基板處理系統(tǒng)及基板反轉(zhuǎn)裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明是有關(guān)于一種基板處理系統(tǒng)及基板反轉(zhuǎn)裝置。其中該基板處理系統(tǒng)可連續(xù)地進行基板的反轉(zhuǎn)，該基板處理系統(tǒng)具備：第1及第2搬送裝置，借由相隔間隙配置的多個單位搬送要素搬送基板；以及基板反轉(zhuǎn)裝置，具備一對保持臂群，該一對保持臂群相對于旋轉(zhuǎn)軸配置成旋轉(zhuǎn)對稱，且具有繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時通過單位搬送要素的間隙的多個保持臂，借由升降手段升降自如；在使一對保持臂群的一方的保持臂具備的多個吸附部吸附于反轉(zhuǎn)對象基板的狀態(tài)下，使吸附部吸附于反轉(zhuǎn)對象基板，之后，借由使一對保持臂群繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180度，使基板反轉(zhuǎn)；一對保持臂群，在基板吸附后、反轉(zhuǎn)完成前的期間，上升地較基板交接位置高，在反轉(zhuǎn)后、解除吸附時，下降至基板交接位置。
【專利說明】基板處理系統(tǒng)及基板反轉(zhuǎn)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種對基板兩面進行加工處理的基板處理系統(tǒng)，特別是涉及一種進行基板的反轉(zhuǎn)的基板反轉(zhuǎn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]作為將玻璃基板等的脆性材料基板(以下，僅稱為基板)加以分斷的方法，廣泛地使用下述方法，即使刀輪一邊壓接于基板的一面一邊轉(zhuǎn)動而形成刻劃線后，使基板表面背面反轉(zhuǎn)，以裂斷桿按壓另一面的先前形成的刻劃線的正上方部位以進行裂斷。上述情形，必須要有對基板一面形成刻劃線后使該基板表面背面反轉(zhuǎn)的機構(gòu)。
[0003]在液晶面板的制作過程中，一般而言，二片脆性材料基板貼合而成的也稱為貼合基板的大的母基板，是借由刀輪進行的刻劃線的形成分斷，但作為上述分斷的方法，廣泛地使用下述方法，即使刀輪依序一邊 壓接于母基板的表面背面一邊轉(zhuǎn)動而形成刻劃線、也即使刀輪依序一邊壓接于構(gòu)成母基板的各脆性材料基板的表面一邊轉(zhuǎn)動而形成刻劃線。此情形，也必須借由反轉(zhuǎn)機構(gòu)使基板反轉(zhuǎn)。
[0004]例如，具備將基板從上下夾入并使其反轉(zhuǎn)的反轉(zhuǎn)機構(gòu)，將在基板的一面已形成刻劃線的基板從上游側(cè)暫時安裝在該反轉(zhuǎn)機構(gòu)并使其反轉(zhuǎn)，將反轉(zhuǎn)后的基板交接至下游側(cè)的裝置的基板分斷系統(tǒng)已為公知(例如，參照專利文獻I)。
[0005]專利文獻1:日本特開2010-76957號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]專利文獻I揭示的現(xiàn)有習(xí)知反轉(zhuǎn)機構(gòu)的情形，反轉(zhuǎn)已完成的先前基板從反轉(zhuǎn)機構(gòu)搬出之前，無法開始下一個基板的反轉(zhuǎn)。因此，會有無法進行連續(xù)分斷處理且作業(yè)效率低的問題。
[0007]本發(fā)明是有鑒于上述課題而構(gòu)成，其目的在于提供一種新型結(jié)構(gòu)的基板反轉(zhuǎn)裝置及具備此基板反轉(zhuǎn)裝置的基板處理系統(tǒng)，所要解決的技術(shù)問題是使其借由連續(xù)地進行基板的反轉(zhuǎn)而能以高處理效率進行基板加工處理。
[0008]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種基板處理系統(tǒng)，具備:第I搬送裝置及第2搬送裝置，分別將脆性材料基板往第I方向搬送；以及基板反轉(zhuǎn)裝置，配置在該第I搬送裝置與該第2搬送裝置之間，使被該第I搬送裝置搬送來的該脆性材料基板反轉(zhuǎn)并交接至該第2搬送裝置；該第I搬送裝置與該第2搬送裝置，借由在與該第I方向正交的第2方向相隔間隙配置的多個單位搬送要素一邊在下方支承一個該脆性材料基板一邊搬送；該基板反轉(zhuǎn)裝置，具備:一對保持臂群，相對于往該第2方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸配置成旋轉(zhuǎn)對稱；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段，使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；及升降手段，使該一對保持臂群在該第I搬送裝置及該第2搬送裝置的間，在交接該脆性材料基板的高度位置即基板交接位置與其上方之間升降；該一對保持臂群分別具有在該第2方向彼此分離配置且繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時通過該間隙的多個保持臂；該多個保持臂分別具備可吸附于該脆性材料基板的多個吸附部；在該一對保持臂群配置在該基板交接位置的狀態(tài)下，使屬于該一對保持臂群的一方的該多個保持臂的該多個吸附部吸附于作為反轉(zhuǎn)對象的該脆性材料基板即反轉(zhuǎn)對象基板，之后，借由使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180度，使該反轉(zhuǎn)對象基板反轉(zhuǎn)；該一對保持臂群，在該反轉(zhuǎn)對象基板吸附于該多個吸附部后、該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)完成前的期間，上升地較該基板交接位置高，在該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)后、解除對該反轉(zhuǎn)對象基板的該多個吸附部的吸附時，下降至該基板交接位置。
