透鏡116必須在至少三個(gè)方向上被合適地定位(1)主掃描方向X(圖13)，其與激光束L1的掃描方向一致，(2)光軸方向Z(圖14)，其與掃描透鏡116的光軸方向一致，以及(3)副掃描方向Y(圖13)，其與主掃描方向X和光軸方向Z正交。
為了在這三個(gè)方向上定位掃描透鏡116，掃描透鏡116具有與光軸方向Z垂直的平面116A和沿副掃描方向Y延伸、并布置在主掃描方向X中心處的突出部分116B。
如圖15所示，當(dāng)定位掃描透鏡116時(shí)，掃描透鏡116的端面116C定位成與光學(xué)盒118的底表面接觸。這樣使得掃描透鏡116在副掃描方向Y上被定位。為了在光軸方向Z上定位掃描透鏡116，平面116A被定位成與固定在光學(xué)盒118底表面上的定位凸緣120(見(jiàn)圖12)的表面接觸。最終，凸出部分116B被裝入形成在光學(xué)盒118底表面上的刻痕(未示出)中。這樣將掃描透鏡116在主掃描方向X上定位。
定位后，掃描透鏡116用例如使用粘合劑或彈簧的常規(guī)方式固定在光學(xué)盒118的底壁上。
為了在感光體上形成優(yōu)質(zhì)圖像，將掃描透鏡116在相對(duì)旋轉(zhuǎn)多棱鏡114掃描的激光束L1的主掃描方向X，副掃描方向Y和光軸方向Z上定位是重要的。
然而，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，掃描透鏡116的形狀可能有一個(gè)或多個(gè)誤差(形狀誤差)，這些誤差是在模制掃描透鏡116的過(guò)程中產(chǎn)生。具體地，如圖16所示，由于塑型腔中的樹(shù)脂壓力分布和腔內(nèi)溫度的不均勻，制成的端面116C與主掃描方向X不平行。這些不均勻?qū)е聵?shù)脂以不均勻的方式收縮。這樣，當(dāng)端面116C定位在光學(xué)盒118底表面上時(shí)，掃描透鏡116將與主掃描方向X不平行。結(jié)果，形成在旋轉(zhuǎn)鼓上的圖像可能變形。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明，掃描透鏡用樹(shù)脂模制而成。掃描透鏡具有一透鏡部分用來(lái)折射在相對(duì)該透鏡部分的第一方向上掃描的光束。透鏡部分具有垂直于第一方向的光軸。它還包含定位在透鏡部分第一方向上的第一端部。第一端部表面在垂直于第二方向的方向上具有高度差，第二方向正交于光軸方向和第一方向。該高度差用來(lái)在第二方向上定位掃描透鏡。
根據(jù)本發(fā)明另外一個(gè)方面，提供一種定位掃描透鏡的方法。該方法包含，將形成有高度差的第一端面表面與固定在光學(xué)盒上的元件表面接觸，光學(xué)盒用來(lái)安裝掃描器件掃描光束。這樣來(lái)在第二方向上定位掃描透鏡。


附圖用來(lái)說(shuō)明發(fā)明具體實(shí)施例，但不能構(gòu)成對(duì)發(fā)明的限制。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到與附圖一致的其它實(shí)施例，也被認(rèn)為落入本發(fā)明的范圍內(nèi)，如這里附加的權(quán)利要求所述。在附圖中，相同元件采用相同的標(biāo)記，如下圖1為根據(jù)本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例的光掃描裝置的截面示意圖；圖2為圖1所示光掃描裝置中掃描透鏡的一個(gè)實(shí)施例平面圖；圖3為圖2所示掃描透鏡的正視圖；圖4示出了圖2所示掃描透鏡的一個(gè)變形例，其中的掃描透鏡具有第一類型刻痕；圖5示出了圖2所示掃描透鏡的另一個(gè)變形例，其中的掃描透鏡具有第二類型刻痕；圖6示出了圖2所示掃描透鏡的另一個(gè)變形例，其中的掃描透鏡具有第一類型突出部分；圖7示出了圖2所示掃描透鏡的另一個(gè)變形例，其中的掃描透鏡具有第二類型突出部分；圖8示