專利名稱：噴墨頭清洗設(shè)備和噴墨頭清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
示例實(shí)施例涉及ー種用來清洗噴墨頭的噴墨頭清洗設(shè)備和方法。
背景技術(shù)：
在制造液晶顯示器(IXD)的各階段使用噴墨技木。在使用噴墨技術(shù)的設(shè)備中，噴墨頭的維護(hù)是ー個(gè)基本的過程，以確保墨水均勻地排出，并且防止噴墨頭噴嘴的堵塞。通常，如果噴墨頭包含堵塞的噴嘴，則執(zhí)行迫使墨水通過噴嘴的吹洗過程。這樣的吹洗將堵塞的噴嘴清洗干凈。然后，利用擦拭器去除吹洗之后噴墨頭上的墨渣(ink residue)。圖5是示出傳統(tǒng)的利用擦拭器的噴墨頭清洗設(shè)備的示意性側(cè)視圖。如圖5所示， 利用擦拭器5可以去除吹洗之后噴墨頭100的底部150上的墨渣10。然而，這種清洗方法會(huì)需要擦拭器5與噴墨頭100的底部150接觸，延長使用后導(dǎo)致對(duì)噴墨頭底部150的損壞。 此外，擦拭器5是消耗品且會(huì)需要定期地更換。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)示例實(shí)施例，一種在吹洗操作之后以非接觸的方式從噴墨頭去除墨渣的噴墨頭清洗設(shè)備包括清洗刀和驅(qū)動(dòng)單元。所述清洗刀離噴墨頭底部有一定的距離。所述驅(qū)動(dòng)單元構(gòu)造為在平行于噴墨頭底部的方向上移動(dòng)所述清洗刀。所述清洗刀包括平行于噴墨頭底部的平坦的上表面，在所述清洗刀的平坦的上表面和噴墨頭底部之間產(chǎn)生墨膜。所述清洗刀還包括清在洗刀的上表面中縱向伸長的凹槽。根據(jù)示例實(shí)施例，對(duì)所述噴墨頭底部進(jìn)行表面處理，以使噴墨頭底部處的墨渣形成墨滴，并且防止墨渣在噴墨頭底部擴(kuò)散。根據(jù)示例實(shí)施例，基于噴墨頭底部上的墨渣的粘度，通過疏水性處理涂敷噴墨頭
jfc Rl^o根據(jù)示例實(shí)施例，伸長的凹槽的至少ー個(gè)表面經(jīng)受親水性處理。根據(jù)示例實(shí)施例，清洗刀的側(cè)表面具有梯形形狀，所述梯形形狀具有傾斜的左右邊、面向所述噴墨頭底部的短的上邊以及長的下邊。根據(jù)示例實(shí)施例，清洗刀的上表面中的伸長的凹槽具有大于噴墨頭底部處的所有噴嘴的寬度之和的長度。根據(jù)示例實(shí)施例，清洗刀與噴墨頭底部隔開一定距離，使得在噴墨頭底部和清洗刀的上表面之間產(chǎn)生墨膜。根據(jù)示例實(shí)施例，所述噴墨頭清洗設(shè)備還包括墨水供給/排出部分，墨水供給/ 排出部分構(gòu)造為將墨水供給到所述伸長的凹槽中，或者構(gòu)造為排出伸長的凹槽中收集的墨水。根據(jù)示例實(shí)施例，一種噴墨頭清洗方法包括在距離噴墨頭底部一定的距離處設(shè)置清洗刀，所述清洗刀包括平行于噴墨頭底部的上表面；利用清洗刀的上表面中的伸長的凹槽在噴墨頭底部和清洗刀之間形成墨膜；在吹洗操作后，通過移動(dòng)清洗刀以非接觸的方式將墨水從噴墨頭底部去除。根據(jù)示例實(shí)施例，所述噴墨頭清洗方法還包括涂敷所述噴墨頭底部。根據(jù)示例實(shí)施例，通過疏水性處理涂敷所述噴墨頭底部。根據(jù)示例實(shí)施例，所述噴墨頭清洗方法還包括通過親水性處理涂敷清洗刀中的伸長的凹槽。