[0009]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
[0010]前述的基板處理系統(tǒng)，其中該一對保持臂群位于該基板交接位置時的反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板的被該多個吸附部吸附的被吸附面的高度位置與該第2搬送裝置的搬送高度位置相同，借由該第2搬送裝置一邊支承反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板一邊進行對反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板的該吸附的解除。
[0011]前述的基板處理系統(tǒng)，其中屬于該一對保持臂群的一方的該多個保持臂的該多個吸附部、與屬于該一對保持臂群的另一方的該多個保持臂的該多個吸附部，是設(shè)置成彼此的方向相異180度且兩者的端部位置位于與該旋轉(zhuǎn)軸平行的共通的平面上；該第I搬送裝置的搬送高度位置與該第2搬送裝置的搬送高度位置不同與該脆性材料基板的厚度相等的距離；在該一對保持臂群配置在該基板交接位置的狀態(tài)下，大致同時進行對反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板的該多個吸附部的吸附的解除、與屬于該一對保持臂群的另一方的該多個保持臂的該多個吸附部對被該第I搬送裝置搬送來的新的反轉(zhuǎn)對象基板進行的吸附。
[0012]前述的基板處理系統(tǒng)，其中該旋轉(zhuǎn)軸是在一端部具備圓板狀的突緣部且另一端部連結(jié)于該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段的棒狀的軸；該基板反轉(zhuǎn)裝置具有將該軸支承成可旋轉(zhuǎn)且包含該升降手段的一對支承手段； 該突緣部相對于位于該一對支承手段的一方的筒狀構(gòu)件滑動自如地嵌合；設(shè)在該突緣部的第I貫通孔通過第I吸引配管與該吸附部連接，且設(shè)在該筒狀構(gòu)件的第2貫通孔借由第2吸引配管與吸引手段連接。
[0013]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種基板反轉(zhuǎn)裝置，是使往第I方向搬送的脆性材料基板反轉(zhuǎn)，其具備:一對保持臂群，相對于往與該第I方向正交的第2方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸配置成旋轉(zhuǎn)對稱；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段，使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；以及升降手段，使該一對保持臂群在與外部的間，在交接該脆性材料基板的高度位置即基板交接位置與其上方之間升降；該一對保持臂群分別具有在該第2方向彼此分離配置且繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時通過該間隙的多個保持臂；該多個保持臂分別具備可吸附于該脆性材料基板的多個吸附部；在該一對保持臂群配置在該基板交接位置的狀態(tài)下，使屬于該一對保持臂群的一方的該多個保持臂的該多個吸附部吸附于作為反轉(zhuǎn)對象的該脆性材料基板即反轉(zhuǎn)對象基板，之后，借由使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180度，使該反轉(zhuǎn)對象基板反轉(zhuǎn)；該一對保持臂群，在該反轉(zhuǎn)對象基板吸附于該多個吸附部后、該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)完成前的期間，上升地較該基板交接位置高，在該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)后、解除對該反轉(zhuǎn)對象基板的該多個吸附部的吸附時，下降至該基板交接位置。
[0014]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明基板處理系統(tǒng)及基板反轉(zhuǎn)裝置至少具有下列優(yōu)點及有益效果:本發(fā)明可大致同時進行欲反轉(zhuǎn)基板的搬入動作與該基板的保持動作。又可大致同時進行下一個欲反轉(zhuǎn)基板的搬入、先前已反轉(zhuǎn)處理的基板的交接及保持臂對已搬入基板的吸附保持。也即，可大致同時進行欲反轉(zhuǎn)基板的搬入與基板的反轉(zhuǎn)。借此，可實現(xiàn)反轉(zhuǎn)處理效率優(yōu)異的基板處理。
[0015]綜上所述，本發(fā)明是有關(guān)于一種基板處理系統(tǒng)及基板反轉(zhuǎn)裝置。其中該基板處理系統(tǒng)可連續(xù)地進行基板的反轉(zhuǎn)，該基板處理系統(tǒng)具備:第I及第2搬送裝置，借由相隔間隙配置的多個單位搬送要素搬送基板；以及基板反轉(zhuǎn)裝置，具備一對保持臂群，該一對保持臂群相對于旋轉(zhuǎn)軸配置成旋轉(zhuǎn)對稱，且具有繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時通過單位搬送要素的間隙的多個保持臂，借由升降手段升降自如；在使一對保持臂群的一方的保持臂具備的多個吸附部吸附于反轉(zhuǎn)對象基板的狀態(tài)下，使吸附部吸附于反轉(zhuǎn)對象基板，之后，借由使一對保持臂群繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180度，使基板反轉(zhuǎn)；一對保持臂群，在基板吸附后、反轉(zhuǎn)完成前的期間，上升地較基板交接位置高，在反轉(zhuǎn)后、解除吸附時，下降至基板交接位置。本發(fā)明在技術(shù)上有顯著的進步，并具有明顯的積極效果，誠為一新穎、進步、實用的新設(shè)計。