出了圖2所示掃描透鏡的另一個(gè)變形例，其中的掃描透鏡具有臺(tái)階；圖9為本發(fā)明掃描透鏡第二實(shí)施例的平面圖；圖10為圖9所示掃描透鏡的截面圖；圖11為本發(fā)明掃描透鏡第三實(shí)施例的平面圖；圖12為根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的光掃描裝置截面示意圖；圖13為已知掃描透鏡的平面圖；圖14為圖13所示已知掃描透鏡的正視圖；圖15為圖13所示定位在光學(xué)盒中的已知掃描透鏡截面圖，以及圖16示出了圖13所示已知掃描透鏡的形狀誤差，該形狀誤差在模制過(guò)程中形成。
具體實(shí)施例方式
在接下來(lái)的描述中，將說(shuō)明本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例。另外，那些實(shí)施例的變形也將被說(shuō)明。然而，本發(fā)明并不只局限于這些實(shí)施例或者這里所說(shuō)的變形。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，其他實(shí)施方案和變形都規(guī)定為包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)，如這里附加的權(quán)利要求所述。
根據(jù)本發(fā)明掃描透鏡20的第一實(shí)施例，將參照?qǐng)D1至8得到說(shuō)明。
除了與掃描透鏡相關(guān)的結(jié)構(gòu)外，用來(lái)安裝掃描透鏡的光掃描裝置可以具有與圖12所示相同的結(jié)構(gòu)。這樣，相關(guān)技術(shù)描述中涉及的特征也適用于這里的說(shuō)明。
如圖1所示，光掃描裝置10具有光源單元110，旋轉(zhuǎn)多棱鏡114，和掃描透鏡20。
光源單元110具有光源111，例如半導(dǎo)體激光器，用來(lái)發(fā)射激光束L1，以及柱面透鏡112，用來(lái)將激光束L1在旋轉(zhuǎn)多棱鏡114的反射面上會(huì)聚成線性光束。作為掃描元件，旋轉(zhuǎn)多棱鏡114通過(guò)繞其自身軸旋轉(zhuǎn)來(lái)在主掃描方向X上掃描激光束L1。
當(dāng)排列在光學(xué)盒118外部(在激光束L1終點(diǎn)處)的旋轉(zhuǎn)鼓以自身軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，掃描透鏡20將激光束L1聚焦在旋轉(zhuǎn)鼓(未示出)上的感光體(未示出)上。然后，當(dāng)旋轉(zhuǎn)多棱鏡114和旋轉(zhuǎn)鼓分別轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，靜電潛象被形成在旋轉(zhuǎn)鼓的表面上。
掃描透鏡20被當(dāng)作所述f-θ(f-theta)透鏡，以矯正形成在感光體上的圖像變形。掃描透鏡20是一種軸向不對(duì)稱的非球面透鏡，用塑性樹(shù)脂整體模制形成，例如PMMA。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，其他材料也可以用來(lái)制造掃描透鏡20。
旋轉(zhuǎn)多棱鏡114，掃描透鏡20，以及光源單元110分別被牢固地固定在光學(xué)盒118中。
尤其是，優(yōu)選掃描透鏡20被精確地定位在由多棱鏡114掃描的激光束L1的光路中。掃描透鏡20的結(jié)構(gòu)將在下面得到說(shuō)明。
在該實(shí)施例中，“主掃描方向”(第一方向)與掃描元件例如多棱鏡114掃描光束的方向一致。在主掃描方向上掃描的光束入射到掃描透鏡20中。掃描透鏡20的“光軸方向”與掃描透鏡20的光軸方向一致。光軸方向垂直于主掃描方向。此外，“副掃描方向”(第二方向)為與主掃描方向和光軸方向正交的方向。