通過參照附圖詳細(xì)描述示例實(shí)施例，以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加明顯。 附圖用于描述示例實(shí)施例，并且不應(yīng)該解釋為限制權(quán)利要求的預(yù)期范圍。除非明確指出，否則不應(yīng)該認(rèn)為附圖是按比例描繪的。圖1是示出吹洗步驟之后噴墨頭上的殘余墨滴的示意圖；圖2是示出根據(jù)示例實(shí)施例的噴墨頭清洗設(shè)備的操作順序的示意圖；圖3是示出根據(jù)示例實(shí)施例的在噴墨頭底部和噴墨頭清洗設(shè)備的清洗刀 (cleaning blade)之間的墨膜的側(cè)視圖；圖4是根據(jù)示例實(shí)施例的包括在噴墨頭清洗設(shè)備中的清洗刀的透視圖；圖5是示出利用擦拭器的傳統(tǒng)噴墨頭清洗設(shè)備的示意性側(cè)視圖；圖6是示出根據(jù)示例實(shí)施例的噴墨頭清洗方法的順序的流程圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將參照附圖更加充分地描述示例實(shí)施例，在附圖中示出了示例實(shí)施例。然而， 示例實(shí)施例可以以許多不同的形式實(shí)施，并且不應(yīng)該解釋為局限于在這里提出的實(shí)施例； 相反，提供這些實(shí)施例使本公開將是徹底的和完全的，并且將把示例實(shí)施例的構(gòu)思充分地傳達(dá)給本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員。在附圖中，為了清晰起見，夸大了層和區(qū)的厚度。附圖中相同的標(biāo)號(hào)表示相同的元件，因此將省略對(duì)它們的描述。將理解的是，當(dāng)元件稱作“連接”或者“結(jié)合”到另一元件時(shí)，該元件可直接連接或者結(jié)合到另一元件，或者可以存在中間元件。相反，當(dāng)元件稱作“直接連接”或者“直接結(jié)合” 到另一元件時(shí)，不存在中間元件。相同的標(biāo)號(hào)始終表示相同的元件。如在這里使用的，術(shù)語 “和/或”包括一個(gè)或者多個(gè)相關(guān)所列項(xiàng)的任意組合和所有組合。其它用以描述元件或者層
之間的關(guān)系的詞語應(yīng)該以同樣的方式解釋(例如，“在......之間”與“直接在......之
間”，“鄰近的”與“直接鄰近的”，“在......上”與“直接在......上”)。將理解的是，盡管可以在這里使用術(shù)語“第一”，“第二”等來描述各種的元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)該受到這些術(shù)語的限制。僅使用這些術(shù)語將ー個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開。因此，在不脫離示例實(shí)施例的教導(dǎo)的情況下，以下討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可以被稱作第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。為了便于描述，在這里可以使用空間相對(duì)術(shù)語，如“在......之下”、“在......下
方”、“下面的”、“在......上方”、“上面的”等，用來描述如在圖中所示的一個(gè)元件或特征
與其它元件或特征的關(guān)系。應(yīng)該理解的是，空間相對(duì)術(shù)語意在包含除了在附圖中描述的方位之外的裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的裝置被翻轉(zhuǎn)，則描述為“在”其它元件或特征“之下”或“下方”的元件隨后將被定位為“在”其它元件或特征“上方”。因而，示例性術(shù)語“在...下方”可包括“在...上方”和“在...下方”兩種方位。所述裝置可被另外定位(旋轉(zhuǎn)90度或者在其它方位)，并對(duì)在這里使用的空間相對(duì)描述符做出相應(yīng)的解釋。