專利名稱：用于存儲(chǔ)器連接處理的飛擊射束路徑誤差校正的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于電路連接的激光處理，具體地，有關(guān)于一種利用激光射束的激光系統(tǒng)與方法以及基片的定位系統(tǒng)，其定位系統(tǒng)合并一種操作鏡，以補(bǔ)償平臺(tái)定位(stage positioning)的誤差并且加強(qiáng)連接發(fā)分割產(chǎn)量。
背景技術(shù)：
集成電路(“IC”)裝置制造處理過程中的成品通常會(huì)招致因次表面層(subsurface layers)或圖案(patterns)的對(duì)準(zhǔn)偏差(alignment variations)或者微粒狀污染物所造成的缺陷。

圖1、2A以及2B顯示IC裝置或工件12重復(fù)的電子電路10，其典型地以行與列來制作，以便包含冗余電路組件14的多重重復(fù)，諸如備用的存儲(chǔ)器單元20的行16以及列18。參照?qǐng)D1、2A以及2B，電路10同樣也設(shè)計(jì)用以包含電氣接點(diǎn)24之間特定的激光可分割電路連接22，而能夠?qū)⒅瞥?，以將有缺陷的存?chǔ)器單元20斷開，并且用冗余單元26來替代，例如，在存儲(chǔ)器中，如DRAM、SRAM、以及嵌入式存儲(chǔ)器。相類似的技術(shù)同樣也用來分割連接，以程序化邏輯產(chǎn)品、門陣行、或者ASIC。
連接22設(shè)計(jì)有一種大約2.5微米左右的傳統(tǒng)連接寬度28、連接長(zhǎng)度30、以及距相鄰電路結(jié)構(gòu)或組件大約8微米的組件34，例如連接結(jié)構(gòu)36，的組件至組件間距(中心至中心的間隔)32。盡管最普及的連接材料為多晶硅以及相似的成分，然而存儲(chǔ)器的制造商最近已經(jīng)采取各種更具導(dǎo)電性的金屬連接材料，其可以包含但并不受限于鋁、銅、金、鎳、鈦、鎢、鉑、以及其它的金屬，諸如鎳鉻的金屬合金、諸如氮化鈦或氮化鉭的金屬氮化物、諸如硅化鎢的金屬硅化物、或者其它類金屬的材料等等。
測(cè)試電路10、電路組件14、或者單元20的故障。從裝置測(cè)試數(shù)據(jù)來判斷所要分割以便校正故障的連接，而這些連接的位置則會(huì)映射(mapped)至一數(shù)據(jù)庫(kù)或程序。激光脈沖用來分割電路連接22已經(jīng)超過20年了。圖2A與2B顯示一種光斑(spot)尺寸直徑40的激光光斑38，其撞觸了由位于硅基片42上以及位于鈍化態(tài)層堆疊的組件層之間的連接22所組成的連接結(jié)構(gòu)36，而其堆疊則包含上覆的鈍態(tài)層44(顯示于圖2A，而不顯示于圖2B)以及下面的鈍態(tài)層46(顯示于圖2B，而不顯示于圖2A)。圖2C為由激光脈沖將連接22移除之后圖2B的連接結(jié)構(gòu)片斷的剖視側(cè)視圖。
圖3為一平面圖，表示由傳統(tǒng)連接處理定位系統(tǒng)所執(zhí)行的射束定位器行進(jìn)路徑50。由于典型地以行16與列18(以虛線所顯示的)來安排連接22，因此射束位置以及因此激光光斑38會(huì)在整個(gè)連接位置上沿著第一行進(jìn)方向52的軸受到掃瞄、移動(dòng)至不同行16或列18、并且之后在整個(gè)連接位置上沿著第二行進(jìn)方向54的軸受到掃瞄。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將會(huì)明白掃瞄動(dòng)作可以包含移動(dòng)工件12、移動(dòng)激光光斑38、或者移動(dòng)工件12以及激光光斑38。
傳統(tǒng)的定位系統(tǒng)的特征在于X-Y轉(zhuǎn)換表，其中的工件12固定于沿著第一軸移動(dòng)的一上層平臺(tái)上，并且由沿著垂直于第一軸的第二軸的一下層平臺(tái)來支承。由于下層平臺(tái)支承著其上支承有工件12的上層平臺(tái)的慣性質(zhì)量，因此這樣的系統(tǒng)通常相對(duì)于一固定射束位置或激光光斑38移動(dòng)工件，并且一般稱為堆疊(stacked)平臺(tái)定位系統(tǒng)。由于典型地沿著每一軸使用干涉儀，以判斷每一平臺(tái)的絕對(duì)位置，因此這些定位系統(tǒng)具有優(yōu)良的定位精度。由于激光光斑尺寸40典型地只略微大于連接寬度28，所以即使激光光斑38的位置與連接22之間的微小差異會(huì)導(dǎo)致不完全的連接分割，因此該精度水平優(yōu)先用于連接處理。此外，在半導(dǎo)體芯片上的部件的高密度會(huì)造成微小定位誤差，會(huì)潛在地致使激光損壞近處結(jié)構(gòu)。然而，由于平臺(tái)慣性質(zhì)量方向的起始、停止、以及改變方向會(huì)增加激光工具所需的時(shí)間，以便處理在工件12上所有指定的連接22，因此堆疊平臺(tái)的定位系統(tǒng)相對(duì)緩慢。
在分軸定位系統(tǒng)中，上層平臺(tái)并不由下平臺(tái)所支承并且與之獨(dú)立地移動(dòng)，工件會(huì)承載于第一軸或平臺(tái)上，而諸如固定反射鏡以及聚焦透鏡的工具承載于第二軸或平臺(tái)上。隨著工件12整體的尺寸以及重量增加，而利用較長(zhǎng)因而更為厚重的平臺(tái)的分軸定位系統(tǒng)便占有優(yōu)勢(shì)。
最近，已經(jīng)使用了平面定位系統(tǒng)，其中的工件承載于單一平臺(tái)上，該單一平臺(tái)可由兩個(gè)或更多個(gè)傳動(dòng)裝置(actuator)移動(dòng)的，而工具基本保持于固定的位置上。藉由調(diào)整驅(qū)動(dòng)裝置的效果，這些系統(tǒng)會(huì)在二維方向上平移。一些平面定位系統(tǒng)同樣也能夠轉(zhuǎn)動(dòng)工件。
