記錄裝置及傳送帶的清潔方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及記錄裝置，以及傳送記錄介質(zhì)的傳送帶的清潔方法。
【背景技術(shù)】
[0002]迄今已經(jīng)使用包括傳送帶的記錄裝置，該傳送帶傳送記錄介質(zhì)。在這些記錄裝置當中，已經(jīng)公開了能夠清潔傳送帶的記錄裝置。
[0003]例如，在PTLI中已經(jīng)公開了能夠使用擦拭器和液體吸收材料這二者清潔傳送帶的記錄裝置。
[0004]引用列表
[0005]專利文獻
[0006]PTL 1:公開號為3-227648的日本未審查專利申請

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]技術(shù)問題
[0008]但是在許多情況下，無法在相關(guān)領(lǐng)域的記錄裝置中充分執(zhí)行傳送帶的清潔，該記錄裝置包括用于傳送記錄介質(zhì)的傳送帶。
[0009]因此，根據(jù)發(fā)明人的深入研究結(jié)果，發(fā)現(xiàn)可通過設置以下兩種清潔模式來抑制傳送帶清潔不充分的問題:一種清潔模式是在記錄操作期間清潔傳送帶，另一清潔模式是在除記錄操作之外的時段期間清潔傳送帶。
[0010]在PTLI的描述中，未提及兼具用于在記錄操作期間清潔傳送帶的模式以及用于在除記錄操作之外的時段期間清潔傳送帶的模式的記錄裝置。
[0011 ]本發(fā)明的目的是改善傳送記錄介質(zhì)的傳送帶的清潔性。
[0012]問題的解決方案
[0013]根據(jù)用于解決上述問題的本發(fā)明的第一方面，提供一種記錄裝置，該記錄裝置包括:傳送帶，其傳送記錄介質(zhì)；記錄頭，通過該記錄頭，墨被釋放到所述記錄介質(zhì)上；以及用于所述傳送帶的清潔部，其中所述記錄裝置具有:第一清潔模式，在該清潔模式中，所述清潔部在所述傳送帶傳送所述記錄介質(zhì)期間清潔所述傳送帶；以及第二清潔模式，在該清潔模式中，所述清潔部在除所述傳送帶傳送所述記錄介質(zhì)之外的時段期間清潔所述傳送帶。
[0014]根據(jù)此方面，所述記錄裝置兼具:第一清潔模式，在該清潔模式中，所述清潔部在所述傳送帶傳送所述記錄介質(zhì)期間清潔所述傳送帶；以及第二清潔模式，在該清潔模式中，所述清潔部在除所述傳送帶傳送所述記錄介質(zhì)之外的時段期間清潔所述傳送帶。換言之，在正常記錄操作期間，使用所述第一清潔模式清潔所述傳送帶。此外，與所述第一清潔模式相比具有更高的相對于所述傳送帶而言的清潔性的清潔模式被設定為所述第二清潔模式，并且可被按需執(zhí)行。因此可以改善相對于所述傳送帶而言的清潔性。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的第二方面的記錄裝置，在所述第一方面，所述清潔部包括:接觸部，在該接觸部中，所述清潔部與所述傳送帶接觸；以及去除部，其去除被施加到所述傳送帶上的清潔劑。此外，在所述第二清潔模式中，可以在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶，然后完成所述傳送帶的清潔。
[0016]根據(jù)此方面，所述清潔部包括:接觸部，在該接觸部中，所述清潔部與所述傳送帶接觸；以及去除部，其去除被施加到所述傳送帶上的清潔劑。換言之，由于使用所述清潔劑清潔所述傳送帶，因此可以改善相對于所述傳送帶而言的清潔性。
[0017]同時，當使用所述清潔劑清潔所述傳送帶時，所述清潔劑會殘留在所述傳送帶上。這樣，在某些情況下，所述記錄介質(zhì)會沾上所述清潔劑。但是根據(jù)此方面，在所述第二清潔模式中，在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶，然后完成所述傳送帶的清潔。如上所述，由于清潔在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下完成，因此與在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下完成清潔的情況相比，所述清潔劑難以殘留在所述傳送帶上。這樣可以抑制所述記錄介質(zhì)沾上所述清潔劑。
[0018]此外，不僅在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶，而且還在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶之前，在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶。因此縮短了相對于所述傳送帶而言的清潔時間。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的第三方面的記錄裝置，在所述第二方面，可以設置多種記錄模式，在這些記錄模式中，所述記錄頭在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下執(zhí)行記錄。而且，所述第二清潔模式中的所述傳送帶的間歇移動操作可以是所述多種記錄模式中的任一記錄模式中的所述傳送帶的間歇移動操作。