這里使用的術(shù)語僅為了描述特定實(shí)施例的目的，而非用于限制示例實(shí)施例。如這里所使用的，除非上下文另有明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還應(yīng)理解的是，術(shù)語“包含”和/或“包括”如果在此使用，則說明存在所述特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件，但不排除存在或附加ー個(gè)或多個(gè)其它特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。在此參照作為示例實(shí)施例的理想實(shí)施例(和中間結(jié)構(gòu))的示意圖的剖視圖來描述示例實(shí)施例。這樣，預(yù)計(jì)會(huì)出現(xiàn)諸如由制造技術(shù)和/或公差引起的圖示的形狀的變化。因此，示例實(shí)施例不應(yīng)該被解釋為局限于在此示出的區(qū)域的具體形狀，而是要包括例如由制造引起的形狀偏差。例如，示出為矩形的注入?yún)^(qū)域在其邊緣可具有倒圓或彎曲的特征和/ 或具有注入濃度的梯度，而不是從注入?yún)^(qū)域到非注入?yún)^(qū)域的ニ元變化。同樣，通過注入形成的埋區(qū)會(huì)導(dǎo)致在埋區(qū)和通過其發(fā)生注入的表面之間的區(qū)域中的ー些注入。因此，在圖中示出的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，它們的形狀并不意圖示出裝置的區(qū)域的實(shí)際形狀，也非意圖限制示例實(shí)施例的范圍。除非另有定義，否則此處用到的全部術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與示例實(shí)施例所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所通常理解的意思相同的意思。還將理解的是，除非這里明確定義，否則術(shù)語(諸如在通用字典中定義的術(shù)語)應(yīng)該被解釋為具有與相關(guān)領(lǐng)域的環(huán)境中它們的意思一致的意思，而將不以理想的或者過于正式的含義來解釋它們。圖1是示出吹洗步驟之后在噴墨頭上的殘余墨滴的示意圖。吹洗步驟是利用壓カ對(duì)表現(xiàn)出不良的(例如，不均勻的)墨水排出的堵塞噴嘴進(jìn)行清洗的過程。在一個(gè)示例中，利用高壓空氣來清洗堵塞噴嘴。然而，在利用吹洗步驟清洗堵塞噴嘴之后，由于墨水的粘性和/或表面張カ和/或噴嘴的結(jié)構(gòu)限制，導(dǎo)致墨渣10可以存在于噴墨頭100的底部150上，如圖1中所示。如果墨渣10存在于噴嘴周圍，那么這會(huì)妨礙墨水的順利排出。為了確保均勻的墨水排出，將墨渣10從噴墨頭底部150去除會(huì)是期望的。根據(jù)示例實(shí)施例，噴墨頭清洗設(shè)備以非接觸方式清洗噴墨頭底部150。以非接觸方式清洗噴墨頭100可以防止對(duì)噴墨頭100的物理損壞。在吹洗步驟之后，墨渣10會(huì)圍繞噴嘴殘留在噴墨頭底部150上。掛在噴墨頭底部 150的墨渣10的存在會(huì)阻礙墨水的排出，或者會(huì)導(dǎo)致通過噴嘴噴出的墨水到達(dá)錯(cuò)誤的位置和/或噴出不合適的量的墨水。這會(huì)劣化噴墨頭100的性能，因此，去除墨渣10會(huì)是期望的。圖2是示出根據(jù)示例實(shí)施例的噴墨頭清洗設(shè)備的操作順序的示意圖。噴墨頭清洗設(shè)備包括清洗刀300，以將墨渣10從噴墨頭100的底部150去除；驅(qū)動(dòng)單元500。噴墨頭100包括一個(gè)或者多個(gè)墨水噴出噴嘴，噴嘴頭位于平坦的噴墨頭底部150上。