由俄勒岡州的波特蘭Electro Scientific Industries公司所制造的半導(dǎo)體連接處理(”SLP”)系統(tǒng)是利用飛擊(“OTF”)連接處理來實(shí)現(xiàn)精度以及高產(chǎn)量。在OTF處理期間，激光射束會(huì)隨著線性平臺(tái)射束定位器通過在射束位置下所指定的連接12而脈動(dòng)(pulsed)。該平臺(tái)通常沿著單一軸同時(shí)移動(dòng)，并且在每一連接位置上不會(huì)停止。在前進(jìn)方向52的射束光斑38在行進(jìn)軸位置不必準(zhǔn)確地受控制；更確切的說，其位置會(huì)被準(zhǔn)確地感測(cè)，以觸發(fā)激光光斑38，以便準(zhǔn)確地?fù)糁羞B接22。
作為對(duì)比并且再次參照于圖3，隨著射束定位器通過每一個(gè)連接22，則沿著交叉軸56或58的射束光斑38的位置被控制于特定的精度之內(nèi)。由于平臺(tái)的慣性質(zhì)量，一種啟動(dòng)OTF運(yùn)行的設(shè)定在交叉軸位置中產(chǎn)生了振鈴(ringing)，而且在OTF運(yùn)行中的第一連接22并不能夠處理直到交叉軸已經(jīng)適當(dāng)?shù)囟ㄎ粸橹?。定位?dòng)作的延遲或定位的距離60會(huì)降低處理的產(chǎn)量。在第一激光脈沖之前并無定位延遲被插入(或者，等效的，定位距離60的緩沖區(qū))，則數(shù)個(gè)連接22便會(huì)以嚴(yán)重的交叉軸誤差處理之。
盡管已經(jīng)由在整個(gè)連接運(yùn)行的間隙加速，來改善OTF的速度，然而該“間隙外形(gap profiling)”的效果上的限制因素仍然是交叉軸須在特定的精度之內(nèi)定位。同時(shí)，部件的尺寸、諸如連接長(zhǎng)度30以及連接間距32則持續(xù)地減少，致使尺度的精密度的需求增加。致力于進(jìn)一步增加平臺(tái)效能則會(huì)實(shí)質(zhì)地增加定位系統(tǒng)的成本。
用以提供激光射束兩軸反射的傳統(tǒng)方法使用高速短移動(dòng)的定位器(“快速定位器”)62，諸如一對(duì)顯示于圖4的檢流計(jì)驅(qū)動(dòng)鏡64與66。圖4為檢流器驅(qū)動(dòng)的X軸鏡64以及檢流器驅(qū)動(dòng)的Y軸鏡66簡(jiǎn)化的描述，其沿著固定鏡72以及聚焦光學(xué)透鏡78之間的光學(xué)路徑70定位。每一檢流器驅(qū)動(dòng)鏡會(huì)沿著單一軸將激光射束反射。Overbeck的美國(guó)專利4532402揭示一種使用此種快速定位器的堆疊平臺(tái)射束定位系統(tǒng)，而Culter等人的美國(guó)專利5751585以及5847960則揭示分軸射束定位系統(tǒng)，其中上層平臺(tái)載有至少一個(gè)的快速定位器。系統(tǒng)使用如此的快速定位器是用于非連接的燒斷工藝(blowing processes)，例如通過打孔(drilling)，由于其現(xiàn)在并不能夠傳送如同“固定”激光頭定位器一般準(zhǔn)確的射束。
這樣的定位器的分軸本質(zhì)可能會(huì)引進(jìn)循環(huán)的Abbe誤差，而且檢流器可能會(huì)引進(jìn)額外的定位誤差。此外，由于在兩檢流器控制鏡之間必須要分隔，因此其鏡并不能夠兩者皆置于靠近聚焦光學(xué)透鏡進(jìn)入光瞳。該分隔會(huì)導(dǎo)致射束的偏移，而降低所聚焦的光斑的品質(zhì)。再者，兩鏡的配置會(huì)限制進(jìn)入光瞳遠(yuǎn)離聚焦光學(xué)透鏡，而致使聚焦光學(xué)透鏡復(fù)雜度增加以及數(shù)字光圈(numerical aperture)受限制，因此限制了最小可實(shí)現(xiàn)的光斑尺寸。即使假設(shè)這樣的定位器能夠用于連接的分割，然而上述的光斑品質(zhì)退化會(huì)導(dǎo)致低品質(zhì)的連接分割或者不完全的連接分割，并且會(huì)導(dǎo)致跨于所分割的連接22上低的開路電阻值。
因此，在維持所聚焦的光斑品質(zhì)的同時(shí)，仍然需要用來實(shí)現(xiàn)較高連接處理產(chǎn)量的系統(tǒng)與方法。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的其中一個(gè)目的為提供一種系統(tǒng)和/或方法，以在維持所聚焦的光斑品質(zhì)的同時(shí)，仍實(shí)現(xiàn)較高的連接分割處理的產(chǎn)量。
本發(fā)明的另一個(gè)目的為使用一種兩軸操作鏡，以校正線性平臺(tái)的定位誤差。
本發(fā)明的另一個(gè)目的為提供一種定位器系統(tǒng)，其為半導(dǎo)體連接處理應(yīng)用采用協(xié)調(diào)移動(dòng)。
本發(fā)明優(yōu)選地使用一種兩軸操作鏡，其以樞軸的方式安裝于聚焦透鏡的進(jìn)入光瞳上，以執(zhí)行將激光射束反射的小角度移動(dòng)而足夠補(bǔ)償數(shù)十微米量級(jí)上的交叉軸定位誤差。盡管在兩軸上皆會(huì)發(fā)生定位誤差，然而本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例主要是將交叉軸的定位誤差校正至線性平臺(tái)傳導(dǎo)的OTF方向。由于線性平臺(tái)的任一軸可以用來充當(dāng)OTF軸，因此一種兩軸操作鏡使用于這些校正中。射束操作鏡僅優(yōu)選地用于誤差的校正，而并不需要協(xié)調(diào)或調(diào)整線性平臺(tái)位置指令，雖然這樣的協(xié)調(diào)是可能的。
至少三種技術(shù)能夠用來一單一支點(diǎn)(pivot point)附近傾斜兩軸中的鏡子。這些技術(shù)包含使用彎曲的機(jī)構(gòu)以及音圈(voice coil)驅(qū)動(dòng)裝置來傾斜鏡子的快速操作鏡(“FSMs”)、依靠壓電材料的變形來傾斜鏡子的壓電驅(qū)動(dòng)裝置、以及使用壓電或電致伸縮而使鏡子表面變形的可變形的鏡子。壓電驅(qū)動(dòng)裝置則是優(yōu)選的。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)包含交叉軸定位時(shí)間的去除，使得特別是針對(duì)SLP系統(tǒng)而言增加了產(chǎn)量。由于操作鏡能夠校正線性平臺(tái)的誤差，因此起因于隨意的伺服效能需求，本發(fā)明同樣也促進(jìn)了主定位平臺(tái)的改善了的可制造性。