圖2為掃描透鏡20的平面圖，圖3為其正視圖。圖2和3中的主掃描方向用附圖標(biāo)記X表示。副掃描方向和光軸方向分別用附圖標(biāo)記Y(圖2)和Z(圖3)表示。另外，掃描透鏡20的主掃描軸(未示出)與主掃描方向X平行。在副掃描方向Y上，掃描透鏡20的主掃描軸穿過(guò)掃描透鏡20的中心。光軸(未示出)與光軸方向Z平行。在主掃描方向X和副掃描方向Y上，光軸都穿過(guò)掃描透鏡20的中心。
掃描透鏡20具有一對(duì)端部，在這里即第一端部24a和第二端部24b，其布置在掃描透鏡20沿主掃描方向X上的兩端。透鏡部分22定位在端部24a和24b之間。透鏡部分22折射在主掃描方向X上沿透鏡部分22表面掃描的激光束L1。兩個(gè)端部24a和24b都具有與光軸方向Z垂直的平面20c。掃描透鏡20還包含具有刻痕20d的部分20a和20b，刻痕在每個(gè)平面20c中凹入。這樣，從根據(jù)光軸方向Z上的觀察，可以通過(guò)在端部24a和24b的部分上檢測(cè)到，端部24a和24b具有不同高度?？毯?0d用來(lái)在副掃描方向Y上定位掃描透鏡20。
刻痕20d沿副掃描方向Y形成在端部24a和24b的中心處。如圖2所示，刻痕20d沿主掃描方向X延伸，并各自具有沿主掃描方向X平行延伸的兩個(gè)壁20e。突出部分23形成在掃描透鏡20的端面20f上。突出部分23沿副掃描方向Y延伸出端面20f。
上述掃描透鏡20由模制過(guò)程制造，樹(shù)脂沿主掃描方向X流經(jīng)塑型模。
當(dāng)掃描透鏡20固定到光學(xué)盒118中時(shí)，掃描透鏡20必須在主掃描方向X，副掃描方向Y和光軸方向Z上被定位。為了在副掃描方向Y上定位掃描透鏡20，可利用具有壁20e的刻痕20d來(lái)替代端面20f(圖2)。這是由于以下原因。
如相關(guān)技術(shù)(例如，圖16)描述中解釋的，掃描透鏡20包含由模制過(guò)程導(dǎo)致的形狀誤差。具體說(shuō)，由于在主掃描方向X上樹(shù)脂收縮度普遍的增加，端面20f沒(méi)能形成為與主掃描方向X平行的表面。由于隨著在主掃描軸上距離增加而產(chǎn)生的偏差的增加，位移量(例如，形狀誤差)在端面20f處最大。因此，可以理解在主掃描軸附近的位置具有較小位移。由于形狀誤差，掃描透鏡20可以通過(guò)使用壁20e而不是端面20f來(lái)在副掃描方向Y上更精確地定位。詳細(xì)地，將端部24a和24b的壁20e與定位凸緣30表面接觸，來(lái)在副掃描方向Y上定位掃描透鏡20。優(yōu)選地，在定位掃描透鏡20之前，將定位凸緣30固定在光學(xué)盒118底表面上。換句話說(shuō)，另一個(gè)具有與一個(gè)或多個(gè)壁20e接觸的表面的元件可以用于代替定位凸緣30。
刻痕20d不是必須具有圖2和3中所示的形狀。相反地，刻痕20d可以有任何一種不同方式的變形，只要其還具有足夠的定位功能。圖4是從主掃描方向X看，掃描透鏡20第一變形例的端面?zhèn)纫晥D。在該變形例中，刻痕20g替代刻痕20d，形成具有沿主掃描方向X平行延伸的壁的三角形凹槽。在該變形例中，刻痕(例如，三角形凹槽)在端部24a或24b的一個(gè)或兩個(gè)表面上沿主掃描方向X延伸形成該刻痕。當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，該刻痕還可以采用任何截面形狀。例如，刻痕采用半圓形，橢圓形，多角形，或不規(guī)則形的截面形狀。
另外，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，刻痕不是必須包含沿主掃描方向X平行延伸的壁。例如，圖5所示掃描透鏡20的部分平面圖。將刻痕20h形成如球形的表面(或部分球形的表面)。為了利用刻痕20h定位掃描透鏡20，定位凸緣30應(yīng)該具有與球形表面(或部分球形表面)相應(yīng)形式的突出部分，以裝入(或緊密配合)刻痕20h。其它形式的刻痕20h和相應(yīng)的定位凸緣30也視作落在本發(fā)明范圍內(nèi)。例如，刻痕20h可以是立方體形、直線形、多角形、球形、圓錐形、金字塔形、橢圓形、無(wú)定形等等。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，可能變換的數(shù)量是無(wú)窮盡的。
