專利名稱：含銀偏振玻璃的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于光纖通信和光電顯示領(lǐng)域，特別涉及到光學(xué)偏振玻璃的制備技術(shù)。
背景技術(shù)：
光學(xué)玻璃需求的增加促進(jìn)了人們對(duì)新型光學(xué)功能玻璃的開發(fā)，使得半導(dǎo)體 摻雜玻璃、稀土摻雜玻璃和金屬粒子摻雜玻璃大量出現(xiàn)。以前金屬粒子摻雜玻璃多用于產(chǎn)生特殊色光的吸收，1968年S.D. Stookey和R丄Araujo發(fā)現(xiàn)了含有 幾何形狀不對(duì)稱銀粒子的玻璃具有二向色性，從此人們開始了光學(xué)偏振玻璃的 研究和開發(fā)。S.D. Stookey等人分析玻璃中金屬粒子行為時(shí)將其視為電子氣，而 且它的平均自由程比大塊金屬晶體時(shí)的短。Kelly Jones和Mark Taylor等人把金 屬粒子的偏振行為歸因于金屬中傳導(dǎo)電子的振蕩吸收，即電子等離子振蕩機(jī)制。 當(dāng)金屬粒子呈細(xì)長(zhǎng)棒狀時(shí)，平行于金屬粒子長(zhǎng)度方向振動(dòng)的光子被金屬粒子的 電子等離子振蕩吸收，將光能轉(zhuǎn)化為熱能；而垂直于金屬粒子長(zhǎng)度方向振動(dòng)的 光子無阻礙地通過，產(chǎn)生了光波的偏振。與此結(jié)構(gòu)和原理相類似的偏振片有金 屬細(xì)絲光柵偏振片。當(dāng)前一般生產(chǎn)光學(xué)偏振玻璃的工藝流程為1.玻璃的熔融將玻璃原料和鹵 化銀混合升溫至熔融狀態(tài)，并將它們均勻化和純化后冷卻成型。在這一過程中， 玻璃的純度和銀粒子分布的均勻性是偏振片性能的關(guān)鍵因素。2.熱處理熱處理 的作用是消除玻璃成型過程中的應(yīng)力，并使鹵化銀粒子聚集長(zhǎng)大，有利于提高 偏振片的性能。在這一階段，光學(xué)偏振玻璃中將出現(xiàn)尺寸為20 500nm的鹵化 銀粒子。3.延伸這是最終形成不對(duì)稱形狀銀粒子均勻定向排布的關(guān)鍵步驟。目前所用的延伸工藝多為熱軋，熱處理后在玻璃的軟化點(diǎn)(約663。C)和徐冷點(diǎn)(約 495'C)之間保溫進(jìn)行軋制，使鹵化銀粒子呈棒狀，長(zhǎng)徑比為2 : 1 5 : 1，沿延 伸方向排列。4.研削研磨加工延伸的板厚設(shè)計(jì)為研削研磨加工留有余量，研削研磨是達(dá)到規(guī)定尺寸的主要方法。目前生產(chǎn)的光學(xué)偏振玻璃有0.5mm和10mm 兩種厚度，而先進(jìn)的技術(shù)可以制造0.2mm厚的偏振片。5.還原燒成研削研磨 后，在氫氣氣氛中，在250 495。C進(jìn)行還原燒成。此過程主要是為了將鹵化銀 粒子還原成銀粒子， 一般是將板的兩面表面層5(^m范圍內(nèi)的鹵化銀粒子還原。 另外該過程還可以去除延伸過程的應(yīng)力，使偏振片的性能更穩(wěn)定。1980年，康 寧公司將熱延伸過程改進(jìn)為擠壓過程，但無具體的文獻(xiàn)說明。1982年，LentzW. P.等以及1997年BergK. J.等利用拉伸玻璃平板的方法得到了偏振玻璃。中國(guó)武 漢工業(yè)大學(xué)和武漢郵電科學(xué)院合作將玻璃塊置于拉伸爐中， 一端固定另一端加 拉力，制成了有一定偏振作用的玻璃片。以上的方法中，拉伸過程中的拉力和 玻璃或加熱區(qū)的移動(dòng)速度都需要精確的控制。