參照以下附圖的優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)說明，將會(huì)清楚地了解本發(fā)明其它的目的和優(yōu)點(diǎn)。
附圖簡(jiǎn)單說明圖1為DRAM一部分的示意圖，其顯示一般性的電路單元備用行中冗余的配線設(shè)計(jì)以及可程序化的連接。
圖2A為現(xiàn)有大型半導(dǎo)體連接結(jié)構(gòu)的片斷剖面?zhèn)纫晥D，該連接結(jié)構(gòu)接收現(xiàn)有技術(shù)的脈沖參數(shù)所特征化的激光脈沖。
圖2B為一片斷俯視圖，其表示圖2A的連接結(jié)構(gòu)和激光脈沖，以及鄰接電路結(jié)構(gòu)。
圖2C為一片斷剖面?zhèn)纫晥D，表示在由現(xiàn)有技術(shù)的激光脈沖將連接移除之后，圖2B中的連接架構(gòu)。
圖3為現(xiàn)有技術(shù)的射束行進(jìn)路徑的平面圖。
圖4為現(xiàn)有技術(shù)的快速定位器簡(jiǎn)化的側(cè)視圖，其使用一對(duì)檢流器驅(qū)動(dòng)鏡，沿著不同的各個(gè)單一軸將激光射束反射。
圖5示意性地表示一種用于本發(fā)明實(shí)施的，優(yōu)選的兩軸鏡側(cè)視剖面圖。
圖6示意性地表示一種用于本發(fā)明實(shí)施的，優(yōu)選的兩軸鏡部分前視圖。
圖7表示在OTF運(yùn)轉(zhuǎn)期間中操作鏡的效用。
圖8表示示例性的多行交叉軸抖動(dòng)(“MRCAD”)的工作路徑。
圖9為代表性的兩軸操作鏡的側(cè)視剖面圖。
圖10為代表性的兩軸操作鏡簡(jiǎn)化的平面圖。
圖11為示例性的定位器控制系統(tǒng)簡(jiǎn)化的示意方框圖，其用來調(diào)整平臺(tái)的定位以及操作鏡，以誤差校正之用。
圖12為示例性的定位器控制系統(tǒng)簡(jiǎn)化的示意方框圖，其用來調(diào)整平臺(tái)的定位以及操作鏡，以為射束作用掃瞄(beam-to-work scans)以及校正誤差之用。
優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)說明代表性的射束定位系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)施例詳細(xì)地說明于Overbeck的美國(guó)專利4532402，其受讓于本申請(qǐng)案的讓受人。優(yōu)選的X-Y平臺(tái)為一種可從加州Irvine的Newport股份有限公司購(gòu)買的“Dynamix”模塊。
射束定位系統(tǒng)優(yōu)選地使用一種激光控制器，其控制著一堆疊、分軸、或者平面定位器系統(tǒng)，并且針對(duì)目標(biāo)來調(diào)整反射器的位置以及將激光系統(tǒng)輸出聚焦至IC裝置或工件12上所需的激光連接22。射束定位系統(tǒng)允許在相同或者不同的工件12上的連接22之間的快速移動(dòng)，以便基于所提供的測(cè)試或設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)來實(shí)現(xiàn)唯一的連接分割的操作。射束定位系統(tǒng)可以交替地或者外加地使用改進(jìn)或射束定位器或已協(xié)調(diào)的移動(dòng)方法，其說明于Culter等人的美國(guó)專利5751585、5798927、以及5847960，其受讓于本申請(qǐng)案的讓受人。其它固定頭或者線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的現(xiàn)有定位系統(tǒng)同樣也能夠使用，以及使用于由俄勒岡州波特蘭的ESI、本申請(qǐng)案的讓受人所制造的9000、9800、以及1225模塊系列的系統(tǒng)。
參照?qǐng)D5與6并且有關(guān)于本發(fā)明，固定頭系統(tǒng)的最終轉(zhuǎn)動(dòng)鏡或者可替代的快速定位器66(圖4)優(yōu)選地由一單一的高速、高精度的兩軸操作鏡系統(tǒng)100所取代，其包含能夠以至少兩個(gè)自由度促動(dòng)的鏡子102。鏡子102具有中心定位支點(diǎn)104，其優(yōu)選地與聚焦透鏡108的進(jìn)入光瞳106相一致。盡管可以用于射束的操作，然而由于線性平臺(tái)的任一軸皆可以用來充當(dāng)OTF軸，因此兩軸操作鏡系統(tǒng)100優(yōu)選地使用于誤差校正。
對(duì)SLP應(yīng)用而言，由于要將射束聚焦于非常細(xì)微的光斑尺寸，因此引導(dǎo)鏡子系統(tǒng)100的機(jī)構(gòu)優(yōu)選地沿著大約在支點(diǎn)104處附近至少兩軸，將鏡子102裝上樞軸，支店位于或者靠近聚焦光學(xué)透鏡或透鏡108的進(jìn)入光瞳。鏡子102位置的微小角度擾動(dòng)會(huì)反射其射束而足夠用來校正在工作表面處的線性平臺(tái)的定位誤差，并且由于鏡子102位于或者靠近于聚焦光學(xué)透鏡108的進(jìn)入光瞳，因此其射束得以偏移而不會(huì)使所聚焦的光斑扭曲，而達(dá)到傳送精細(xì)的、高品質(zhì)的光斑。
在一個(gè)實(shí)施例中，由鏡子102來校正交叉軸方向110上的定位誤差，同時(shí)在行進(jìn)軸方向112上的移動(dòng)則不會(huì)受到校正。此種單一軸校正允許線性平臺(tái)的干涉儀反饋而成為激光脈沖觸發(fā)的唯一來源。然而，以適當(dāng)?shù)膮f(xié)調(diào)，行進(jìn)軸方向112操作鏡102移動(dòng)是可能的，盡管其復(fù)雜化其設(shè)計(jì)并且引進(jìn)額外的誤差源，如果該誤差未被處理，則其能使軸方向112的精度惡化。