更進(jìn)一步，刻痕可以形成在一個(gè)或兩個(gè)端部24a或24b的端表面上而不是面向光軸方向Z的表面上。在該變形例中，如果在垂直于副掃描方向Y方向的不同位置(高度)上，也是能夠通過(guò)不同位置定位掃描透鏡20的。在這種情況下，沿主掃描方向X延伸的刻痕，沿光軸方向Z延伸的刻痕，或者類似的形成在端部24a或24b的一個(gè)或兩個(gè)端表面上。
圖6示出了本發(fā)明更進(jìn)一步的變形。該圖示出了掃描透鏡20的端表面沿主掃描方向X方向的側(cè)視圖。從端部24a表面突出的突出部分20i被用來(lái)定位掃描透鏡20，而不是在掃描透鏡20內(nèi)設(shè)置刻痕。如上所述，突出部分20i的截面形狀可以從各種各樣無(wú)窮盡的可能的形狀中挑選。例如，突出部分20i可以具有半球形、橢圓形、長(zhǎng)方形、正方形、多角形、三角形、圓錐形、無(wú)定形、或類似的截面形狀。此外，突出部分20i的三維形狀可以是半球形，橢圓形，長(zhǎng)方形，立方體形，多角形，金字塔形，圓柱形，或類似的形狀。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，可能有無(wú)窮盡多可能的不同形狀，只要突出部分20i有助于將掃描透鏡20在副掃描方向Y上定位即可。
如圖7所示，在主掃描方向Z上突出的突出部分20j，可以形成在掃描透鏡20的一個(gè)或兩個(gè)端面的部分上。換句話說(shuō)，延伸在主掃描方向X上的刻痕是可行的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，突出部分20j(或者換句話說(shuō)是刻痕)的截面形狀可以是上述無(wú)窮盡變化中的任一種。
除突出部分23外，還可以在其它不同的方向上形成另外一個(gè)突出部分或刻痕來(lái)定位掃描透鏡20。例如，在透鏡部分22的副掃描方向設(shè)置另外一個(gè)端部(第三端部)。第三端部的表面在垂直于主掃描方向X的方向上可以具有不同的高度(例如，不同高程)。
圖8示出了一個(gè)實(shí)施例，其中在一個(gè)或多個(gè)端部24a或24b的表面上具有不同高度或高程的臺(tái)階。在該實(shí)施例中，使用臺(tái)階來(lái)代替上述的刻痕或突出部分。圖8示出了掃描透鏡20沿主掃描方向X的端面?zhèn)纫晥D。通過(guò)垂直于光軸方向Z的第一平面201和第二平面20m來(lái)形成臺(tái)階20k。形成在臺(tái)階20k上的平面201和20m之間在光軸方向Z上的高度不同。
下面說(shuō)明本發(fā)明第二實(shí)施例。圖9是掃描透鏡40的平面圖。圖10是掃描透鏡40的截面圖。用定位凸緣44a和44b來(lái)抵靠掃描透鏡40。
端部42a表面上的刻痕40a形成具有沿主掃描方向X平行延伸的壁的凹槽。端部42b表面上的刻痕40b形成一部分球形表面(例如，小于一個(gè)球形)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以意識(shí)到，部分球形表面或球形表面的一部分，表示表面小于一個(gè)完整的球形。根據(jù)該公開(kāi)的信息，部分球形表面包括半球形表面或半球形表面的任何一部分。
為了定位掃描透鏡40，定位凸緣44b(圖10)形成半球形(形成部分球形)以裝入刻痕40b。另外一個(gè)定位凸緣44a形成體長(zhǎng)方體以裝入刻痕40a形成的凹槽中。