對(duì)比軋制、擠壓和拉伸三種方法，軋制和擠壓過程中要解決玻璃的粘膜問題， 而且設(shè)備較為復(fù)雜；同時(shí)還需控制溫度分布，以使變形區(qū)處于最高溫度范圍， 甚至要外加冷卻系統(tǒng)，使剛變形的部分迅速冷卻，以保證被拉長(zhǎng)的粒子不發(fā)生 回復(fù)。拉伸方法雖然不需要考慮粘膜和控溫問題，但要控制拉力、速度和加熱 區(qū)溫度。玻璃的抗拉能力有限，特別對(duì)溫度比較敏感，所以拉力、速度和加熱 區(qū)溫度的配合非常重要。即是如此，所施加的拉力也要有一定的限制，而且拉 伸過程中的斷裂也時(shí)有發(fā)生，因此所得的偏振玻璃性能較軋制和擠壓要差。一 般而言，拉伸法都需要經(jīng)過多次拉伸，這就帶來了另外的困難， 一是多次升溫 會(huì)影響粒子的大小和分布，增加了控制的難度。二是多次拉伸過程中玻璃的形 狀很難控制。由于現(xiàn)有的光學(xué)偏振玻璃中分布的是長(zhǎng)粒狀的銀粒子，雖然粒子的大致取 向一致，但由于制造工藝決定的粒子的分布卻是無序的。這種結(jié)構(gòu)的光學(xué)偏振 玻璃不可避免的會(huì)存在銀粒子分布均勻性，粒子的長(zhǎng)徑比不一至以及單個(gè)粒子 的粗細(xì)(短軸徑)不同等問題。這就需要制備過程中的復(fù)雜的控制手段，導(dǎo)致 工藝過程的可控性較差，成品率低等問題。而且不同批次的產(chǎn)品光學(xué)特性差異 較大，對(duì)大批量工業(yè)生產(chǎn)造成了困難，使得生產(chǎn)成本較高。盡管當(dāng)前的光學(xué)偏振玻璃雖然可以達(dá)到較高的消光比和透過率，但若想進(jìn)一步提高其性能參數(shù)就 變得非常困難。從工藝上講，光學(xué)偏振玻璃的生產(chǎn)還沿襲著傳統(tǒng)的玻璃制造工 藝一熔融后成型，磨削加工，玻璃的純度和均勻性控制業(yè)已接近了極限，而且 制造成本很高。從性能上講，光學(xué)偏振玻璃的消光比有待于進(jìn)一步的提高，以適應(yīng)光纖通訊領(lǐng)域的應(yīng)用；現(xiàn)有光學(xué)偏振玻璃的透過率、耐熱穩(wěn)定性和光損傷閥值有待于進(jìn)一步提高。因此目前急需光學(xué)偏振玻璃的設(shè)計(jì)及制造工藝創(chuàng)新性的思路和解決方法。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種含銀偏振玻璃的制備方法，其中，偏振效應(yīng)由銀粒子帶提供；銀粒子帶由光刻和噴涂完成。本發(fā)明提出的一種含銀偏振玻璃的制備方法，該方法涉及光刻系統(tǒng)和噴涂 系統(tǒng)。光刻系統(tǒng)的具體連接方式為掃描反射鏡按45度角固定在掃描平臺(tái)上，刻 蝕光源輸出按45度角對(duì)準(zhǔn)掃描反射鏡，相位掩模板按135度角對(duì)準(zhǔn)掃描反射鏡， 使刻蝕光源、掃頻反射鏡和均勻相位掩模板呈90度直角分布，均勻相位掩模板 后為支架。噴涂系統(tǒng)的具體連接方式為工作氣體輸出分別接原料混合室和預(yù)加熱裝 置，原料混合室的輸出口接噴槍的原料輸入口，預(yù)加熱裝置的輸出口接噴槍的 工作氣體輸入口，噴槍的輸出接超音速噴管的輸入端。含銀偏振玻璃的制備方法，包括以下步驟步驟l， SiCL和02按摩爾比1: l放入原料混合室內(nèi)，SiCl4的粒子直徑《 40um，將玻璃片放置距離超音速噴管的出口 5 25mm處；步驟2,打開工作氣體He，氣體壓力為1.5 3. 