在鏡子102每一軸上的移動(dòng)會(huì)顯現(xiàn)出尺度因素以及偏移誤差、噪聲、及交叉軸耦合。在該系統(tǒng)中，以由現(xiàn)有設(shè)計(jì)技術(shù)所控制的噪聲以及溫度的穩(wěn)定度效果，這些誤差源能夠被很好地控制并且校準(zhǔn)。
經(jīng)由射束作用(“BTW”)對(duì)準(zhǔn)的鏡子系統(tǒng)100的校準(zhǔn)能夠校正在操作鏡102中任何一種非線性以及對(duì)準(zhǔn)誤差。傳統(tǒng)上，射束作用一詞是用來充當(dāng)用于往返掃瞄線性平臺(tái)過程的學(xué)術(shù)用語，同時(shí)于低功率下在晶片或者工件12(圖1)上將激光射束光斑對(duì)準(zhǔn)于對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)。反射離開目標(biāo)的光學(xué)測(cè)量是用來精確地判斷目標(biāo)并因而判斷芯片的位置。由以BTW掃瞄來掃瞄數(shù)個(gè)目標(biāo)，便能夠確定相對(duì)于射束光斑的芯片的偏移以及轉(zhuǎn)動(dòng)。同樣也可能映射出其它效應(yīng)，諸如軸正交性以及位置的扭曲。
在鏡子系統(tǒng)100附加至激光系統(tǒng)之后，現(xiàn)有的BTW形式的掃瞄便能夠用來映射出操作鏡子102響應(yīng)中任何一種的不精確/非線性。這能夠由以標(biāo)稱的零偏移(在任一軸上)的位置中的鏡子102從事BTW掃瞄來實(shí)現(xiàn)。將鏡子102傾斜，并且執(zhí)行另一個(gè)BTW掃瞄來判斷有多少激光射束光斑的橫向偏移會(huì)因其傾斜而產(chǎn)生。由測(cè)量因U與V軸中多種鏡子傾斜所導(dǎo)致的偏移，便能夠?qū)㈢R子系統(tǒng)100完全地特征化。
一旦判斷鏡子系統(tǒng)100的響應(yīng)為充分地精密，則并非往返地移動(dòng)線性平臺(tái)，而可使用鏡子系統(tǒng)100，以用于其后的BTW形式的對(duì)準(zhǔn)掃瞄。
圖7闡述在OTF運(yùn)行期間中兩軸操作鏡系統(tǒng)100的校正效應(yīng)。一種線性平臺(tái)的振鈴作用由振鈴曲線120來表示。鏡子102會(huì)以交叉軸方向110將激光射束反射，如同與振鈴曲線120反相的校正曲線122所表示的。所產(chǎn)生的射束位置為線性平臺(tái)的移動(dòng)以及所反射的射束位置的總和，并且由所產(chǎn)生的射束路徑曲線124來表示之，其無交叉軸的誤差。
圖8闡述在連接分割情況中交互(boustrophedon)或者光柵(raster)掃瞄期間內(nèi)使用于MRCAD處理的操作鏡子系統(tǒng)100，以進(jìn)一步改善連接被熔斷的速度。在一個(gè)優(yōu)選的操作模式中，以交叉軸的方向110來從事MRCAD掃瞄，同時(shí)沿著連接132的一行130移動(dòng)。MRCAD掃瞄利用操作鏡子102(圖5與6)，以在連接132以及鄰接行138中的鄰近連接136上導(dǎo)引激光射束沿著路徑134，而不需要移動(dòng)在交叉軸方向110上較為緩慢的線性移動(dòng)平臺(tái)。由于并不是每一行中的連接都需要熔斷，因而這是可能的。由于并不需要每行掃瞄或跳躍到每一行，致使能夠顯著地減少連接行掃瞄的總數(shù)，因此使用MRCAD，連接處理變得更為有效率。隨著集成度的增加以及連接的尺寸、光斑尺寸、與間距距離的減小，MRCAD掃瞄將成為一種更為重要的技術(shù)。
在另一種模式中，附加的行進(jìn)軸抖動(dòng)(“SOAD”)使用鏡子102，以將行進(jìn)軸方向112上的射束反射(圖5-7)。在這種操作模式中，能夠快速地將射束于行進(jìn)軸方向112上導(dǎo)引在前，而分割連接，同時(shí)線性移動(dòng)平臺(tái)會(huì)趕上。平臺(tái)SOAD在先掃瞄或者在后掃瞄的特性允許定位系統(tǒng)減少平臺(tái)速度的變化或者允許分割數(shù)個(gè)連接于單一減慢的移動(dòng)部分的期間。
至少有三種技術(shù)能夠用來傾斜在支點(diǎn)104附近兩軸上的鏡子102。這些技術(shù)包含利用彎曲機(jī)構(gòu)與音圈驅(qū)動(dòng)裝置的FSMs、依靠壓電材料的變形的壓電驅(qū)動(dòng)裝置、以及用來使鏡子表面變形的壓電或者電致伸縮驅(qū)動(dòng)裝置。適用的音圈促動(dòng)的FSMs可從科羅拉多州的Broomfield的Aerospace股份有限公司、以及加州的Irvine的Newport股份有限公司購(gòu)買得到。然而，優(yōu)選的驅(qū)動(dòng)裝置乃是一種由德國(guó)Karlsmhe的Physik儀器(“PI”)股份有限公司所制造的機(jī)型S-330超快速壓電傾倒/傾斜(Tip/Tilt)平臺(tái)。
由于每一個(gè)傳統(tǒng)的檢流計(jì)僅在大約一個(gè)軸附近傾斜鏡子，并且通常具有不充分的定位精度，因此該傳統(tǒng)的檢流計(jì)通常并不使用于該應(yīng)用。再者，需要一對(duì)物理上間隔分開的檢流計(jì)鏡子，以用于兩軸的促動(dòng)。此一分隔與需求并不相容，該需求為促動(dòng)大約發(fā)生在位于聚焦透鏡108(圖5與6)進(jìn)入光瞳附近的一個(gè)支點(diǎn)左右，以保持在工件12表面上的高品質(zhì)的激光光斑。不過，在本發(fā)明中可使用檢流計(jì)反射鏡，特別是如果用于單軸以及小反射應(yīng)用中以維持精度與聚焦良好的激光光斑時(shí)。
由范例，圖9與10顯示一種FSM的兩軸鏡子系統(tǒng)200，其中四個(gè)電氣至機(jī)械振動(dòng)發(fā)生器或者換能器以九十度差的關(guān)系由一換能器支承平臺(tái)220所支承著，使得一組換能器222、224、226、以及228位于相對(duì)于中心軸230的0、90、180與270度的位置上，并且因而彼此成90度。可移動(dòng)的鏡子支承部件232具有一中心部分或支承鏡子的中心234或者以軸230為中心的反射表面236。鏡子236具有大約30mm或者更小的直徑，以減少其重量并且有助于所需的射束校正的高頻響應(yīng)。鏡子236覆蓋有常規(guī)的激光光學(xué)覆層，以便考慮激光波長(zhǎng)或者設(shè)計(jì)參數(shù)。