可使噴墨頭底部150經(jīng)受表面處理，以確保容易地去除墨渣10。例如，可以通過疏水性表面處理涂敷噴墨頭底部150。通過對(duì)噴墨頭底部150的疏水性表面處理，在噴墨頭底部150的墨渣10會(huì)形成墨滴而不是擴(kuò)散。通過噴墨頭清洗設(shè)備的清洗刀300可以容易地去除墨滴10?，F(xiàn)在，將參照?qǐng)D2至圖4描述噴墨頭清洗設(shè)備的清洗刀300。圖4是根據(jù)示例實(shí)施例的包括在所述噴墨頭清洗設(shè)備中的清洗刀的透視圖。如圖4所示，清洗刀300的上表面設(shè)置有縱向伸長的凹槽350，并且清洗刀300的側(cè)表面具有梯形形狀。在不與所述噴墨頭底部150接觸的情況下，清洗刀300將墨渣10從噴墨頭底部 150去除。清洗刀300的上表面是平行于噴墨頭底部150的平坦表面。凹槽350縱向地形成在清洗刀300的上表面的中心，并且具有期望的(或者可選擇地，預(yù)定的)寬度。凹槽350使清洗刀300的上表面和噴墨頭底部150之間產(chǎn)生墨膜15， 從而以非接觸的方式從噴墨頭100的底部150去除墨渣10。在清洗刀300的上表面中的凹槽350中，凹槽350的長邊對(duì)應(yīng)于縱向方向，并凹槽 350的短邊對(duì)應(yīng)于橫向方向。清洗刀300的上表面中的凹槽350的深度可小于清洗刀300的上下表面之間的距離。也就是說，凹槽350的深度可小于清洗刀300的高度，從而使墨膜15容易產(chǎn)生在清洗刀300和噴墨頭底部150之間。此外，清洗刀300的上表面中的凹槽350的縱向長度可以大于噴墨頭100的所有噴嘴的排列長度(即，所有噴嘴的寬度之和)。這起到使墨渣10從噴墨頭底部150有效地去除的作用。凹槽350的縱向長度可以大于全部的噴嘴的排列長度，從而使清洗刀300和噴墨頭底部150之間容易地產(chǎn)生墨膜15，并且將墨渣10從噴墨頭100的底部150完全地去除?？梢酝ㄟ^親水性表面處理涂敷清洗刀300的上表面中的凹槽350，以使存在于凹槽350中的墨水從噴墨頭底部150有效地去除墨渣10。清洗刀300的側(cè)表面可具有梯形形狀，所述梯形形狀具有傾斜的左右兩邊、面向噴墨頭底部150的短的上邊和長的下邊。梯形形狀可以有助于墨渣向下移動(dòng)，促進(jìn)清洗刀 300的自身清洗。清洗刀300還可包括墨水供給/排出部分330，以將墨水提供到凹槽350中或者將收集在凹槽350中的墨水排出。當(dāng)通過墨水供給/排出部分330將墨水提供到凹槽350中吋，供給的墨水在噴墨頭底部150和清洗刀300之間形成墨膜15，以將墨渣10從噴墨頭底部150去除。如果收集在凹槽350中的墨渣10超過期望的(或者可選擇地，預(yù)定的)量，則通過墨水供給/排出部分330將存在于凹槽350中的墨水排出。驅(qū)動(dòng)單元500移動(dòng)清洗刀300。為了使清洗刀300將墨渣10從噴墨頭底部150處去除，驅(qū)動(dòng)單元500在平行于噴墨頭底部150的方向上移動(dòng)清洗刀300。如圖2所示，驅(qū)動(dòng)單元500在平行于噴墨頭底部150的方向上來回移動(dòng)清洗刀 300，使清洗刀300將墨渣10從噴墨頭底部150去除。接著，將參照附圖2和圖3描述根據(jù)示例實(shí)施例的利用噴墨頭清洗設(shè)備清洗噴墨