5MPa， He氣分為兩路，其 中一路進(jìn)入原料混合室內(nèi)，將混合的SiCl4和02送入噴槍；另外一路經(jīng)預(yù)加熱裝 置預(yù)熱，預(yù)熱溫度為100 600°C，驅(qū)動(dòng)噴槍工作，噴槍噴出的02和SiCl4粒子， 經(jīng)超音速噴管并以500 1000m/s噴出，將反應(yīng)生成的Si02淀積在玻璃片上，當(dāng)?shù)矸e的Si02的厚度達(dá)到5mm時(shí)停止噴涂；步驟3，利用切片機(jī)切下淀積得到的Si02材料，然后利用研磨機(jī)將Si02材料拋光，得到Si02玻璃片；步驟4，將Si02玻璃片固定在支架上，掃描反射鏡以45度斜角固定在掃描 平臺(tái)上，采用連續(xù)發(fā)光激光器作為刻蝕光源，輸出的激光以45度入射掃描反射 鏡，反射后的激光通過均勻相位掩模板，打到步驟3得到的Si02玻璃片上，移 動(dòng)掃描平臺(tái)，平臺(tái)移動(dòng)精度為lOOnm,完成光刻過程，光刻凹槽的寬度及間隔由 均勻相位掩模板決定；步驟5，將經(jīng)過步驟4得到的Si02玻璃片放置距離超音速噴管的出口 5 25mm處，將鹵化銀粉末放入原料混合室內(nèi)，打開工作氣體He，氣體壓力為1. 5 3.5MPa， He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室內(nèi)，將鹵化銀送入噴槍；另 外一路經(jīng)預(yù)加熱裝置預(yù)熱，預(yù)熱溫度為100 60CTC，驅(qū)動(dòng)噴槍工作，噴槍噴出 的鹵化銀粉末，經(jīng)超音速噴管并以500 1000m/s噴出，將鹵化銀填充在步驟4 得到的Si02玻璃片的凹槽內(nèi)，得到含鹵化銀的Si02玻璃片；步驟6，重復(fù)步驟1和步驟2，在由步驟5得到的鹵化銀填充后Si02玻璃片 上噴涂Si02，當(dāng)表面沉積Si02的厚度達(dá)到lmm時(shí)停止噴涂；步驟7，再次利用研磨機(jī)將步驟6得到的整個(gè)Si02玻璃片拋光，得到含銀偏 振玻璃。本發(fā)明的有益效果具體如下 按照本發(fā)明所述的方法，制備含銀偏振玻璃時(shí)，具有很大的靈活性。只須 改變均勻相位掩模板，而不須對(duì)其它工藝作任何改動(dòng)，就可以得到所需的不同 中心波長(zhǎng)的偏振玻璃。由于使用高純度的Si02玻璃基片和高純度的Si02覆蓋層， 只要注意在制備過程中，不人為地引入其它雜質(zhì)，則用這種方法制作的偏振玻 璃的損耗很小，所以其透過率很高，即保證了該偏振器件具有低的插入損耗， 降低使用時(shí)的器件發(fā)熱量和功耗。與其它光學(xué)偏振玻璃的制備方法相比，該方 法具有很高的可重復(fù)性，適合大批量的生產(chǎn)。比現(xiàn)有的方法制作偏振玻璃具有更好的偏振性能，更低的損耗，更好的性價(jià)比，可以大批量生產(chǎn)。可以生產(chǎn)超 大面積的光學(xué)偏振玻璃，在大屏幕顯示有重要的應(yīng)用。另外，本發(fā)明包含的偏振玻璃具有耐高溫、耐化學(xué)腐蝕和耐濕性的特點(diǎn)， 這使其成為在惡劣環(huán)境下工作的首選器件。例如汽車制造業(yè)中進(jìn)行光學(xué)檢驗(yàn)用 的傳感和測(cè)量系統(tǒng)，它所要求的偏振玻璃的環(huán)境適應(yīng)能力是光學(xué)偏振玻璃的可 應(yīng)用領(lǐng)域。本發(fā)明包含的偏振玻璃所具有的優(yōu)異的光學(xué)性能、良好的穩(wěn)定性和 可加工性，使其獲得巨大的潛在的商業(yè)價(jià)值，它的推廣將產(chǎn)生巨大的社會(huì)效益 和可觀的經(jīng)濟(jì)效益。


