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反射型液晶顯示裝置的制造方法

文檔序號:2775505閱讀:96來源:國知局
專利名稱:反射型液晶顯示裝置的制造方法
技術領域
本發(fā)明涉及反射型液晶顯示裝置的制造方法,更具體地說,涉及利用溶劑(solvent)放氣(out gassing)的壓花(embossing)形成方法。
背景技術
眾所周知,由于反射型液晶顯示裝置不必后照光,故在要求低耗電的攜帶用顯示元件中是非常有用的,由于手機和攜帶設備的市場增大,其需求漸漸增加。
一方面,由于反射型液晶顯示裝置具有入射路徑及反射路徑,故與僅具有一個路徑的通常的LCD相比,具有相對穿透度低,特別是在主視角方向的穿透度低的缺點。
對此,現(xiàn)有的反射型液晶顯示裝置為了補償穿透度的不足,形成有具有表面凹凸的反射板,為了形成這樣的反射板,在其下部層表面形成有凹凸,即壓花。
現(xiàn)在,為形成所述壓花,在涂敷有機絕緣膜后,完成與此相對的濃淡點圖(half tone)曝光。在所述濃淡點圖曝光時,未形成壓花的部分被照射最佳曝光量“optimum energy以下稱Eop”以上的能量,有機絕緣膜完全和光反應而形成壓花的部分通過照射Eop以下的能量,僅反應有機絕緣膜的規(guī)定部分。
但是,在通過濃淡點圖曝光形成壓花的現(xiàn)有方法中,由曝光時的照射能量調(diào)節(jié)入射光的反射角度,但是,由于通過細微的工序條件的變化所述反射角度的變化量大,故具有工序增多的制約。
特別是在基板的整個區(qū)域不能得到均勻的反射角度時,肯定招致反射型液晶顯示裝置的畫面品質降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為解決所述的問題而提出的,其目的在于,提供反射型液晶顯示裝置的制造方法,可在整個基板上形成均勻反射角度的壓花。
為達到所述目的,本發(fā)明提供一種反射型液晶顯示裝置的制造方法,其包括如下工序在形成含有薄膜晶體管的底層的玻璃基板上涂敷陰性型有機絕緣膜的工序;軟烘焙所述有機絕緣膜的工序;不使用曝光掩膜,將所述有機絕緣膜一次曝光的工序,以使所述有機絕緣膜的整個表面交聯(lián)結合;使用具有開口部的曝光掩膜進行二次曝光的工序,以僅使曝光所述一次曝光的有機絕緣膜的局部交聯(lián)結合;在快速烘焙所述一次及二次曝光的有機絕緣膜并使其硬化的同時,在所述未二次曝光的有機絕緣膜的局部通過產(chǎn)生存在于所述有機絕緣膜內(nèi)的溶劑的放氣,形成壓花的工序。
在此,所述有機絕緣膜的一次曝光利用最佳曝光量以下的能量完成,所述有機絕緣膜的二次曝光利用最佳曝光量完成。
有別于如上本發(fā)明目的的特征及優(yōu)點等通過如下對本發(fā)明的最佳實施例進行說明明確。


圖1A~C是說明本發(fā)明實施例的反射型液晶顯示裝置的制造方法的工序剖面圖。
具體實施例方式
以下,參照附圖詳細說明本發(fā)明理想的實施例。首先,說明本發(fā)明的技術原理,本發(fā)明利用除去有機絕緣膜上的溶劑時產(chǎn)生的氣體形成壓花。
此時,在通過調(diào)節(jié)曝光能量調(diào)節(jié)反射角度的現(xiàn)有方法中,通過變化細微的工序條件,不僅反射角度變化,在整個基板上也不容易調(diào)節(jié)均勻的反射角度,但是,在利用所述溶劑放氣形成壓花的本發(fā)明的方法中,當工序條件的變化大時,不僅未受影響,在整個基板上業(yè)可形成均勻反射角度的壓花。
圖1A~圖1C是說明本發(fā)明實施例的反射型液晶顯示裝置的制造方法的工序剖面圖。如下進行說明。
參照圖1,利用公知的工序,在玻璃基板1上形成含有薄膜晶體管的下層2。然后,在基板的整個面上涂敷大約2um厚度的有機絕緣膜3,以覆蓋所述下層2,再將其軟烘焙(soft bake)。
其次,不使用曝光掩膜,將所述有機絕緣膜3一次全面曝光。此時,所述一次曝光由Eop以下的能量完成,以僅在有機絕緣膜3的表面產(chǎn)生交聯(lián)結合(cross linking)。在此,完成所述全面曝光的理由是,在進行后述的快速烘焙(post bake)時,不把存在于有機絕緣膜3內(nèi)的溶劑抽出到表面之外。圖面符號3a表示全面曝光形成交聯(lián)結合的有機絕緣膜部分。