[0016]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是顯示基板處理系統(tǒng)1000的主要部分構(gòu)成的俯視圖。 [0018]圖2是顯示基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的構(gòu)成的俯視圖。
[0019]圖3是顯示基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的構(gòu)成的YZ側(cè)視圖。
[0020]圖4是在基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的-Y側(cè)的ZX側(cè)視圖。
[0021 ]圖5是在基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的+Y側(cè)的ZX側(cè)視圖。
[0022]圖6是顯示一對保持臂群從基板交接位置上升時的途中的樣子的YZ側(cè)視圖。
[0023]圖7是顯示使一對保持臂群上升既定距離后的狀態(tài)的圖。
[0024]圖8是依序顯示基板W在基板反轉(zhuǎn)裝置100反轉(zhuǎn)的樣子的圖。
[0025]圖9是依序顯示基板W在基板反轉(zhuǎn)裝置100反轉(zhuǎn)的樣子的圖。
[0026]圖10是變形例的包含搬送裝置300的基板處理系統(tǒng)1000的基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的YZ側(cè)視圖。
[0027]100:基板反轉(zhuǎn)裝置101:軸
[0028]1la:突緣部1lb:筒狀部
[0029]1lc:動力傳達部102:保持臂
[0030]103:吸附墊110:腳部
[0031]120:軸支承部130:旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段
[0032]130a:旋轉(zhuǎn)軸140:吸引泵
[0033]200:刻劃裝置201:平臺
[0034]202:橋部203:刻劃頭
[0035]300:搬送裝置301:單位搬送部
[0036]302:滾輪400:移載裝置
[0037]401:吸附墊402:吸附臂
[0038]403:導(dǎo)件1000:基板處理系統(tǒng)
[0039]ff(ffl,W2):基板【具體實施方式】
[0040]為更進一步闡述本發(fā)明為達成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的基板處理系統(tǒng)及基板反轉(zhuǎn)裝置其【具體實施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。
[0041](系統(tǒng)的概要)
[0042]圖1是顯示基板處理系統(tǒng)1000的主要部分構(gòu)成的俯視圖。本實施形態(tài)的基板處理系統(tǒng)1000，主要具備基板反轉(zhuǎn)裝置100、二個刻劃裝置200 (第I刻劃裝置200A及第2刻劃裝置200B)、二個搬送裝置300 (第I搬送裝置300A及第2搬送裝置300B)。
[0043]基板處理系統(tǒng)1000，概略而言，為處理下述一連串處理的系統(tǒng)，即借由第I刻劃裝置200A對玻璃基板等的脆性材料基板(以下，僅稱為基板)W的一主面形成刻劃線后，以基板反轉(zhuǎn)裝置100使該基板W反轉(zhuǎn)，接著，借由第2刻劃裝置200B對另一主面形成刻劃線。
[0044]此外，在圖1及之后的圖式，賦予以在基板處理系統(tǒng)1000依序進行一連串處理時的水平面內(nèi)的基板W的行進方向為Y軸正方向、以在水平面內(nèi)與Y軸正交的方向為X軸方向、以鉛垂方向為Z軸方向的右手系XYZ座標。
[0045]基板反轉(zhuǎn)裝置100主要具備往X軸方向延伸的棒狀構(gòu)件即軸101、從軸101垂直延伸的多個保持臂102。多個保持臂102往相異180度的二個方向延伸，相同方向的保持臂102設(shè)成彼此分離。在本實施形態(tài)中，例示在各方向設(shè)有6個保持臂102的構(gòu)成。此外，在之后，會有適當(dāng)?shù)貙⑼嗤较蜓由斓亩鄠€保持臂102總稱為保持臂群的情形。在基板反轉(zhuǎn)裝置100，配置有分別所屬的保持臂102的延伸方向相異的二個保持臂群(一對保持臂群)。
[0046]在保持臂102配置有吸附墊103?；宸崔D(zhuǎn)裝置100，在以吸附墊103從下方吸附保持有被第I搬送裝置300A搬送來的基板W的狀態(tài)下，以軸101作為旋轉(zhuǎn)軸使保持臂102反轉(zhuǎn)180度，借此使基板W反轉(zhuǎn)，立刻將該基板W交接至第2搬送裝置300B?；宸崔D(zhuǎn)裝置100的詳細構(gòu)成將在后面敘述。
[0047]刻劃裝置200具備在上面載置固定有基板W的狀態(tài)下往Y軸方向移動自如的平臺201、在平臺201的移動范圍上方架設(shè)成X軸方向為長邊方向的橋部202、附設(shè)于該橋部202的至少一個(圖1中為4個)刻劃頭203。在刻劃頭203的鉛垂下部，以垂直姿勢且在面內(nèi)旋轉(zhuǎn)自如地附設(shè)有圓盤狀且外周部分成為刀前端的刻劃輪(未圖示)。
[0048]在上述構(gòu)成的刻劃裝置200，在刻劃頭203配置在橋部200的適當(dāng)位置的狀態(tài)下，在基板W載置固定在平臺201的狀態(tài)下使平臺一邊往Y軸正方向移動一邊使刻劃輪壓接轉(zhuǎn)動于基板W，借此可在基板W形成沿著Y軸方向的刻劃線。