四個(gè)輕質(zhì)量的堅(jiān)固支柱或者延長(zhǎng)的部件242、244、246、以及248以放射線狀從鏡子支承部件232的中心234延伸出，并且具有各自的周邊終端部分252、254、256、以及258，附加于各個(gè)換能器222、224、226、以及228，其是電氣可移動(dòng)的音圈。為了進(jìn)一步地說明適用的傳統(tǒng)音圈/揚(yáng)聲器的配置，觀看Van Nostrand的科學(xué)百科全書第六版第1786頁。使用這樣的現(xiàn)有揚(yáng)聲器線圈于換能器來實(shí)現(xiàn)機(jī)械的促動(dòng)便會(huì)降低其設(shè)備的制造成本。浮動(dòng)的鏡子支承232由輕質(zhì)量的材料所制成是有益的，諸如金屬(鋁或鈹)或者塑料，使對(duì)于輸入至所要說明的音圈的電氣輸入信號(hào)能有快速的響應(yīng)。
一傾倒控制發(fā)生器260連接到換能器224與228，致使其以一種彼此互補(bǔ)的“推拉”關(guān)系移動(dòng)。相類似的是，一傾斜控制發(fā)生器262連接到換能器222與226，致使這些線圈同樣以一種彼此互補(bǔ)的推拉關(guān)系移動(dòng)。一激光射束270反射離開反射表面236，而所反射的射束272則由其發(fā)生器控制交叉軸而定位，該交叉軸垂直于行進(jìn)的OTF方向，以補(bǔ)償交叉軸的誤差。由每一發(fā)生器所產(chǎn)生的信號(hào)對(duì)采用一種推挽關(guān)系，致使當(dāng)換能器222將支承構(gòu)件232的上方的終端部分252拉至圖10的右邊時(shí)，則下方的換能器226便會(huì)將終端部分256推至左邊，以便傾斜反射表面236，而將所反射的射束272反射。該促動(dòng)能夠交替發(fā)生于OTF行進(jìn)的起始處，例如，在適當(dāng)?shù)念l率以及所抑制的振幅下移動(dòng)反射表面236，以便補(bǔ)償交叉軸方向110上的線性平臺(tái)的振鈴，而消除線性平臺(tái)定位時(shí)間的負(fù)面效應(yīng)并且產(chǎn)生相對(duì)筆直的射束路徑。因此，能夠精確地處理位于現(xiàn)有緩沖區(qū)域中的連接。
可以足夠大的場(chǎng)域來實(shí)現(xiàn)配合本發(fā)明使用的鏡子系統(tǒng)，以便由提供大約在50至100微米左右的范圍內(nèi)的射束反射來進(jìn)行MRCAD掃瞄；然而，同樣也能夠僅由提供大約在10至50微米左右或者小至大約10至20微米左右的范圍內(nèi)的射束反射來實(shí)現(xiàn)這樣的鏡子系統(tǒng)。其鏡子優(yōu)選地位于聚焦透鏡進(jìn)入光瞳大約加或減1mm之內(nèi)。這些范圍僅為范例之用，并且能夠修改，以便適合于系統(tǒng)的設(shè)計(jì)以及特定的連接處理的應(yīng)用。
由PI所制造的優(yōu)選機(jī)型S-330傾倒/傾斜平臺(tái)使用壓電驅(qū)動(dòng)裝置，以用于高速、二維空間鏡子傾斜。應(yīng)變計(jì)量傳感器準(zhǔn)確地判斷鏡子位置并且提供反饋信號(hào)至控制電子電路以及驅(qū)動(dòng)電路。機(jī)型S-330傾倒/傾斜平臺(tái)更為完整的說明可在PI網(wǎng)絡(luò)位置www.physikinstrumente.com查到。
PI壓電傾倒/傾斜平臺(tái)主要的優(yōu)點(diǎn)是其為商業(yè)上可買得到的裝置，并且具有非常緊湊的尺寸，能充分地安裝于ESI機(jī)型9820定位系統(tǒng)中。
PI壓電傾倒/傾斜平臺(tái)的缺點(diǎn)為即使其對(duì)誤差校正應(yīng)用的范圍充分，然而其對(duì)用于射束作用掃瞄應(yīng)用時(shí)的射束反射范圍的不充分；而非線性移動(dòng)、熱驅(qū)動(dòng)、磁滯、以及高壓促動(dòng)都是壓電促動(dòng)必須加以考慮的固有問題。
當(dāng)然，還有其它的產(chǎn)品或者其它形式的鏡子或驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)計(jì)適于配合本發(fā)明的使用。
除了上述所有其它的優(yōu)點(diǎn)之外，本發(fā)明可使用二次系統(tǒng)而允許線性馬達(dá)的要求(急動(dòng)時(shí)間、定位時(shí)間)的寬松化，以校正誤差。這顯著地減少線性馬達(dá)的成本，并且同樣也會(huì)降低系統(tǒng)產(chǎn)量對(duì)線性平臺(tái)加速限制上的依賴度。
圖11顯示本發(fā)明的定位器控制系統(tǒng)300的實(shí)施例，其用于協(xié)調(diào)X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302以及304的定位，并且同樣也協(xié)調(diào)用于定位誤差校正的兩軸操作鏡306的定位。當(dāng)然，移動(dòng)平臺(tái)302與304可以組合成為具有X-以及Y-軸方向的定位控制的單一平面移動(dòng)平臺(tái)。在標(biāo)準(zhǔn)的操作模式中，兩軸操作鏡306則是用來校正由X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302與304所引起的定位誤差。
