瓷磚生產(chǎn)工藝的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種瓷磚生產(chǎn)工藝，包括如下步驟：A）粉料制備：包括如下步驟A1、配料：包括如下重量分?jǐn)?shù)的成分：坯料94-98份和納米氧化鋅粉3-7份；A2、濕法球磨制漿；A3、過(guò)篩、除鐵；A4、噴霧干燥造粒；A5、陳腐，即得球形粉料；B）粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥；C）干坯施面釉；D）在釉燒窯燒成；E）磨邊，生產(chǎn)同樣含水率的瓷磚，本發(fā)明所需的燒結(jié)溫度低，節(jié)約能源，較少?gòu)U氣排放，同時(shí)生產(chǎn)的瓷磚強(qiáng)度高。
【專(zhuān)利說(shuō)明】瓷磚生產(chǎn)工藝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種瓷磚生產(chǎn)工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]瓷磚，是以耐火的金屬氧化物及半金屬氧化物，經(jīng)由研磨、制漿、壓制、施釉、燒結(jié)等過(guò)程，而形成之一種耐酸堿的瓷質(zhì)或石質(zhì)等之建筑或裝飾之材料，總稱(chēng)之為瓷磚。其原材料多由粘土、石英沙等等混合而成。吸水率是檢驗(yàn)瓷磚質(zhì)量的一個(gè)重要參數(shù)，它是指陶瓷產(chǎn)品的開(kāi)口氣孔吸滿(mǎn)水后，吸入水的重量占產(chǎn)品重量的百分比，目前國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定瓷磚的吸水率應(yīng)≤0.5%(平均值不大于0.5%，單個(gè)值不大于0.6%)，而吸水率的大小與燒結(jié)溫度成反t匕，為了達(dá)到低的吸水率，必須要提高燒結(jié)溫度，但是燒結(jié)溫度越高需要消耗的煤炭等資源越多。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]有鑒于此，本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種瓷磚生產(chǎn)工藝，該生產(chǎn)工藝生產(chǎn)出的瓷磚在同樣的含水率情況下，燒結(jié)溫度更低。
[0004]本發(fā)明的瓷磚生產(chǎn)工藝，包括如下步驟[0005]A)粉料制備:包括如下步驟:
[0006]A1、配料:包括如下重量分?jǐn)?shù)的成分:坯料94-97份和納米氧化鋅粉3_5份；
[0007]A2、濕法球磨制漿；
[0008]A3、過(guò)篩、除鐵；
[0009]A4、噴霧干燥造粒；
[0010]A5、陳腐，即得球形粉料。
[0011]B)粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥。
[0012]C)干坯施面釉；
[0013]作為本發(fā)明的優(yōu)選，所述步驟C)中面釉比重為1.4-1.6，釉量為400_600g/m2。
[0014]D)在釉燒窯燒成；
[0015]作為本發(fā)明的優(yōu)選，燒結(jié)溫度為1030°C。
[0016]E)磨邊。
[0017]進(jìn)一步，將步驟A2制得漿料的50%通過(guò)濾水、烘干成粉后與另外的50%漿料一同進(jìn)入步驟A4中噴干造粒。直接將A2制得的漿料投入到噴霧干燥塔內(nèi)制粉料，存在高濕度、重污染尾氣排放問(wèn)題。為此，將步驟A2制得漿料的一部分通過(guò)濾水、烘干成粉后與剩余的漿料一同進(jìn)入噴霧干燥塔內(nèi)噴干造粒。將漿料及干粉按一定比率定量輸送至噴霧粉干塔進(jìn)行造粒。其中，采用壓力噴霧方式將漿料霧化，同時(shí)，利用壓縮空氣將干粉吹至彌散狀態(tài)，使?jié){滴與干粉在噴霧粉干塔中相互撞碰、吸附，生成干粉-漿滴包裹體初始顆粒物，再經(jīng)滾圓夯實(shí)、水分調(diào)整，制得實(shí)心球形陶瓷粉料，從源頭上避免了造粒的尾氣污染問(wèn)題。另外，當(dāng)干粉_楽滴包裹體的含水率控制在12-15%時(shí)，獲得的陶瓷粉料樣品的粒度級(jí)配合理、粉料顆粒球形度較規(guī)整、松裝密度高、流行性好，可滿(mǎn)足陶瓷壓坯要求。
[0018]進(jìn)一步，將步驟D)中釉燒窯燒結(jié)時(shí)產(chǎn)生的余熱引入步驟B)中的干燥窯中，在釉燒窯頂部通過(guò)管道與干燥窯連通，燒結(jié)時(shí)將釉燒窯內(nèi)產(chǎn)生的余熱引入干燥窯，節(jié)省資源。
[0019]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的瓷磚生產(chǎn)工藝，生產(chǎn)同樣含水率的瓷磚所需的燒結(jié)溫度低，節(jié)約能源，較少?gòu)U氣排放，同時(shí)生產(chǎn)的瓷磚強(qiáng)度高。
【具體實(shí)施方式】
[0020]實(shí)施例1