[0049]此外，構(gòu)成基板處理系統(tǒng)100的刻劃裝置200的構(gòu)成并不限于此。例如，在下方配置有基板W的狀態(tài)下，使在下部具備刻劃輪的刻劃頭203往X軸方向移動，借此形成刻劃線的形態(tài)也可?；蛘撸渲枚鄠€具備刻劃頭203的橋部202的形態(tài)也可。
[0050]搬送裝置300是在基板反轉(zhuǎn)裝置100與刻劃裝置200之間搬送基板W的裝置。具體而言，第I搬送裝置300A將以第I刻劃裝置200A形成有刻劃線的基板W搬送至基板反轉(zhuǎn)裝置100的反轉(zhuǎn)開始位置。第2搬送裝置300B將被基板反轉(zhuǎn)裝置100反轉(zhuǎn)后的基板W從基板反轉(zhuǎn)裝置100的反轉(zhuǎn)結(jié)束位置朝向第2刻劃裝置200B搬送。[0051]搬送裝置300具備配置成與Y軸平行且彼此分離的多個(本實施形態(tài)中為七個)單位搬送部(單位搬送要素)301。在搬送裝置300，在被所有單位搬送部301下方支承的狀態(tài)下搬送各基板W。更具體而言，各單位搬送部301是Y軸方向為長邊方向(搬送方向)且彼此同步地動作的帶式輸送機。
[0052]各單位搬送部301是配置成可通過配置在基板反轉(zhuǎn)裝置100的保持臂102借由軸101的旋轉(zhuǎn)而反轉(zhuǎn)動作時相鄰的二個單位搬送部301的間隙。然而，第I搬送裝置300A的單位搬送部301 (第I單位搬送部301A)與第2搬送裝置300B的單位搬送部301 (第2單位搬送部301B)是配置成在鉛垂方向的配置位置(高度位置)不同。具體而言，第2單位搬送部301B相比較于第I單位搬送部301A，配置在高出與基板處理系統(tǒng)1000的處理對象即基板W的厚度t相等的距離的位置。
[0053]本實施形態(tài)的基板處理系統(tǒng)1000進一步具備二個移載裝置400 (第I移載裝置400A及第2移載裝置400B)。移載裝置400處理刻劃裝置200與相鄰的搬送裝置300之間的基板W的移載。移載裝置400具備往X軸方向延伸且在前端部升降自如地具備朝向鉛垂下方的吸附墊401的吸附臂402及將該吸附臂402支承成可往Y軸方向移動的導(dǎo)件403。
[0054]更具體而言，第I移載裝置400A吸附保持在第I刻劃裝置200A形成刻劃線后的基板W并移載至第I搬送裝置300A。第2移載裝置400B吸附保持被第2搬送裝置300B搬送的基板W并移載至第2刻劃裝置200B的平臺201。
[0055]此外，移載裝置400在基板處理系統(tǒng)1000并非必須的構(gòu)成。以刻劃裝置200在與搬送裝置300之間直接交接基板W的方式構(gòu)成基板處理系統(tǒng)1000也可，上述情形，不需要移載裝置400。
[0056](基板反轉(zhuǎn)裝置的詳細構(gòu)成)
[0057]圖2及圖3分別是顯示基板處理系統(tǒng)1000的主要部分即基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的構(gòu)成的俯視圖及YZ側(cè)視圖。在圖2及圖3中，顯示在第I搬送裝置300A與基板反轉(zhuǎn)裝置100之間交接基板W時的樣子。
[0058]再者，圖4及圖5分別是圖2及圖3所示的狀況的基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的-Y側(cè)的ZX側(cè)視圖及+Y側(cè)的ZX側(cè)視圖。然而，在圖4及圖5中，省略配置在+Y側(cè)的構(gòu)成要素，在圖5中，省略配置在-Y側(cè)的構(gòu)成要素。
[0059]如上述，基板反轉(zhuǎn)裝置100具備往X軸方向延伸且能以X軸方向為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的軸101，且使由分別具備多個吸附墊103的多個保持臂102構(gòu)成的保持臂群從軸101往相異180度的二個方向延伸。此外，在圖2中，各保持臂群相對于軸101設(shè)成梳齒狀。
[0060]然而，屬于一方的保持臂群的保持臂102 (將這些特別稱為保持臂102A)與屬于另一方的保持臂群的多個保持臂102 (將這些特別稱為保持臂102B)，是以彼此具備的吸附墊103的方向相異180度且一方的吸附墊103的端部位置(吸附位置)與另一方的吸附墊103的端部位置(吸附位置)即使保持臂102A與保持臂102B的姿勢變化也位于與軸101平行的共通平面上的方式，固設(shè)于軸101。
[0061] 例如，若為圖1至圖5例示的保持臂102取得水平姿勢的情形，例如從圖3可知，保持臂102A的吸附墊103朝向鉛垂下方(-Z方向)，相對于此，保持臂102B的吸附墊103朝向鉛垂上方(+Z方向)，但前者的端部(下端部)與后者的端部(上端部)位于同一平面的水平面內(nèi)。也即，位于相同高度位置。借由軸101旋轉(zhuǎn)，所有保持臂102的姿勢變化，但配置在保持臂102A的吸附墊103的方向與配置在保持臂102B的吸附墊103的方向恒相異180 度。
[0062]也即，屬于一方的保持臂群的保持臂102A與屬于另一方的保持臂群的保持臂102B是設(shè)成在YZ面內(nèi)相對于軸101成為旋轉(zhuǎn)對稱的位置。
[0063]基板反轉(zhuǎn)裝置100進一步具備一對腳部110、一對軸支承部120及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130。
[0064]一對腳部110在X軸方向分離配置，通過軸支承部120將往X軸方向延伸的軸101在其兩端部分從下方支承。此外，在本實施形態(tài)中，為了簡化圖示，顯示一對腳部110獨立地配置的形態(tài)，但一對腳部I1設(shè)在未圖示的基臺上的形態(tài)也可。