位置命令發(fā)生器308產(chǎn)生X-與Y-軸的位置命令信號(hào)，以便傳送，其經(jīng)由加總接合點(diǎn)310與312到X-以及Y-軸移動(dòng)控制器314與316，再到各個(gè)X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302與304。X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302以及304的實(shí)際位置乃是由各個(gè)X-以及Y-軸位置傳感器318與320來感測(cè)的，而且代表實(shí)際位置的信號(hào)會(huì)傳達(dá)至加法器或加總接合點(diǎn)310與312，以產(chǎn)生X-以及Y-軸的位置誤差信號(hào)。X-以及Y-軸移動(dòng)控制器314與316會(huì)接收誤差信號(hào)，并且用來將所命令的以及實(shí)際的位置之間的任何誤差最小化。對(duì)高精度的應(yīng)用而言，X-以及Y-軸位置傳感器318與320優(yōu)選地為干涉儀。
殘留的誤差信號(hào)，諸如由振鈴所產(chǎn)生的，則經(jīng)由致能門(enablinggates)322與324傳達(dá)到坐標(biāo)轉(zhuǎn)換發(fā)生器326，其可以有所選擇地依照移動(dòng)平臺(tái)302與304是否共享具有兩軸操作鏡306的共同的坐標(biāo)系統(tǒng)而定。在任一事件中，殘留誤差信號(hào)會(huì)經(jīng)由加法器或加總接合點(diǎn)328與330送至U-與V-軸操作鏡控制器332與334，其以控制的量來傾倒和/或傾斜操作鏡306，以將諸如激光射束270(圖9)反射，以便校正X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302與304的定位誤差。兩軸操作鏡306實(shí)際的傾倒和/或傾斜位置是由各個(gè)傾倒以及傾斜傳感器336與338所感測(cè)的，而表示實(shí)際傾倒以及傾斜位置的信號(hào)則是傳達(dá)到加法器或加總接合點(diǎn)328與330，以產(chǎn)生傾倒以及傾斜位置的誤差信號(hào)。U-與V-軸操作鏡控制器332與334接收誤差信號(hào)并且用以校正所命令以及實(shí)際的位置之間的任何誤差。對(duì)高精度的應(yīng)用而言，兩軸操作鏡306優(yōu)選地為一種傾倒/傾斜平臺(tái)，而位置傳感器318與320優(yōu)選為一應(yīng)變計(jì)?？蛇m用的替代傳感器可以包含光學(xué)的、電容性的、以及電感性的感測(cè)技術(shù)。在該實(shí)施例中，本領(lǐng)域的技術(shù)人員將會(huì)了解到U-與V-軸操作鏡控制器332與334應(yīng)該可適用來提供零到100伏特的驅(qū)動(dòng)信號(hào)給予反射兩軸操作鏡306的壓電驅(qū)動(dòng)裝置。
致能門322與324實(shí)現(xiàn)一種規(guī)定事項(xiàng)，其中的位置命令發(fā)生器308能夠選擇地將用于不是X-便是Y-軸的位置誤差校正除能(disable)，以將交叉軸的誤差校正致能，同時(shí)不影響到行進(jìn)軸，反之亦然。
圖12顯示一種定位器控制系統(tǒng)340的實(shí)施例，用以協(xié)調(diào)X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302與304的定位，而在本實(shí)施例中，則是用于MRCAD掃瞄的FSM 236(圖9與10)以及定位誤差校正。在一種延伸的操作模式中，操作鏡用于誤差校正以及MRCAD掃瞄。在該操作模式中，位置命令發(fā)生器342會(huì)產(chǎn)生用于X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302與304的X-以及Y-軸定位命令，以及用來將FSM 236反射的U-以及V-軸傾倒與傾斜命令。加總接合點(diǎn)328與330會(huì)產(chǎn)生用于FSM 236的定位命令，如同來自X-以及Y-軸移動(dòng)平臺(tái)302與304的誤差信號(hào)之總和，并且在此實(shí)施例中，同樣也會(huì)產(chǎn)生U-以及V-軸傾倒與傾斜命令。
以相同于標(biāo)準(zhǔn)誤差校正模式的方式來產(chǎn)生誤差信號(hào)。由位置命令發(fā)生器342來產(chǎn)生額外的U-以及V-軸傾倒與傾斜命令，以實(shí)現(xiàn)所需的射束作用掃瞄。由于射束作用以及MRCAD應(yīng)用通常需要較為寬廣范圍的鏡面反射，因此本發(fā)明的該實(shí)施例優(yōu)選地利用音圈促動(dòng)FSM兩軸鏡系統(tǒng)200。
在典型的操作中，用于MRCAD掃瞄的位置命令是用來產(chǎn)生激光射束的交叉軸的移動(dòng)，而不需要命令移動(dòng)平臺(tái)的交叉軸的移動(dòng)。然而，可看到其它的應(yīng)用則從行進(jìn)軸附加的抖動(dòng)至交互掃瞄而受益。
描述于這些圖式中的控制方法在于闡述本發(fā)明基本的實(shí)現(xiàn)以及操作。更為先進(jìn)的控制方法，諸如那些利用饋進(jìn)(feedforward)命令至移動(dòng)平臺(tái)以及操作鏡，對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言將會(huì)是明顯的。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員將會(huì)察知本發(fā)明的兩軸操作鏡系統(tǒng)除了能夠適用于連接分割外也適用于經(jīng)由鉆孔的蝕刻電路板、微機(jī)械加工、以及激光微調(diào)(laser trimming)應(yīng)用。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員都可充分了解到，在不違背本發(fā)明原理的前提下，可將本發(fā)明上述的實(shí)施例的細(xì)節(jié)做許多的改變。因而，本發(fā)明的范疇僅由權(quán)利要求的范圍來界定。
權(quán)利要求