通過(guò)將定位凸緣44a裝入刻痕40a可以實(shí)現(xiàn)在副掃描方向Y上定位掃描透鏡40。通過(guò)將定位凸緣44b裝入刻痕40b可以實(shí)現(xiàn)在主掃描方向X上定位掃描透鏡。因此，具有這樣的結(jié)構(gòu)，就不再需要突出部分23在主掃描方向X上定位掃描透鏡，并且突出部分23可以被完全去掉。
第一實(shí)施例中示出的變形也同樣適用于該實(shí)施例。例如，當(dāng)刻痕40a可能具有立體形狀或類似形狀時(shí)，刻痕40b可以形成橢圓形或類似形狀的部分表面。
圖11示出了第三實(shí)施例掃描透鏡60的平面圖。端部60b具有面向光軸方向Z的表面64b(第一表面)和表面62b(第二表面)。表面62b與表面64b在光軸方向Z上的高度不同。這樣，形成面向主掃描方向X的側(cè)壁66b和面向副掃描方向Y的側(cè)壁68b。換句話說(shuō)，表面62b和64b之間的分界面在沿光軸方向Z和主掃描方向X延伸的方向上產(chǎn)生高度差，由此形成L形結(jié)構(gòu)。
當(dāng)兩個(gè)側(cè)壁66b和68b與固定在光學(xué)盒118底部的定位凸緣或其它元件表面接觸時(shí)，掃描透鏡60能夠在主掃描方向X和副掃描方向Y上定位，而不需要具有突出部分23。
結(jié)果，實(shí)現(xiàn)用更少的時(shí)間來(lái)定位和固定掃描透鏡60，使得光掃描裝置10更易于裝配并且更便宜。
當(dāng)用更少的時(shí)間定位后，裝配掃描單元的花費(fèi)也能夠降低。
其它實(shí)施例示出的變形也同樣適用于該實(shí)施例。
在本發(fā)明中，掃描透鏡包括所述預(yù)偏轉(zhuǎn)透鏡或圓柱透鏡，掃描光束入射在其上。更進(jìn)一步，本發(fā)明適用于美國(guó)專利申請(qǐng)No.20040130800披露的另一種掃描透鏡，如上所述，其在該申請(qǐng)中作為參考引入。。
根據(jù)本發(fā)明目的，可以注意到，突出部分和刻痕的幾個(gè)實(shí)施例用透鏡部分的第一和第二端部分來(lái)描述。的突出部分或刻痕對(duì)于規(guī)定高度差的端部表面具有高度差。高度差有利于掃描透鏡的定位。
根據(jù)上述示范的本發(fā)明的許多變形是可能的。因此可以理解，在附加的權(quán)利要求范圍之內(nèi)，本發(fā)明可以用不同于這里具體描述的方式實(shí)施。當(dāng)不需要實(shí)施方案中的一些元件就可以獲得一定的效果時(shí)，該元件可被省略。
權(quán)利要求
1.一種用樹(shù)脂模制的掃描透鏡，包含透鏡部分，具有光軸，構(gòu)造成折射在垂直于光軸的第一方向上掃描的光束；第一端部，沿第一方向上設(shè)置在透鏡部分的一端；以及一個(gè)表面，由第一端部確定，其在第二方向上具有不同的高度，并產(chǎn)生高度差，第二方向正交于第一方向和光軸，該高度差有利于掃描透鏡在第二方向上的定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡，其特征在于，高度差包含從第一端部表面突起的突出部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的掃描透鏡，其特征在于，突出部分具有部分圓柱形。
4.根據(jù)權(quán)利要求2的掃描透鏡，其特征在于，突出部分具有長(zhǎng)方體形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求2的掃描透鏡，其特征在于，突出部分從第一端部表面沿光軸方向向外突出。
6.根據(jù)權(quán)利要求2的掃描透鏡，其特征在于，突出部分在第一方向上沿第一端部表面延伸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡，其特征在于，高度差包含第一端部表面內(nèi)的刻痕。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的掃描透鏡，其特征在于，刻痕具有部分球形形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求7的掃描透鏡，其特征在于，刻痕沿光軸方向延伸進(jìn)表面內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7的掃描透鏡，其特征在于，刻痕沿第一方向延伸。