[0065]一對軸支承部120連接于軸101的兩端部分，且以往鉛垂方向升降自如的形態(tài)設(shè)在對應(yīng)的腳部110的上側(cè)位置。也即，軸支承部120能一邊支承軸101 —邊升降。借此，在基板反轉(zhuǎn)裝置100，能使軸101及固設(shè)于此的保持臂102的高度位置變化。關(guān)于軸支承部120的升降范圍將在后面詳細敘述。此外，上述升降動作能與軸101的旋轉(zhuǎn)動作并行進行。
[0066]處理軸支承部120的升降的具體構(gòu)成，可借由公知技術(shù)實現(xiàn)。較佳為，軸支承部120的升降借由線性馬達機構(gòu)實現(xiàn)。例如，在腳部110往Z軸方向延伸設(shè)置未圖示的固定件，在軸支承部120設(shè)置未圖示的可動件，使可動件沿著固定件移動，借此如圖4及圖5的箭頭AR所示，在Z軸方向的既定范圍能使軸支承部120升降。
[0067]此外，在本實施形態(tài)中，以一對軸支承部120在X軸方向位于一對腳部110之間的方式配置兩者，但兩者的配置關(guān)系并不限于此。 [0068]旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130是用以使軸101旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動手段。作為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130，較佳為例如旋轉(zhuǎn)汽缸。
[0069]更詳細而言，在基板反轉(zhuǎn)裝置100，在軸101的一端部(本實施形態(tài)中為+X側(cè)端部)固設(shè)有圓板狀的突緣部101a。另一方面，在軸支承部120固設(shè)有往X軸方向開口的筒狀部101b。此外，突緣部1la的外周部是以滑動自如的狀態(tài)嵌合在筒狀部1lb的開口部的內(nèi)面。
[0070]在軸101的另一端部(本實施形態(tài)中為-X側(cè)端部)固設(shè)有動力傳達部101c。在動力傳達部101c，往+X方向延伸的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130的旋轉(zhuǎn)軸130a被支承于軸支承部120
并連結(jié)。
[0071]借由具有以上構(gòu)成，在基板反轉(zhuǎn)裝置100，若使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130動作，則通過支承于軸支承部120的旋轉(zhuǎn)軸130a與連接于此的動力傳達部101c，能使腳部110及被軸支承部120支承的軸101旋轉(zhuǎn)。借此，可實現(xiàn)繞軸101的保持臂120的旋轉(zhuǎn)。此時，在軸101的另一端部，突緣部1la相對于筒狀部1lb滑動，因此可穩(wěn)定地進行旋轉(zhuǎn)動作。
[0072]此外，圖1至圖3中雖省略圖示，但如圖4及圖5所示，在突緣部1la設(shè)有貫通孔即二個第I端口 P1，在筒狀部1lb的側(cè)面也同樣地設(shè)有貫通孔即第2端口 P2。此外，在第I端口 Pl連接有第I吸引用管Tl，在第2端口 P2連接有第2吸引用管T2。借此，第I吸引用管Tl與第2吸引用管T2之間為空間上連通的狀態(tài)。
[0073]再者，二個第I吸引用管Tl的另一端分別經(jīng)由設(shè)在保持臂102的吸引路徑連接于吸附墊103。更具體而言，一方的第I吸引用管Tl連接于保持臂102A側(cè)的吸附墊103，另一方的第I吸引用管Tl連接于保持臂102B側(cè)的吸附墊103。第2吸引用管T2的另一端連接于吸引泵140。借由具有上述構(gòu)成，在基板反轉(zhuǎn)裝置100，在基板W載置于吸附墊103的上的狀態(tài)下使吸引泵140動作，借此能借由吸附墊103吸附固定基板W。在圖4中，概念地例示第I吸引用管Tl與一部分吸附墊103的連接的樣子及第2吸引用管T2與吸引泵140的連接的樣子。
[0074]而且，如上述，連接有第I吸引用管Tl的突緣部101a，在軸101旋轉(zhuǎn)時相對于連接有第2吸引用管T2的筒狀體滑動自如，因此即使在軸101旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)也保持吸引狀態(tài)。借此，在本實施形態(tài)的基板反轉(zhuǎn)裝置100中，即使保持臂102旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)，也可借由吸附墊103吸附保持基板W。
[0075](搬送裝置300與基板反轉(zhuǎn)裝置的配置關(guān)系)
[0076]接著，說明搬送裝置300與基板反轉(zhuǎn)裝置100的配置關(guān)系，具體而言，說明第I搬送裝置300A及第2搬送裝置300B的單位搬送部301的配置關(guān)系與軸支承部120升降后軸101旋轉(zhuǎn)所變化的保持臂102A及保持臂102B的配置位置的關(guān)系。
[0077]如上述，在本實施形態(tài)的基板處理系統(tǒng)1000中，第I搬送裝置300A的單位搬送部301與第2搬送裝置300B的單位搬送部301的高度位置差異為基板W的厚度t的量。另一方面，在基板反轉(zhuǎn)裝置100，保持臂102A與保持臂102B是以相對于軸101旋轉(zhuǎn)對稱且分別具備的吸附墊103的端部位于共通平面上的方式設(shè)置。借由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130使軸101旋轉(zhuǎn)，借此能使一對保持臂 群繞軸101旋轉(zhuǎn)，借由使軸支承部120升降，能使軸101與一對保持臂群的高度位置變化。
[0078]這些部位的配置關(guān)系及一對保持臂群的升降范圍是設(shè)定成能高效率地進行從第I搬送裝置300A的單位搬送部301往一對保持臂群的一方的基板的交接、從一對保持臂群的另一方往第2搬送裝置300B的基板W的交接、及在這些交接間的基板W的反轉(zhuǎn)與在第I搬送裝置300A及第2搬送裝置300B的基板W的搬送。