1.一種用來引導(dǎo)一激光射束朝向一工件上目標(biāo)位置，以響應(yīng)目標(biāo)位置的坐標(biāo)位置命令的設(shè)備，其包括一定位器，其響應(yīng)坐標(biāo)位置命令，而讓工件和激光射束彼此相對(duì)定位；第一與第二位置傳感器，其耦合到所述定位器，用以產(chǎn)生第一與第二位置信號(hào)，指示所述定位器實(shí)際的坐標(biāo)位置；第一與第二加總接合點(diǎn)，比較所述坐標(biāo)位置命令以及所述第一與第二位置信號(hào)，并且產(chǎn)生第一與第二誤差信號(hào)，指示所述坐標(biāo)位置命令與所述實(shí)際坐標(biāo)位置之間的差異；一第一操作鏡控制器，其耦合到所述第一誤差信號(hào)，用以產(chǎn)生一第一位置校正信號(hào)；以及一兩軸操作鏡，其響應(yīng)于所述第一位置校正信號(hào)，用以接收所述激光射束，并且將所述激光射束反射至所述工件上的目標(biāo)位置。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，進(jìn)一步包含一第二操作鏡控制器，其耦合到所述第二誤差信號(hào)，用以產(chǎn)生一第二位置校正信號(hào)，而且其中所述兩軸操作鏡進(jìn)一步響應(yīng)所述第二位置校正信號(hào)，以接收所述激光射束，并且將所述激光射束反射至所述工件上的目標(biāo)位置。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述坐標(biāo)位置命令包含用來將定位器定位于各個(gè)X-軸以及Y-軸正交的坐標(biāo)位置的信息。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述第一與第二誤差信號(hào)符合一第一坐標(biāo)系統(tǒng)，且所述兩軸操作鏡則是響應(yīng)于一第二坐標(biāo)系統(tǒng)，并且其中所述設(shè)備進(jìn)一步包含一個(gè)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換發(fā)生器，用以將所述第一與第二誤差信號(hào)中至少一個(gè)轉(zhuǎn)換至所述第二坐標(biāo)系統(tǒng)。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備進(jìn)一步包含一第二操作鏡控制器，并且其中所述目標(biāo)位置的坐標(biāo)位置命令進(jìn)一步包含鏡子定位信息，所述第一與第二操作鏡控制器響應(yīng)所述鏡子定位信息以及至少所述第一位置校正信號(hào)，定位所述兩軸操作鏡。
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述兩軸操作鏡包含一支點(diǎn)，而且所述設(shè)備進(jìn)一步包含一具有一進(jìn)入光瞳的聚焦透鏡，并且其中所述聚焦透鏡被置于所述兩軸操作鏡以及所述工件之間，致使所述進(jìn)入光瞳位于或者靠近所述支點(diǎn)。
7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述兩軸操作鏡是由至少一個(gè)的壓電驅(qū)動(dòng)裝置所定位的。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述兩軸操作鏡是由至少一個(gè)的音圈驅(qū)動(dòng)裝置所定位的。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述定位器會(huì)響應(yīng)于一系列的坐標(biāo)位置命令，于第二軸方向上相對(duì)彼此掃瞄所述工件以及所述激光射束，同時(shí)所述兩軸操作鏡會(huì)響應(yīng)于一系列的第一位置校正信號(hào)，用以接收所述激光射束，并且將所述激光射束反射至所述工件上的一組目標(biāo)位置。
10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，進(jìn)一步包含一第二操作鏡控制器，其耦合到所述第二誤差信號(hào)，用以產(chǎn)生一第二位置校正信號(hào)，其中所述兩軸操作鏡會(huì)響應(yīng)所述第一與所述第二位置校正信號(hào)，以接收所述激光射束，并且將所述激光射束反射至所述工件上的目標(biāo)位置。
11.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述工件包含一集成存儲(chǔ)器電路，而且其中所述目標(biāo)位置則包含一用來移除一有缺陷的存儲(chǔ)器單元的可分割連接。
12.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述工件包含一電子電路組件，其由所述激光射束將所述電子電路組件微調(diào)至一預(yù)定的性能特征。
13.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述定位器包含以堆疊配置方式安排的平臺(tái)。
14.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述定位器包含以分軸配置方式安排的平臺(tái)。
15.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述定位器包含一平面定位平臺(tái)。
16.一種用來引導(dǎo)一激光射束朝向一工件上目標(biāo)位置，以響應(yīng)目標(biāo)位置的坐標(biāo)位置命令的方法，其包括響應(yīng)于所述坐標(biāo)位置命令，相對(duì)彼此定位的所述工件以及所述激光射束；相對(duì)于所述坐標(biāo)位置命令，感測(cè)一所述工件實(shí)際的坐標(biāo)位置；產(chǎn)生第一與第二誤差信號(hào)，其指示所述坐標(biāo)位置命令與所述實(shí)際的坐標(biāo)位置之間的差異；響應(yīng)于所述第一與第二誤差信號(hào)中的一個(gè)，產(chǎn)生至少一第一位置校正信號(hào)；響應(yīng)于至少所述第一位置校正信號(hào)，定位一兩軸操作鏡；以及將所述激光射束反射至所述工件上的目標(biāo)位置。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，進(jìn)一步包含響應(yīng)于所述第一與第二誤差信號(hào)中的另一個(gè)，產(chǎn)生一第二位置校正信號(hào)，并且響應(yīng)于所述第一與第二位置校正信號(hào)，定位所述兩軸操作鏡。