[0021]將94公斤的坯料和3公斤的納米氧化鋅粉混合后，采用濕法球磨制得漿料；漿料經(jīng)過(guò)過(guò)篩、除鐵后，將漿料的一部分通過(guò)濾水、烘干成粉后與剩余的漿料一同進(jìn)入噴霧干燥塔內(nèi)噴干造粒，經(jīng)陳腐后即得球形粉料；將粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥；對(duì)干坯施面釉，面釉比重為1.4，釉量為400g/m2 ;釉燒窯以1100°C燒結(jié)；磨邊。
[0022]實(shí)施例2
[0023]將96公斤的坯料和5公斤的納米氧化鋅粉混合后，采用濕法球磨制得漿料；漿料經(jīng)過(guò)過(guò)篩、除鐵后，將漿料的一部分通過(guò)濾水、烘干成粉后與剩余的漿料一同進(jìn)入噴霧干燥塔內(nèi)噴干造粒，經(jīng)陳腐后即得球形粉料；將粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥；對(duì)干坯施面釉，面釉比重為1.5，釉 量為500g/m2 ;在釉燒窯中以1030°C燒結(jié)；磨邊。
[0024]實(shí)施例3
[0025]將98公斤的坯料和7公斤的納米氧化鋅粉混合后，采用濕法球磨制得漿料，漿料經(jīng)過(guò)過(guò)篩、除鐵后，將漿料的一部分通過(guò)濾水、烘干成粉后與剩余的漿料一同進(jìn)入噴霧干燥塔內(nèi)噴干造粒，經(jīng)陳腐后即得球形粉料；將粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥；對(duì)干坯施面釉，面釉比重為1.6，釉量為600g/m2 ;在釉燒窯中以1080°C燒結(jié)；磨邊。
[0026]實(shí)施例4
[0027]將100的坯料，采用濕法球磨制得漿料；漿料經(jīng)過(guò)過(guò)篩、除鐵后，將全有漿料放入噴霧干燥塔內(nèi)噴干造粒，經(jīng)陳腐后即得球形粉料；將粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥；對(duì)干坯施面釉，面釉比重為1.5，釉量為500g/m2 ;在釉燒窯中以1200°C燒結(jié)；磨邊。
[0028]瓷磚檢驗(yàn)結(jié)果
[0029]對(duì)由實(shí)施例1-4生產(chǎn)的瓷磚進(jìn)行含水率和破壞強(qiáng)度進(jìn)行檢驗(yàn)，結(jié)果如表1。
[0030]表1檢驗(yàn)結(jié)果
[0031]
|實(shí)施例1 |實(shí)施例2 |實(shí)施例3實(shí)施例4含水率(％) 0740 20.30.4破壞強(qiáng)度(N) 1910212020601420
[0032]結(jié)論:生產(chǎn)相同含水率的瓷磚時(shí)，本發(fā)明在配料中添加納米氧化鋅粉，可以降低燒結(jié)溫度，同時(shí)，瓷磚的強(qiáng)度顯著增加。
[0033]最后說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的宗旨和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍 當(dāng)中。
【權(quán)利要求】
1.一種瓷磚生產(chǎn)工藝，其特征在于:包括如下步驟:A)粉料制備:包括如下步驟A1、配料:包括如下重量分?jǐn)?shù)的成分:坯料94-98份和納米氧化鋅粉3-7份；A2、濕法球磨制漿；A3、過(guò)篩、除鐵；A4、噴霧干燥造粒；A5、陳腐，即得球形粉料；B)粉料經(jīng)壓機(jī)成型后，于干燥窯中干燥；C)干坯施面釉；D)在釉燒窯燒成；E)磨邊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚生產(chǎn)工藝，其特征在于:將步驟A2制得漿料中的一部分通過(guò)濾水、烘干制成干粉，與剩余的漿料一同進(jìn)行噴霧干燥造粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚生產(chǎn)工藝，其特征在于:所述步驟C)中面釉比重為1.4-1.6，釉量為 400-600g/m2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚生產(chǎn)工藝，其特征在于:步驟D)中的燒結(jié)溫度為1030 ?。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚生產(chǎn)工藝，其特征在于:將步驟D)中釉燒窯燒結(jié)時(shí)產(chǎn)生的余熱引入步驟B)中的干燥窯中。
【文檔編號(hào)】C04B35/622GK103664193SQ201310689498
【公開(kāi)日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年12月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月16日
【發(fā)明者】曾忠, 石茂富, 石文全 申請(qǐng)人:酉陽(yáng)縣四達(dá)機(jī)械廠