圖1光刻系統(tǒng)。圖2噴涂系統(tǒng)。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。一種含銀偏振玻璃的制備方法，該方法涉及光刻系統(tǒng)和噴涂系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)如 圖l和2所示光刻系統(tǒng)的具體連接方式為:掃描反射鏡3按45度角固定在掃描平臺(tái)5上， 刻蝕光源4光輸出按45度角對(duì)準(zhǔn)掃描反射鏡，均勻相位掩模板2按135度角對(duì) 準(zhǔn)掃描反射鏡，使刻蝕光源、掃頻反射鏡和均勻相位掩模板呈90度直角分布， 均勻相位掩模板后為支架l。噴涂系統(tǒng)的具體連接方式為工作氣體He的輸出分別接材料混合室6和預(yù) 加熱裝置9，材料混合室的輸出口接噴槍7的材料輸入口，預(yù)加熱裝置的輸出口 接噴槍的工作氣體輸入口，噴槍的輸出接超音速噴管8的輸入端。實(shí)施例一含銀偏振玻璃的制備方法，包括以下步驟步驟l, SiCl4和02按摩爾比1: l放入原料混合室6內(nèi)，SiCL的粒子直徑 為40um，將玻璃片放置距離超音速噴管8的出口 18mm處；步驟2，打開工作氣體He，氣體壓力為3MPa， He氣分為兩路，其中一路進(jìn) 入原料混合室6內(nèi)，將混合的SiCL和02送入噴槍7;另外一路經(jīng)預(yù)加熱裝置9 預(yù)熱，預(yù)熱溫度為10(TC，驅(qū)動(dòng)噴槍7工作，噴槍噴出的02和SiCl4粒子，經(jīng)超 音速噴管8并以800m/s噴出，將反應(yīng)生成的Si02淀積在玻璃片上，當(dāng)?shù)矸e的Si02 的厚度達(dá)到5mm時(shí)停止噴涂；步驟3,利用切片機(jī)切下淀積得到的Si02材料，然后利用研磨機(jī)將Si02材 料拋光，得到Si02玻璃片；步驟4，將Si02玻璃片固定在支架l上，掃描反射鏡3以45度斜角固定在 掃描平臺(tái)5上，采用連續(xù)的244倍頻氬離子光激光器作為刻蝕光源4，輸出的激 光以45度入射掃描反射鏡3，反射后的激光通過均勻相位掩模板2，打到步驟3 得到的Si02玻璃片上，移動(dòng)掃描平臺(tái)5，平臺(tái)移動(dòng)精度為100nm，完成光刻過程， 光刻凹槽的寬度及間隔由均勻相位掩模板2決定；步驟5，將經(jīng)過步驟4得到的Si02玻璃片放置距離超音速噴管8的出口 5mm 處，將氯化銀粉末放入原料混合室6內(nèi)，打開工作氣體He，氣體壓力為2.2MPa, He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室6內(nèi)，將氯化銀送入噴槍7;另外一 路經(jīng)預(yù)加熱裝置9預(yù)熱，預(yù)熱溫度為40(TC，驅(qū)動(dòng)噴槍7工作，噴槍噴出的氯化 銀粉末，經(jīng)超音速噴管8并以500m/s噴出，將氯化銀填充在步驟4得到的Si02 玻璃片的凹槽內(nèi)，得到含氯化銀的Si02玻璃片；步驟6，重復(fù)步驟1和步驟2，在由步驟5得到的氯化銀填充后Si02玻璃片 上噴涂Si02，當(dāng)表面沉積的Si02的厚度達(dá)到lmm時(shí)停止噴涂；步驟7，再次利用研磨機(jī)將步驟6得到的整個(gè)Si02玻璃片拋光，得到含銀偏振玻璃。