11.根據(jù)權(quán)利要求7的掃描透鏡，其特征在于，刻痕在表面上形成凹槽。
12.根據(jù)權(quán)利要求7的掃描透鏡，其特征在于，刻痕在表面上形成沿第一方向延伸的凹槽。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡，其特征在于，高度差包含垂直于光軸的第一表面；以及鄰接第一表面設(shè)置的垂直于光軸的第二表面，其中高度差通過(guò)相互鄰近的第一和第二表面的不同高度確定。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的掃描透鏡，其特征在于，更進(jìn)一步包含在第一和第二表面之間沿第一方向延伸的分界面。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的掃描透鏡，其特征在于，分界面包含平行于在第一和第二表面之間延伸的光軸放置的壁。
16.根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡，其特征在于，更進(jìn)一步包含沿第一方向設(shè)置在透鏡部分另一端的第二端部；以及由第二端部確定的表面，其在第二方向上具有高度變化，并產(chǎn)生高度差，第二方向正交于第一方向和光軸，高度差有利于掃描透鏡在第二方向上定位。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的掃描透鏡，其特征在于，第一端部表面上的高度差包含一刻痕或突出部分，其具有從立方形或球形表面一部分中選擇的形狀，第二端部表面上的高度差包含一刻痕或突出部分，其具有從長(zhǎng)方體或橢圓體部分表面中選擇的形狀。
18.根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡，其特征在于，更進(jìn)一步包含鄰接于第二方向上透鏡部分放置的第三端部；以及由第三端部確定的表面，包括在垂直于第一方向上具有的高度差，其中高度差有利于掃描透鏡在第一方向上的定位。
19.根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡，其特征在于，掃描透鏡通過(guò)沿第一方向流經(jīng)塑型模的樹(shù)脂模制而成。
20.一種定位根據(jù)權(quán)利要求1的掃描透鏡的方法，包含將第一端部表面上的高度差與設(shè)置在光學(xué)盒中的互補(bǔ)表面對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)盒包含掃描元件用來(lái)掃描光束；將高度差定位在鄰接互補(bǔ)表面的第一端部表面上，并由此在第二方向上定位掃描透鏡。
全文摘要
掃描透鏡用樹(shù)脂模制而成。透鏡部分折射在透鏡部分第一方向上掃描的光束。透鏡部分確定垂直于第一方向的光軸。第一端部設(shè)置成在第一方向的一端鄰接透鏡的部分。第一端部表面在垂直于第二方向上具有高度差，第二方向正交于光軸和第一方向。高度差有利于掃描透鏡在第二方向上定位。
文檔編號(hào)G02B13/00GK1696762SQ200510064148
公開(kāi)日2005年11月16日 申請(qǐng)日期2005年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月7日
發(fā)明者本田智 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