6頭底部150的操作。圖3是示出根據(jù)示例實(shí)施例的在噴墨頭底部和噴墨頭清洗設(shè)備的清洗刀之間的墨膜的側(cè)視圖。首先，將清洗刀300安裝為在與噴墨頭底部150保持期望的(或者可選擇地，預(yù)定的)距離的同時(shí)沿平行于噴墨頭底部150的方向移動(dòng)，以通過清洗刀300的操作使噴墨頭底部150處的墨渣10產(chǎn)生墨膜15。接著，隨著對(duì)噴墨頭100進(jìn)行吹洗，從噴嘴排出的墨水由于墨水的表面張カ和/或重力的作用而在噴墨頭底部150上殘留為墨渣10。為了去除墨渣10，清洗刀300在被驅(qū)動(dòng)單元500沿水平方向移動(dòng)的同吋，執(zhí)行清洗步驟以將墨渣10從噴墨頭底部150擦除。如圖3所示，在清洗刀300擦拭噴墨頭底部150的同吋，由于形成在清洗刀300的上表面中的伸長的凹槽350的存在，在噴墨頭底部150和清洗刀300的上表面之間產(chǎn)生均勻的墨膜15。在執(zhí)行清洗步驟之后，清洗刀300在驅(qū)動(dòng)單元500的作用下沿相反的方向再次移動(dòng)。通過以上描述的過程，在噴墨頭底部150和清洗刀300的上表面之間的均勻的墨膜15可以將存在于噴墨頭底部150上的微小墨滴去除。可選擇地，與上述方法不同，隨著清洗刀300在通過驅(qū)動(dòng)単元500移動(dòng)的同時(shí)擦拭噴墨頭底部150，可以產(chǎn)生墨膜15。具體地說，如果在清洗刀300直接位于噴墨頭底部150 下面的狀態(tài)下(例如，以固定的方式)執(zhí)行吹洗過程，則在噴墨頭底部150和清洗刀300的上表面之間可以產(chǎn)生均勻的墨膜15。可選擇地，在清洗刀300的移動(dòng)過程中或者當(dāng)清洗刀300直接位于噴墨頭底部150 的下面吋，隨著通過墨水供給/排出部分330將墨水供給到清洗刀300的伸長的凹槽350 中，在噴墨頭底部150和清洗刀300的上表面之間可以產(chǎn)生墨膜15。在清洗刀300的移動(dòng)過程中，通過上述方法產(chǎn)生的墨膜15可以起到將噴墨頭底部150處的墨渣10吸收到凹槽 350的作用，從而完成對(duì)噴墨頭底部150的清洗。這里，以下將描述利用清洗刀300中的伸長的凹槽350將墨渣10從噴墨頭底部 150去除的原理。假設(shè)伸長的凹槽350不在清洗刀300的上表面中，由于清洗刀300的上表面和噴墨頭底部150之間的表面張力，墨渣10往往會(huì)形成墨滴，而不是形成均勻的墨膜。然而，由于清洗刀300中伸長的凹槽350，當(dāng)噴墨頭底部150處的墨渣10與清洗刀 300接觸吋，墨水填充伸長的凹槽350。這里，通過墨水供給/排出部分330供給的墨水填充凹槽350，并且清洗刀300的上表面表現(xiàn)出優(yōu)異的親水特性。也就是說，在清洗刀300的上表面中的凹槽350有助于在清洗刀300和噴墨頭底部150之間產(chǎn)生均勻的墨膜15。此外，存在于凹槽350中的墨水起到吸收墨渣10的作用。 因此，通過清洗刀300可以去除懸掛在噴墨頭底部150的墨渣10。圖6是示出根據(jù)示例實(shí)施例的噴墨頭清洗方法的順序的流程圖。首先，在距離噴墨頭底部150期望的(或者可選擇地，預(yù)定的)距離處設(shè)置清洗刀 300(700)，清洗刀300的上表面平行于噴墨頭底部150。然后，利用清洗刀300的上表面中的伸長的凹槽350，在噴墨頭底部150和清洗刀300之間產(chǎn)生墨膜15(710)。接著，通過驅(qū)動(dòng)單元500移動(dòng)清洗刀300，從而將墨渣10從噴墨頭底部150去除(720)。在這種情況下， 通過墨水供給/排出部分330將墨水供給到清洗刀300的上表面中的伸長的凹槽350中。 隨著供給的墨水從噴墨頭底部150吸收墨渣10，執(zhí)行對(duì)噴墨頭底部150的清洗步驟。正如通過以上描述而顯而易見的，在根據(jù)示例實(shí)施例的噴墨頭清洗設(shè)備和方法中，可以以非接觸方式清洗噴墨頭。這樣能夠半永久性的使用清洗刀，防止損壞噴墨頭，并且確保在清洗之后噴墨頭上的墨渣最少。此外，半永久性的清洗刀可以降低生產(chǎn)成本并縮短生產(chǎn)時(shí)間。盡管已經(jīng)具體示出并描述了示例實(shí)施例，但是對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說， 應(yīng)該理解的是，在不脫離權(quán)利要求的精神和范圍的情況下，可以在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的變化。