實(shí)施例二含銀偏振玻璃的制備方法，包括以下步驟步驟1， SiCL和02按摩爾比1: 1放入原料混合室6內(nèi)，SiCl4的粒子直徑 為35um,將玻璃片放置距離超音速噴管8的出口 22mm處；步驟2，打開工作氣體He，氣體壓力為1.5MPa， He氣分為兩路，其中一路 進(jìn)入原料混合室6內(nèi)，將混合的SiCl4和02送入噴槍7;另外一路經(jīng)預(yù)加熱裝置 9預(yù)熱，預(yù)熱溫度為IO(TC，驅(qū)動(dòng)噴槍7工作，噴槍噴出的02和SiCh粒子，經(jīng) 超音速噴管8并以500m/s噴出，將反應(yīng)生成的Si02淀積在玻璃片上，當(dāng)?shù)矸e的 Si02的厚度達(dá)到5mm時(shí)停止噴涂；步驟3，利用切片機(jī)切下淀積得到的Si02材料，然后利用研磨機(jī)將Si02材 料拋光，得到Si02玻璃片；步驟4，將Si02玻璃片固定在支架1上，掃描反射鏡3以45度斜角固定在 掃描平臺(tái)5上，采用連續(xù)的244倍頻氬離子光激光器作為刻蝕光源4，輸出的激 光以45度入射掃描反射鏡3，反射后的激光通過均勻相位掩模板2，打到步驟3 得到的Si02玻璃片上，移動(dòng)掃描平臺(tái)5，平臺(tái)移動(dòng)精度為100nm，完成光刻過程， 光刻凹槽的寬度及間隔由均勻相位掩模板2決定；步驟5，將經(jīng)過步驟4得到的Si02玻璃片放置距離超音速噴管8的出口 12mm 處，將氟化銀粉末放入原料混合室6內(nèi)，打開工作氣體He，氣體壓力為3.5MPa， He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室6內(nèi)，將鹵化銀送入噴槍7;另外一 路經(jīng)預(yù)加熱裝置9預(yù)熱，預(yù)熱溫度為60(TC，驅(qū)動(dòng)噴槍7工作，噴槍噴出的氟化 銀粉末，經(jīng)超音速噴管8并以1000m/s噴出，將氟化銀填充在淀積在步驟4得 到的Si02玻璃片的凹槽內(nèi)，得到含氟化銀的Si02玻璃片；步驟6，重復(fù)步驟1和步驟2，在由步驟5得到的氟化銀填充后Si02玻璃片 上噴涂Si02，當(dāng)表面沉積的Si02的厚度達(dá)到Iran時(shí)停止噴涂；步驟7，再次利用研磨機(jī)將步驟6得到的整個(gè)Si02玻璃片拋光，得到含銀偏 振玻璃。實(shí)示例三，含銀偏振玻璃的制備方法，包括以下步驟 步驟l， SiCh和02按摩爾比1: l放入原料混合室6內(nèi)，SiCL的粒子直徑 為30um，將玻璃片放置距離超音速噴管8的出口 25mm處；步驟2，打開工作氣體He，氣體壓力為2.5MPa， He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室6內(nèi)，將混合的SiCh和02送入噴槍7;另外一路經(jīng)預(yù)加熱裝置 9預(yù)熱，預(yù)熱溫度為50(TC，驅(qū)動(dòng)噴槍7工作，噴槍噴出的02和SiCh粒子，經(jīng) 超音速噴管8并以800m/s噴出，將反應(yīng)生成的Si02淀積在玻璃片上，當(dāng)?shù)矸e的 Si02的厚度達(dá)到5mm時(shí)停止噴涂；步驟3，利用切片機(jī)切下淀積得到的Si02材料，然后利用研磨機(jī)將Si02材料拋光，得到Si02玻璃片；步驟4，將Si02玻璃片固定在支架l上，掃描反射鏡3以45度斜角固定在 