[0079]具體而言，首先，圖1至圖5所示為一對保持臂群位于基板交接位置時的樣子?；褰唤游恢茫鐖D2及圖3所示，規(guī)定為一對保持臂群是水平姿勢且此時較軸101位于-Y側(cè)的保持臂102A具備的吸附墊103下端的高度位置較第I搬送裝置300A的第I單位搬送部301A的上面高出基板W的厚度t的位置。一對保持臂群位于上述基板交接位置時，在第I搬送裝置300A，基板W被搬送至+Y側(cè)端部后，吸附墊103下端的高度位置與基板W上面的高度位置一致，因此吸附墊103可進行基板W的吸附。
[0080]而且，此時，根據(jù)上述配置關(guān)系，第2搬送裝置300B上面的高度位置與較軸101位于+Y側(cè)的保持臂102B具備的吸附墊103上端的高度位置相同，因此作為被吸附面的下面被該吸附墊103吸附保持的基板W存在的情形，也可借由第2搬送裝置300B支承該基板W。
[0081]也即，一對保持臂群位于基板交接位置時，可大致同時進行從第I搬送裝置300A往基板反轉(zhuǎn)裝置100的基板W的交接、從基板反轉(zhuǎn)裝置100往第2搬送裝置300B的基板的交接。
[0082]圖6是顯示一對保持臂群從圖1至圖5所示的基板交接位置上升時的途中的樣子的YZ側(cè)視圖。然而，在圖6中省略基板W。
[0083]如圖6所示，本實施形態(tài)中，使保持臂102如箭頭RT所示旋轉(zhuǎn)并同時使一對保持臂群上升。更具體而言，使保持臂102A與保持臂102B反轉(zhuǎn)180度的期間，軸支承部120上升，使一對保持臂群上升?；蛘?，使一對保持臂群上升后，使保持臂102A與保持臂102B反轉(zhuǎn)180度也可。
[0084]另一方面，顯示一對保持臂群上升既定距離后的狀態(tài)如圖7所示。然而，在圖7中也省略基板W。
[0085]將圖7與一對保持臂群位于基板交接位置的狀態(tài)的圖3加以對比，前者中，軸支承部120相對于腳部110位于較高位置，一對保持臂群的相對配置關(guān)系相同，但保持臂102A與保持臂102B的配置關(guān)系在Y軸方向在軸101的兩側(cè)替換。
[0086]此外，進一步確認，從圖2所示的兩者的配置關(guān)系可明白旋轉(zhuǎn)的保持臂102不會與單位搬送部301碰撞。
[0087]一對保持臂群從基板交接位置上升的距離，如圖7所示，恒與第2搬送裝置300B的單位搬送部301B上面的高度位置和較軸101位于+Y側(cè)的保持臂102A的吸附墊103上端的高度位置的距離d相等。此外，一對保持臂群的上升是為了確實地防止在第I搬送裝置300A進行的往+Y方向的基板W的搬送時保持臂102A的吸附墊103與搬送的基板W的干涉而進行。因此，一對保持臂群的上升距離只要有數(shù)mm程度即足夠。圖7中是夸大顯示上述距離d。
[0088]暫時上升后的一對保持臂群往基板交接位置的下降，是在將保持臂102保持成水平姿勢的狀態(tài)下進行。此外，不需使一對保持臂群上升后靜止，上升與其后的下降連續(xù)地進行也可。
[0089](基板反轉(zhuǎn)順序)
[0090]接著，說明在具有以上構(gòu)成的基板反轉(zhuǎn)裝置100的基板W的反轉(zhuǎn)順序。圖8及圖9是依序顯示在基板反轉(zhuǎn)裝置100基板W反轉(zhuǎn)的樣子的圖。此外，圖8主要顯示基板反轉(zhuǎn)裝置100開始動作當(dāng)初的樣子，圖9主要顯示基板W的反轉(zhuǎn)連續(xù)進行的正常狀態(tài)。
[0091]說明上，為了方便，如圖8的(a)所示，一對保持臂群從基板交接位置上升，且從處于水平姿勢的狀態(tài)進行。在上述狀態(tài)，首先，在第I搬送裝置300A的第I單位搬送部301A之上，載置以第I刻劃裝置200A刻劃處理后的基板W(Wl)。上述基板W1，如箭頭ARl所示，借由第I單位搬送部301A往+Y方向搬送。
[0092]接著，在基板Wl往第I單位搬送部301A的+Y側(cè)端部側(cè)搬送為止的期間，如圖8的(b)中箭頭AR2所示，一對保持臂群朝向基板交接位置下降。也即，在第I搬送裝置300A的基板Wl的搬送與一對保持臂群的下降大致同時(同時并行)進行。此有助于在基板處理系統(tǒng)1000的基板反轉(zhuǎn)處理的效率化。
[0093]一對保持臂群到達基板交接位置后，如圖8的(C)所示，配置在保持臂102A的吸附墊103的下端部與基板Wl的上面接觸。此外，圖8的(c)顯示與圖3相同的狀況。如上述，在吸附墊103與基板Wl接觸的狀態(tài)下，借由使吸引泵140作動，使基板W吸附保持于吸附墊103。
[0094]此外，此時，保持臂102B位于單位搬送部301B之間，且其吸附墊103的上端的高度位置與單位搬送部301B的高度位置相同。
[0095]上述吸附保持進行后，接著，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130使軸101旋轉(zhuǎn)，借此如圖8的(d)中箭頭RTl所示，一對保持臂群順時針旋轉(zhuǎn)，反轉(zhuǎn)180度。借此,保持臂102A在以吸附墊103吸附保持基板Wl的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)。另一方面，保持臂102B —邊旋轉(zhuǎn)一邊通過第I搬送裝置300A的單位搬送部301B的間隙。與上述旋轉(zhuǎn)同時，如箭頭AR3所示，使一對保
持臂群上升。
[0096]圖9的(a)所示為一對保持臂群反轉(zhuǎn)180度且一對保持臂群上升后的樣子。此時，基板Wl為借由較軸101位于+Y側(cè)的保持臂102A從下方吸附保持的狀態(tài)。也即，為與一開始配置在第I搬送裝置300A的狀態(tài)反轉(zhuǎn)180度的狀態(tài)。此外，在較軸101靠-Y側(cè)，在保持臂102B與第I單位搬送部301A之間產(chǎn)生間隙。