[0020]根據(jù)此方面，所述第二清潔模式中的所述傳送帶的間歇移動操作是所述多種記錄模式中的任一記錄模式中的所述傳送帶的間歇移動操作。因此，可以省略在所述多種記錄模式之外還設置所述傳送帶的間歇移動操作。
[0021]根據(jù)本發(fā)明的第四方面的記錄裝置，在所述第三方面，所述第二清潔模式中的所述傳送帶的所述間歇移動操作是所述多種記錄模式中的這樣一種記錄模式中的所述傳送帶的間歇移動操作:在該記錄模式中，所述傳送帶的每單位時間的移動量為最大值。
[0022]根據(jù)此方面，所述第二清潔模式中的所述傳送帶的所述間歇移動操作是所述多種記錄模式中的這樣一種記錄模式中的所述傳送帶的間歇移動操作:在該記錄模式中，所述傳送帶的每單位時間的移動量為最大值。因此可以抑制相對于所述傳送帶而言的清潔時間的增加。
[0023]根據(jù)本發(fā)明的第五方面的記錄裝置，在所述第二方面到所述第四方面中的任一方面，所述傳送帶是繞在多個旋轉(zhuǎn)體上的環(huán)形帶。此外，在所述第二清潔模式中，可以在所述傳送帶間歇地移動一圈或多圈的狀態(tài)下清潔所述傳送帶，然后完成所述傳送帶的清潔。
[0024]在這種情況下，“在所述第二清潔模式中，在所述傳送帶間歇地移動一圈或多圈的狀態(tài)下清潔所述傳送帶，然后完成所述傳送帶的清潔”的含義同時包括以下兩種情況:第一種情況是:在所述傳送帶間歇地移動一圈或多圈的狀態(tài)下清潔所述傳送帶之前，在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶;第二種情況是:在所述傳送帶不連續(xù)地移動，而是間歇地移動一圈或多圈的狀態(tài)下清潔所述傳送帶。
[0025]根據(jù)此方面，在所述第二清潔模式中，在所述傳送帶間歇地移動一圈或多圈的狀態(tài)下清潔所述傳送帶，然后完成所述傳送帶的清潔。這樣可以抑制整個所述傳送帶上的所述清潔劑的殘留。因此可以有效地抑制所述記錄介質(zhì)沾上所述清潔劑。
[0026]根據(jù)本發(fā)明的第六方面的記錄裝置，在所述第二方面到所述第五方面中的任一方面，所述記錄裝置進一步包括布輥，其支持去除被施加到所述傳送帶上的所述清潔劑。此夕卜，在所述第二清潔模式中，在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶之前，在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶的情況下，至少當在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶時，所述布輥可以與所述傳送帶分離。
[0027]在這種情況下，“布棍”表示這樣的棍:在該輥中，在所述傳送帶與所述輥之間的接觸部分中使用布。
[0028]在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶的情況下，當所述布輥與所述傳送帶接觸時，在某些情況下，所述布輥的相對于所述清潔劑而言的去除效應可能劣化，這是因為所述布輥被所述清潔劑弄得太濕。但是根據(jù)此方面，在所述第二清潔模式中，在所述傳送帶間歇地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶之前，在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶的情況下，至少當在所述傳送帶連續(xù)地移動的狀態(tài)下清潔所述傳送帶時，所述布輥與所述傳送帶分離。因此，可以抑制由于所述布輥被所述清潔劑弄得太濕而導致的相對于所述清潔劑而言的去除效應劣化。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的第七方面的記錄裝置，在所述第二方面到所述第六方面中的任一方面，在所述第二清潔模式中，在完成所述傳送帶的清潔之后，所述傳送帶移動預定距離。
[0030]當在所述第二清潔模式中完成所述傳送帶的清潔時，在某些情況下，所述清潔劑殘留在所述傳送帶的一部分上，該部分對應于在完成清潔的狀態(tài)下位于所述接觸部與所述去除部之間的部分。但是根據(jù)此方面，在所述第二清潔模式中，在完成所述傳送帶的清潔之后，所述傳送帶移動預定距離。因此，即使所述清潔劑殘留在所述傳送帶上，所述傳送帶的上面殘留有所述清潔劑的一部分也可被移到其中用戶可容易執(zhí)行擦拭工作的位置。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的第八方面的記錄裝置，在所述第七方面，在所述第二清潔模式中，在完成所述傳送帶的清潔之后所述去除部與所述傳送帶接觸的狀態(tài)下，所述傳送帶移動等于或大于所述接觸部與所述去除部之間的距離的距離。
[0032]根據(jù)此方面，在所述第二清潔模式中，在完成所述傳送帶的清潔之后所述去除部與所述傳送帶接觸的狀態(tài)下，所述傳送帶移動等于或大于所述接觸部與所述去除部之間的距離的距離。因此，在完成所述傳送的清潔的情況下，即使當所述清潔劑殘留在所述傳送帶的該部分(該部分對應于位于所述接觸部與所述去除部之間的部分)上時，所述接觸部與所述去除部之間的整個部分也可通過所述去除部。因此可以使用所述去除部去除所述清潔劑。
[0033]在本發(fā)明的第九方面，提供一種用于記錄裝置中的傳送帶的清潔方法，所述記錄裝置包括:傳