18.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述坐標(biāo)位置命令包含X-軸以及Y-軸的正交坐標(biāo)位置。
19.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述第一與第二誤差信號(hào)符合第一坐標(biāo)系統(tǒng)，而且所述兩軸操作鏡則是響應(yīng)于第二坐標(biāo)系統(tǒng)，并且其中所述方法進(jìn)一步包含將所述第一與第二誤差信號(hào)中至少一個(gè)轉(zhuǎn)換至所述第二坐標(biāo)系統(tǒng)。
20.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述目標(biāo)位置的坐標(biāo)位置命令包含鏡子定位信息，而且所述方法進(jìn)一步包含響應(yīng)于所述鏡子定位信息以及至少所述第一位置校正信號(hào)，定位所述兩軸操作鏡。
21.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述兩軸操作鏡包含一支點(diǎn)，而且所述方法進(jìn)一步包含提供一具有一進(jìn)入光瞳的聚焦透鏡，并且將所述聚焦透鏡設(shè)置于所述兩軸操作鏡以及所述工件之間，致使所述進(jìn)入光瞳位于或者靠近所述支點(diǎn)。
22.如權(quán)利要求16所述的方法，進(jìn)一步包含響應(yīng)于一系列的坐標(biāo)位置命令，以一第二軸方向來相對(duì)彼此掃瞄所述工件以及所述激光射束，并且響應(yīng)于一系列的第一位置校正信號(hào)來移動(dòng)所述兩軸操作鏡。
23.如權(quán)利要求16所述的方法，進(jìn)一步包含響應(yīng)于所述第二誤差信號(hào)而產(chǎn)生一第二位置校正信號(hào)，并且響應(yīng)于所述第一與所述第二位置校正信號(hào)，定位所述兩軸操作鏡。
24.一種用來引導(dǎo)一激光射束朝向一工件上目標(biāo)位置，以響應(yīng)目標(biāo)位置的坐標(biāo)位置命令的方法，其包括響應(yīng)于所述坐標(biāo)位置命令，相對(duì)彼此定位所述工件以及所述激光射束；產(chǎn)生第一與第二位置信號(hào)，指示所述定位器的一實(shí)際坐標(biāo)位置；比較所述坐標(biāo)位置命令以及所述第一與第二位置信號(hào)，以產(chǎn)生第一與第二誤差信號(hào)，指示所述坐標(biāo)位置命令以及所述實(shí)際坐標(biāo)位置之間的差異；從所述第一誤差信號(hào)產(chǎn)生一第一位置校正信號(hào)；提供一具有一支點(diǎn)的第一操作鏡；將一具有一進(jìn)入光瞳的聚焦透鏡設(shè)置于所述第一操作鏡以及所述工件之間，致使所述進(jìn)入光瞳位于或靠近于所述支點(diǎn)；以及響應(yīng)于所述第一位置校正信號(hào)，促動(dòng)所述第一操作鏡，用以將所述激光射束反射至所述工件上的目標(biāo)位置。
25.如權(quán)利要求24所述的方法，其中，所述工件為一接受連接處理應(yīng)用的半導(dǎo)體芯片，而且所述方法進(jìn)一步包含從所述第二誤差信號(hào)產(chǎn)生一第二位置校正信號(hào)；提供一第二操作鏡；以及響應(yīng)于所述第二位置校正信號(hào)，促動(dòng)所述第二操作鏡，以便將所述激光射束以相當(dāng)微小的反射量，反射至所述第一操作鏡的支點(diǎn)附近，以維持一激光射束光斑的尺寸以及形狀，而適用于所述半導(dǎo)體連接處理應(yīng)用。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述第一與第二操作鏡中至少一個(gè)包含一檢流計(jì)驅(qū)動(dòng)裝置。
27.如權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述第一與第二操作鏡中至少一個(gè)為一單軸操作鏡。
全文摘要
激光射束定位器(圖12，340，236，260，262，302，304，310，312，316，318，320，322，324，326，328，330，336，342)使用一種操作鏡，其執(zhí)行激光射束的小角度反射，以補(bǔ)償定位器平臺(tái)的交叉軸的定位誤差。由于定位器平臺(tái)任一軸可以用于執(zhí)行工作，因此一種兩軸操作鏡是優(yōu)選的。在一個(gè)實(shí)施例中，操作鏡僅用于誤差校正，而不需要以定位器平臺(tái)的位置命令來協(xié)調(diào)。在半導(dǎo)體連接處理(“SLP”)的應(yīng)用中，一種使用彎曲機(jī)構(gòu)以及壓電驅(qū)動(dòng)裝置來傾倒以及傾斜該鏡子的快速操作鏡是優(yōu)選的。本發(fā)明補(bǔ)償交叉軸的定位時(shí)間，致使SLP系統(tǒng)的產(chǎn)量以及精度增加，同時(shí)由于該操作鏡的校正會(huì)寬松化定位器平臺(tái)的伺服驅(qū)動(dòng)需求，因而簡(jiǎn)化了定位器平臺(tái)的復(fù)雜度。
文檔編號(hào)G02B26/10GK1491398SQ02804686
公開日2004年4月21日 申請(qǐng)日期2002年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2001年2月16日
發(fā)明者M·溫拉斯, K·布呂朗, H·W·羅, S·斯瓦倫戈, M 溫拉斯, 唄贅, 羅, 覽 申請(qǐng)人:電子科學(xué)工業(yè)公司