[0097]圖9的(a)所示的狀態(tài)實現(xiàn)前的期間，在第I搬送裝置300A的第I單位搬送部301A之上，接續(xù)基板Wl載置以第I刻劃裝置200A刻劃處理后的基板W(W2)。上述基板W2，如箭頭AR4所示,借由第I單位搬送部301A往+Y方向搬送。
[0098]在基板W2往第I單位搬送部30IA的+Y側(cè)端部側(cè)搬送后，如圖9的(b)中箭頭AR5所示，一對保持臂群朝向基板交接位置下降。這些基板W2的搬送與一對保持臂群的下降，與基板Wl的搬送時相同，同時并行進行，因此有助于在本實施形態(tài)的基板處理系統(tǒng)1000的基板反轉(zhuǎn)處理的效率化。
[0099]一對保持臂群到達基板交接位置后，如圖9的(C)所示，被吸附墊103從下方支承的基 板Wl的下面與第2搬送裝置300B的單位搬送部301B接觸。在取得上述接觸狀態(tài)的時間點，解除吸附墊103進行的基板Wl的吸附保持。借此，實現(xiàn)基板Wl載置于單位搬送部301B上的狀態(tài)。上述載置實現(xiàn)后，單位搬送部301B立刻如箭頭AR6所示，將基板Wl往+Y側(cè)的端部搬送。被搬送的基板Wl往第2刻劃裝置200B搬出。也即，被基板反轉(zhuǎn)裝置100反轉(zhuǎn)180度的基板W供應(yīng)至第2刻劃裝置200B進行的刻劃處理。
[0100]另一方面，在較軸101靠-Y側(cè)，實現(xiàn)配置在保持臂102B的吸附墊103的下端部與基板W2的上面接觸的狀態(tài)。在對基板Wl的吸附保持的解除與往+Y側(cè)的搬送進行后的時間點，吸引泵140再次動作后,使基板W2吸附保持于吸附墊103。
[0101]上述吸附保持可在保持臂102A的吸附解除及接續(xù)的第2搬送裝置300B的基板W的搬送后立刻進行，因此在基板反轉(zhuǎn)裝置100，反轉(zhuǎn)處理后的基板W往第2搬送裝置300B的交接與下一個作為反轉(zhuǎn)對象的基板W的吸附保持可作為一連串的連續(xù)動作大致同時地(無時間滯后)進行。
[0102]上述吸附保持進行后，接著，再次驅(qū)動旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段130使軸101旋轉(zhuǎn)，借此如圖9的(d)中箭頭RT2所示,一對保持臂群順時針旋轉(zhuǎn),反轉(zhuǎn)180度。于是,保持臂102B在保持基板W2的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)。同時,如箭頭AR7所示,使一對保持臂群上升。
[0103]之后，在一對保持臂群上升的時間點，除了保持臂102A與保持臂102B交替以外，實現(xiàn)與圖9的(a)相同的狀態(tài)。因此，之后，若反復(fù)圖9的(a)~圖9的⑷所示的順序，則從第I刻劃裝置200A搬入的基板W依序反轉(zhuǎn)，可供應(yīng)至第2刻劃裝置200B進行的刻劃處理。
[0104]如以上說明，根據(jù)本實施形態(tài)的基板處理系統(tǒng)，可大致同時進行欲反轉(zhuǎn)基板的搬入動作與該基板的保持動作。又，可大致同時進行下一個欲反轉(zhuǎn)基板的搬入、先前反轉(zhuǎn)處理后的基板的交接、保持臂對已搬入基板進行的吸附保持。概略觀之，本實施形態(tài)的基板處理系統(tǒng)，大致同時進行基板的反轉(zhuǎn)與下一個欲反轉(zhuǎn)基板的搬入。借此，可實現(xiàn)反轉(zhuǎn)處理效率優(yōu)異的基板處理系統(tǒng)。
[0105](變形例)[0106]在上述實施形態(tài)中，搬送裝置300的單位搬送部301構(gòu)成為帶式輸送機，但單位搬送部301的構(gòu)成并不限于此。圖10是變形例的包含搬送裝置300的基板處理系統(tǒng)1000的基板反轉(zhuǎn)裝置100附近的YZ側(cè)視圖。
[0107]在圖10所示的基板處理系統(tǒng)1000，單位搬送部301具備在Y軸方向分離配置的多個滾筒302。上述滾筒302借由未圖示的驅(qū)動手段旋轉(zhuǎn)驅(qū)動也可，或者為借由在基板W接觸的狀態(tài)下移動而驅(qū)動的從動滾輪也可。若為前者的情形，在載置有基板W的狀態(tài)下借由驅(qū)動手段使?jié)L輪302旋轉(zhuǎn)，借此可將基板W搬送至所欲位置。若為后者的情形，借由例如移載裝置400等保持基板W并同時移動時，與基板W背面接觸的滾輪302旋轉(zhuǎn)，借此輔助基板W的搬送。
[0108]在上述實施形態(tài)中，各保持臂102雖以從軸101直接延伸的形態(tài)設(shè)置，但替代此，在軸101的周圍具備與軸一體地旋轉(zhuǎn)的框架，將保持臂102設(shè)置在該框架的形態(tài)也可。
[0109]在上述實施形態(tài)中，各保持臂102設(shè)成在長邊方向的寬度及厚度均勻且與長邊方向垂直的剖面為矩形狀，但保持臂102的形狀并不限于此。例如，具有愈朝向長邊方向前端部厚度愈小的形狀等也可。
[0110]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡 修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于其具備: 第I搬送裝置及第2搬送裝置，分別將脆性材料基板往第I方向搬送；以及基板反轉(zhuǎn)裝置，配置在該第I搬送裝置與該第2搬送裝置之間，使被該第I搬送裝置搬送來的該脆性材料基板反轉(zhuǎn)并交接至該第2搬送裝置； 該第I搬送裝置與該第2搬送裝置，借由在與該第I方向正交的第2方向相隔間隙配置的多個單位搬送要素，一邊在下方支承一個該脆性材料基板一邊搬送； 該基板反轉(zhuǎn)裝置，具備: 一對保持臂群，相對于往該第2方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸配置成旋轉(zhuǎn)對稱； 