記錄介質(zhì)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種記錄介質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0002] 作為噴墨記錄介質(zhì)的墨接收層，已經(jīng)廣泛地使用其中例如氣相法二氧化硅或水 合氧化鋁顆粒等的多孔無機顆粒與例如聚乙烯醇等的粘合劑粘合的空隙型接收層（日本 專利申請?zhí)亻_No. H07-076162、日本專利申請?zhí)亻_No. 2000-247022、日本專利申請?zhí)亻_ No. H07-101142 和日本專利申請?zhí)亻_ No. 2007-136777)。
[0003] 在日本專利申請?zhí)亻_NO.H07-076162中，提出了一種噴墨記錄材料，其中由膠體 二氧化硅和水溶性粘合劑形成的二氧化硅凝膠層形成在具有勃姆石結(jié)構(gòu)的水合氧化鋁接 收層上。另外，在日本專利申請?zhí)亻_No. 2000-247022中，提出了 一種記錄介質(zhì)，其中由膠體 二氧化硅和樹脂乳液形成的多孔層形成在具有勃姆石結(jié)構(gòu)的水合氧化鋁接收層上。另外， 在日本專利申請?zhí)亻_No. H07-101142中，提出了一種噴墨記錄薄片，其中形成了由膠體顆 粒和高分子乳膠形成的層。另外，在日本專利申請?zhí)亻_No. 2007-136777中，提出了一種噴 墨記錄薄片，其中形成了由微細(xì)顏料和粘合劑形成的保護(hù)層。
[0004] 然而，由本發(fā)明的發(fā)明人做出的研宄已經(jīng)表明：雖然上述專利文獻(xiàn)中記載的記錄 介質(zhì)已經(jīng)改善了墨吸收性、耐擦傷性和獲得的圖像的顯色性，但其這些性能尚未達(dá)到近年 來要求的水平。
[0005] 因此，本發(fā)明的目的是提供一種記錄介質(zhì)，其具有高水平的墨吸收性、耐擦傷性和 獲得的圖像的顯色性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 根據(jù)本發(fā)明的實施方案，提供了一種記錄介質(zhì)，其以下述順序包括：基材；含有無 機顆粒的墨接收層；和保護(hù)層，其中所述保護(hù)層含有膠體二氧化硅；氣相法二氧化硅；和選 自選自樹脂顆粒和濕法二氧化硅顆粒的至少一種顆粒，和其中所述至少一種顆粒的平均粒 徑是1. 5 μm以上。
[0007] 本發(fā)明進(jìn)一步的特征將從以下示例性實施方案的說明書而變得顯而易見。
【具體實施方式】
[0008] 以下詳細(xì)地描述本發(fā)明。
[0009] 記錄介質(zhì)
[0010] 本發(fā)明的記錄介質(zhì)以下述順序包括：基材；含有無機顆粒的墨接收層；和保護(hù)層。 優(yōu)選的是本發(fā)明的記錄介質(zhì)用作用于噴墨系統(tǒng)的記錄方法的記錄介質(zhì)，即，用作噴墨記錄 介質(zhì)。另外，本發(fā)明的記錄介質(zhì)可以在所述基材和所述墨接收層之間，或在所述墨接收層和 所述保護(hù)層之間包括其他層。進(jìn)一步，只要獲得本發(fā)明的效果，本發(fā)明的記錄介質(zhì)可以在所 述保護(hù)層上包括再一其他層。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是保護(hù)層用作所述記錄介質(zhì)的最外表面 層。
[0011] 保護(hù)層
[0012] 包括于本發(fā)明的記錄介質(zhì)的保護(hù)層含有膠體二氧化硅；氣相法二氧化硅；和選自 樹脂顆粒和濕法二氧化硅顆粒的至少一種顆粒（下文中有時稱為"粗糙化顆粒"），所述至 少一種顆粒具有1. 5 μπι以上的平均粒徑。當(dāng)保護(hù)層含有那些組分時，可以提供一種記錄介 質(zhì)，其能夠同時具有高水平的墨吸收性、獲得的圖像的顯色性和耐擦傷性。
[0013] 膠體二氧化硅具有對耐擦傷性的改善作用。然而，膠體二氧化硅趨向于易于致密 地填充，難以導(dǎo)致空隙形成，并且因此可能降低墨吸收性。因此，當(dāng)氣相法二氧化硅與膠體 二氧化硅混合來促進(jìn)空隙形成時，改善了保護(hù)層的墨吸收性。另外，當(dāng)具有1. 5 μπι以上平 均粒徑的粗糙化顆粒分散在由膠體二氧化硅和氣相法二氧化硅形成的層中從而在保護(hù)層 上形成突起時，表面接觸區(qū)域會降低。因此，耐擦傷性可以進(jìn)一步改善而不降低圖像的顯色 性。在該情況下，當(dāng)粗糙化顆粒的平均粒徑小于1. 5 μ m時，不充分地獲得對耐擦傷性的改 善作用。
[0014] 保護(hù)層的干燥涂布量優(yōu)選0. 05g/m2以上且3. Og/m2以下，更優(yōu)選0. lg/m2以上且 1.0 g/m2以下。當(dāng)保護(hù)層滿足0. 05g/m2以上且3. Og/m2以下的干燥涂布量時，在抑制了保護(hù) 層的墨吸收性的降低的同時，保護(hù)層的耐擦傷性可以改善。