權(quán)利要求
1.一種噴墨頭清洗設(shè)備，用來在吹洗操作之后以非接觸方式從噴墨頭去除墨渣，所述噴墨頭清洗設(shè)備包括清洗刀，離噴墨頭底部有一定的距離，所述清洗刀包括平行于所述噴墨頭底部的平坦的上表面，在所述清洗刀的平坦的上表面和所述噴墨頭底部之間產(chǎn)生墨膜，所述清洗刀包括在清洗刀的上表面中縱向伸長的凹槽；驅(qū)動(dòng)單元，構(gòu)造為在平行于所述噴墨頭底部的方向上移動(dòng)所述清洗刀。
2.如權(quán)利要求1所述的噴墨頭清洗設(shè)備，其中，對(duì)所述噴墨頭底部進(jìn)行表面處理，以使噴墨頭底部處的墨渣形成墨滴，并且防止墨渣在噴墨頭底部擴(kuò)散。
3.如權(quán)利要求2所述的噴墨頭清洗設(shè)備，其中，基于所述噴墨頭底部上的墨渣的粘度， 通過疏水性處理來涂敷所述噴墨頭底部。
4.如權(quán)利要求1所述的噴墨頭清洗設(shè)備，其中，所述伸長的凹槽的至少ー個(gè)表面經(jīng)受親水性處理。
5.如權(quán)利要求1所述的噴墨頭清洗設(shè)備，其中，所述清洗刀的側(cè)表面具有梯形形狀，所述梯形形狀具有傾斜的左邊和右邊、面向所述噴墨頭底部的短的上邊及長的下邊。
6.如權(quán)利要求1所述的噴墨頭清洗設(shè)備，其中，所述清洗刀的上表面中伸長的凹槽具有大于噴墨頭底部處的所有噴嘴的寬度之和的長度。
7.如權(quán)利要求1所述的噴墨頭清洗設(shè)備，所述噴墨頭清洗設(shè)備還包括墨水供給/排出部分，構(gòu)造為將墨水供給到所述伸長的凹槽中，或者構(gòu)造為排出所述伸長的凹槽中收集的墨水。
8.—種噴墨頭清洗方法，所述噴墨頭清洗方法包括在距離噴墨頭底部一定的距離處設(shè)置清洗刀，所述清洗刀包括平行于噴墨頭底部的上表面；利用清洗刀的上表面中的伸長的凹槽在所述噴墨頭底部和所述清洗刀之間形成墨膜；在吹洗操作后，通過移動(dòng)清洗刀來以非接觸的方式從所述噴墨頭底部去除墨水。
9.如權(quán)利要求8所述的噴墨頭清洗方法，所述噴墨頭清洗方法還包括涂敷所述噴墨頭底部。
10.如權(quán)利要求9所述的噴墨頭清洗方法，其中，通過疏水性處理涂敷所述噴墨頭底部。
11.如權(quán)利要求10所述的噴墨頭清洗方法，所述噴墨頭清洗方法還包括 通過親水性處理涂敷所述清洗刀中的伸長的凹槽。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種噴墨頭清洗設(shè)備和噴墨頭清洗方法。根據(jù)示例實(shí)施例，在吹洗操作之后以非接觸的方式從噴墨頭去除墨渣的噴墨頭清洗設(shè)備包括清洗刀和驅(qū)動(dòng)單元。清洗刀與噴墨頭底部隔開一定距離。驅(qū)動(dòng)單元構(gòu)造為在平行于噴墨頭底部的方向上以移動(dòng)清洗刀。清洗刀包括平行于噴墨頭底部的平坦的上表面，在清洗刀的平坦的上表面和噴墨頭底部之間產(chǎn)生墨膜。清洗刀還包括在清洗刀的上表面中縱向伸長的凹槽。
文檔編號(hào)B41J2/165GK102555489SQ201110348
公開日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年11月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月12日
發(fā)明者吳賢哲, 金東億, 金大中, 高康雄 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社