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段，使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn) '及 升降手段，使該一對保持臂群在該第I搬送裝置及該第2搬送裝置之間，在交接該脆性材料基板的高度位置即基板交接位置與其上方之間升降； 該一對保持臂群分別具有在該第2方向彼此分離配置且繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時通過該間隙的多個保持臂； 該多個保持臂分別具備可吸附于該脆性材料基板的多個吸附部； 在將該一對保持臂群配置在該基板交接位置的狀態(tài)下，使屬于該一對保持臂群中一方的該多個保持臂的該多個吸附部吸附于作為反轉(zhuǎn)對象的該脆性材料基板即反轉(zhuǎn)對象基板，之后，借由使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180度，使該反轉(zhuǎn)對象基板反轉(zhuǎn)； 該一對保持臂群，在該反轉(zhuǎn)對象基板被吸附于該多個吸附部后、該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)完成前的期間，上升至較該基板交接位置高處，在該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)后、解除對該反轉(zhuǎn)對象基板的該多個吸附部的吸附時，下降至該基板交接位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于其中，該一對保持臂群位于該基板交接位置時的反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板的被該多個吸附部吸附的被吸附面的高度位置與該第2搬送裝置的搬送高度位置相同，對反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板的該吸附的解除，是在借由該第2搬送裝置一邊支承反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板一邊進行。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于其中，屬于該一對保持臂群中一方的該多個保持臂的該多個吸附部、與屬于該一對保持臂群中另一方的該多個保持臂的該多個吸附部，是設(shè)置成彼此的方向相異180度且兩者的端部位置位于與該旋轉(zhuǎn)軸平行的共通的平面上； 該第I搬送裝置的搬送高度位置與該第2搬送裝置的搬送高度位置，相差與該脆性材料基板的厚度相等的距尚; 在該一對保持臂群配置在該基板交接位置的狀態(tài)下，大致同時進行對反轉(zhuǎn)后的該反轉(zhuǎn)對象基板的該多個吸附部的吸附的解除、與屬于該一對保持臂群中另一方的該多個保持臂的該多個吸附部對被該第I搬送裝置搬送來的新的反轉(zhuǎn)對象基板進行的吸附。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于其中，該旋轉(zhuǎn)軸是在一端部具備圓板狀的突緣部且另一端部連結(jié)于該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段的棒狀的軸； 該基板反轉(zhuǎn)裝置具有將該軸支承成可旋轉(zhuǎn)且包含該升降手段的一對支承手段； 該突緣部相對于位于該一對支承手段的一方的筒狀構(gòu)件滑動自如地嵌合； 設(shè)在該突緣部的第I貫通孔通過第I吸引配管與該吸附部連接，且設(shè)在該筒狀構(gòu)件的第2貫通孔借由第2吸引配管與吸引手段連接。
5.一種基板反轉(zhuǎn)裝置，是使往第I方向搬送的脆性材料基板反轉(zhuǎn)，其特征在于其具備: 一對保持臂群，相對延伸于與該第I方向正交的第2方向的旋轉(zhuǎn)軸配置成旋轉(zhuǎn)對稱； 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段，使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；以及 升降手段，使該一對保持臂群在與外部之間，在交接該脆性材料基板的高度位置即基板交接位置與其上方之間升降； 該一對保持臂群分別具有在該第2方向彼此分離配置且繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時通過該間隙的多個保持臂； 該多個保持臂分別具備可吸附于該脆性材料基板的多個吸附部； 在該一對保持臂群配置在該基板交接位置的狀態(tài)下，使屬于該一對保持臂群中一方的該多個保持臂的該多個吸附部吸附于作為反轉(zhuǎn)對象的該脆性材料基板即反轉(zhuǎn)對象基板，之后，借由使該一對保持臂群繞該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180度，使該反轉(zhuǎn)對象基板反轉(zhuǎn)； 該一對保持臂群，在該反轉(zhuǎn)對象基板吸附于該多個吸附部后、該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)完成前的期間，上升至較該基板交接位置高處，在該反轉(zhuǎn)對象基板的反轉(zhuǎn)后、解除對該反轉(zhuǎn)對象基板的該多個吸附部的吸附時，下降至該基板交接位置。
【文檔編號】C03B33/03GK104030558SQ201410055154
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2014年2月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月5日
【發(fā)明者】成尾徹 申請人:三星鉆石工業(yè)股份有限公司