[0015] 保護(hù)層的厚度是指除了由粗糙化顆粒形成的突起以外的保護(hù)層的厚度，并且優(yōu)選 I ym以下，更優(yōu)選0. 5 μπι以下。當(dāng)除了由粗糙化顆粒形成的突起以外的保護(hù)層的厚度是 I ym以下時，由粗糙化顆粒形成的突起可以有效地改善耐擦傷性，并且可以獲得具有良好 的墨吸收性的保護(hù)層。
[0016] 上述除了由粗糙化顆粒形成的突起以外的保護(hù)層的厚度可以由在保護(hù)層的除了 由粗糙化顆粒形成的突起以外的且在所述突起附近的十個點處用掃描電子顯微鏡測量厚 度的結(jié)果的平均值來計算，所述測量針對用旋轉(zhuǎn)式切片機切出的記錄介質(zhì)的垂直剖面進(jìn) 行。
[0017] 從耐擦傷性和膜形成性的觀點，優(yōu)選的是保護(hù)層進(jìn)一步含有粘合劑。從涂膜的 粘合性和透明性的觀點，特別優(yōu)選的是粘合劑是聚乙烯醇。聚乙烯醇可以通過例如水 解聚乙酸乙烯酯來合成。聚乙烯醇的實例包括KURARAYCO. ,LTD.制造的"PVA-417"和 "PVA-420"（兩種都是商品名）。
[0018] 保護(hù)層中，聚乙烯醇的含量相對于膠體二氧化硅和氣相法二氧化硅的總含量優(yōu)選 3質(zhì)量％以上且40質(zhì)量％以下，更優(yōu)選5質(zhì)量％以上且30質(zhì)量％以下。當(dāng)聚乙烯醇的含 量是3質(zhì)量％以上時，可以容易地獲得涂膜的高強度。當(dāng)聚乙稀醇的含量是40質(zhì)量％以下 時，抑制了獲得的圖像的顯色性的降低，并且可以容易地獲得高墨吸收性。
[0019] 聚乙烯醇優(yōu)選具有75mol%以上且85mol%以下的皂化度。當(dāng)皂化度是75mol%以 上時，水溶性較不可能降低，并且加工特性變得良好。當(dāng)皂化度是85mol %以下時，在涂布保 護(hù)層用涂布液時幾乎不發(fā)生凝聚，有效地抑制了獲得的圖像的顯色性的降低。另外，聚乙烯 醇優(yōu)選具有1，500以上且2, 200以下的平均聚合度。當(dāng)平均聚合度是1，500以上時，更有 效地抑制了涂膜的強度的降低。當(dāng)平均聚合度是2, 200以下時，可以更有效地抑制獲得的 圖像的顯色性的降低。應(yīng)該注意的是，在本發(fā)明中，聚乙烯醇的皂化度是指通過JIS-K6726 的方法測量的值。就化學(xué)性能而言，聚乙烯醇的皂化度是指在通過聚乙酸乙烯酯的皂化制 備聚乙烯醇時通過皂化反應(yīng)產(chǎn)生的羥基的摩爾數(shù)的比。另外，聚乙烯醇的平均聚合度是指 通過JIS-K6726 (1994)中記載的方法測定的粘度平均聚合度。
[0020] 在本發(fā)明中，從涂膜的透明性和耐水性的觀點，優(yōu)選的是保護(hù)層除了聚乙烯醇以 外含有具有IOnm以上且IOOnm以下的平均粒徑的陽離子性聚氨酯顆粒（下文中有時簡稱 為"陽離子性聚氨酯顆粒"）。
[0021] 保護(hù)層中，陽離子性聚氨酯顆粒的含量相對于膠體二氧化硅和氣相法二氧化硅的 總含量優(yōu)選3質(zhì)量％以上且40質(zhì)量％以下，更優(yōu)選5質(zhì)量％以上且20質(zhì)量％以下。
[0022] 陽離子性聚氨酯顆粒的平均粒徑更優(yōu)選IOnm以上且70nm以下。
[0023] 陽離子性聚氨酯顆粒的平均粒徑是指通過動態(tài)光散射法測量而測定的平均粒 徑，隨后使用 "Polymer Structure (2) ；Scattering Experiments and Morphological Observation ；First Chapter:Light Scattering^ (KYORITSU SHUPPAN CO. , LTD. , The Society of Polymer Science 編輯，日本），或 J.Chem.Phys.，70(B)，15Apl.，3965(1979) 中記載的累積量法來分析。
[0024] 適當(dāng)?shù)赜糜诒景l(fā)明的陽離子性聚氨酯顆粒的實例包括DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU C0.，LTD·制造的 "SUPERFLEX 600"、"SUPERFLEX610"、"SUPERFLEX 620" 和 "SUPERFLEX 650"（商品名）；和制造的"HYDRAN CP-7030"、"HYDRAN CP-7050"和"HYDRAN CP-7060"（商 品名）。
[0025] 膠體二氧化硅
[0026] 在本發(fā)明中，保護(hù)層含有膠體二氧化硅。在膠體二氧化硅中，從涂膜的透明性和耐 擦傷性的觀點，優(yōu)選單分散性膠體二氧化硅，特別地，單分散球狀膠體二氧化硅。術(shù)語"單分 散性"是指多個顆粒以一次顆粒的形式存在于分散液中而不聚集。另外，術(shù)語"球狀"是指： 當(dāng)記錄介質(zhì)的剖面使用掃描電子顯微鏡來拍攝，并且測定任意選擇的顆粒（50以上且100 以下個顆粒）的長軸a和短軸b(各自是平均值）時，短軸與長軸的比b/a落在0.80以上 至1.00以下的范圍內(nèi)。短軸與長軸的比b/a優(yōu)選0.90以上且1.00以下，更優(yōu)選0.95以 上且1. 00以下。
[0027] 另外，從涂膜的涂布性和耐水性的觀點，優(yōu)選的是膠體二氧化硅是陽