參照圖1B,使用通過鉻板圖案限定開口部的曝光掩膜10,將一次曝光后的有機絕緣膜3利用適當Eop能量進行二次曝光。此時,在有機絕緣膜3上的不同區(qū)域產(chǎn)生曝光量差,特別是在曝光的有機絕緣膜的局部產(chǎn)生交聯(lián)結合,使曝光的部分和未曝光的部分分開。圖面符號3b表示二次曝光時交聯(lián)結合的有機絕緣膜的部分。
參照圖1C,將一次及二次曝光的有機絕緣膜3快速烘焙(post bake)。此時,由于所述有機絕緣膜2內(nèi)殘留有不能在軟烘焙時除去的溶劑成分,故在所述快速烘焙時產(chǎn)生溶劑成分的放氣,但由于二次曝光的有機絕緣膜的局部已經(jīng)交聯(lián)結合,故未對該部分進行放氣。由此,由未二次曝光的部分集中放氣。但是,由于所述有機絕緣膜3的上部表面也已經(jīng)形成交聯(lián)結合的狀態(tài),故也未對該部分進行放氣。結果,溶劑氣等不能抽出而產(chǎn)生在有機絕緣膜3的上部表面開設的空間膨脹的狀態(tài),即形成壓花4。
在此,所述壓花4各自通過熱工序在未二次曝光的有機絕緣膜部分等形成,在整個基板上均勻地形成,特別是具有均勻的反射角度。
以后,未圖示,在表面上形成壓花4的有機絕緣膜3上形成反射板,然后,形成定向膜,完成下部基板。然后,將所述下部基板和利用公知的技術制造的上部基板與液晶層合并安裝,完成本發(fā)明的反射型液晶顯示裝置的制造方法。
如上所述,在本發(fā)明的方法中,由于通過兩次有選擇地曝光有機絕緣膜及利用熱工序產(chǎn)生的放氣形成壓花,故與通過曝光能量的調(diào)節(jié)形成壓花的現(xiàn)有方法相比,可在基板的整個區(qū)域上形成均勻的反射角度,由此,可改善反射型液晶顯示裝置的低穿透度。
另外,本發(fā)明的方法具有可超越反射角度控制的難度的地方,可確保工序的安全系數(shù)。
在此,以上對本發(fā)明特定的實施例進行了說明和圖示,但本領域技術人員可對此進行修正和變形。因此,只要屬于本發(fā)明的范圍中,本發(fā)明的主要構思和范圍內(nèi),就可以理解為是含有全部的修正和變形內(nèi)容。
權利要求
1.一種反射型液晶顯示裝置的制造方法,其包括如下工序在形成含有薄膜晶體管的底層的玻璃基板上涂敷底片型有機絕緣膜的工序;軟烘焙所述有機絕緣膜的工序;不使用曝光掩膜,將所述有機絕緣膜一次曝光的工序,以使所述有機絕緣膜的整個表面交聯(lián)結合;使用具有開口部的曝光掩膜進行二次曝光的工序,以僅使曝光所述一次曝光的有機絕緣膜的局部交聯(lián)結合;在快速烘焙所述一次及二次曝光的有機絕緣膜并使其硬化的同時,在所述未二次曝光的有機絕緣膜的局部通過產(chǎn)生存在于所述有機絕緣膜內(nèi)的溶劑的放氣,形成壓花的工序。
2.如權利要求1所述的反射型液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述有機絕緣膜的一次曝光由最佳曝光量以下的能量完成,所述有機絕緣膜的二次曝光由最佳曝光量完成。
全文摘要
一種可在整個基板上形成均勻反射角度的壓花的反射型液晶顯示裝置的制造方法?;ㄈ缦鹿ば蛟谛纬珊斜∧ぞw管的底層的玻璃基板上涂敷底片型有機絕緣膜的工序;軟烘焙(soft bake)所述有機絕緣膜的工序;不使用曝光掩膜,將所述有機絕緣膜一次曝光的工序,以使所述有機絕緣膜的整個表面交聯(lián)結合(cross linking);使用具有開口部的曝光掩膜進行二次曝光的工序,以僅使曝光所述一次曝光的有機絕緣膜的局部交聯(lián)結合;在快速烘焙(post bake)所述一次及二次曝光的有機絕緣膜并使其硬化同時,在所述未二次曝光的有機絕緣膜的局部通過產(chǎn)生存在于所述有機絕緣膜內(nèi)的溶劑(solvent)的放氣(out gassing),形成壓花的工序。
文檔編號G02F1/136GK1637534SQ20041004762
公開日2005年7月13日 申請日期2004年5月26日 優(yōu)先權日2003年12月24日
發(fā)明者鄭奉官, 崔賢默, 金基用, 崔承鎮(zhèn) 申請人:京東方顯示器科技公司
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