掃描平臺(tái)5上，采用連續(xù)的244倍頻氬離子光激光器作為刻蝕光源4，輸出的激 光以45度入射掃描反射鏡3，反射后的激光通過均勻相位掩模板2，打到步驟3 得到的Si02玻璃片上，移動(dòng)掃描平臺(tái)5，平臺(tái)移動(dòng)精度為100nm，完成光刻過程， 光刻凹槽的寬度及間隔由均勻相位掩模板2決定；步驟5，將經(jīng)過步驟4得到的Si02玻璃片放置距離超音速噴管8的出口 16mra 處，將碘化銀粉末放入原料混合室6內(nèi)，打開工作氣體He，氣體壓力為2.8MPa， He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室6內(nèi)，將碘化銀送入噴槍7;另外一 路經(jīng)預(yù)加熱裝置9預(yù)熱，預(yù)熱溫度為45(TC，驅(qū)動(dòng)噴槍7工作，噴槍噴出的碘化 銀粉末，經(jīng)超音速噴管8并以750m/s噴出，將碘化銀填充在淀積在步驟4得到 的Si02玻璃片的凹槽內(nèi)，得到含碘化銀的Si02玻璃片；步驟6，重復(fù)步驟1和步驟2，在由步驟5得到的碘化銀填充后Si02玻璃片 上噴涂Si02，當(dāng)表面沉積的Si02的厚度達(dá)到lmm時(shí)停止噴涂；步驟7，再次利用研磨機(jī)將步驟6得到的整個(gè)Si02玻璃片拋光，得到含銀偏 振玻璃。
權(quán)利要求
1. 一種含銀偏振玻璃的制備方法，其特征在于該制備方法的步驟步驟1，SiCl4和O2按摩爾比1∶1放入原料混合室(6)內(nèi)，SiCl4的粒子直徑≤40μm，將玻璃片放置距離超音速噴管(8)的出口5～25mm處；步驟2，打開工作氣體He，氣體壓力為1.5～3.5MPa，He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室(6)內(nèi)，將混合的SiCl4和O2送入噴槍(7)；另外一路經(jīng)預(yù)加熱裝置(9)預(yù)熱，預(yù)熱溫度為100～600℃，驅(qū)動(dòng)噴槍(7)工作，噴槍噴出的O2和SiCl4粒子，經(jīng)超音速噴管(8)并以500～1000m/s噴出，將反應(yīng)生成的SiO2淀積在玻璃片上，當(dāng)?shù)矸e的SiO2的厚度達(dá)到5mm時(shí)停止噴涂；步驟3，利用切片機(jī)切下淀積得到的SiO2材料，然后利用研磨機(jī)將SiO2材料拋光，得到SiO2玻璃片；步驟4，將SiO2玻璃片固定在支架(1)上，掃描反射鏡(3)以45度斜角固定在掃描平臺(tái)(5)上，采用連續(xù)發(fā)光激光器作為刻蝕光源(4)，輸出的激光以45度入射掃描反射鏡(3)，反射后的激光通過均勻相位掩模板(2)，打到步驟3得到的SiO2玻璃片上，移動(dòng)掃描平臺(tái)(5)，平臺(tái)移動(dòng)精度為100nm，完成光刻過程，光刻凹槽的寬度及間隔由均勻相位掩模板(2)決定；步驟5，將經(jīng)過步驟4得到的SiO2玻璃片放置距離超音速噴管(8)的出口5～25mm處，將鹵化銀粉末放入原料混合室(6)內(nèi)，打開工作氣體He，氣體壓力為1.5～3.5MPa，He氣分為兩路，其中一路進(jìn)入原料混合室(6)內(nèi)，將鹵化銀送入噴槍(7)；另外一路經(jīng)預(yù)加熱裝置(9)預(yù)熱，預(yù)熱溫度為100～600℃，驅(qū)動(dòng)噴槍(7)工作，噴槍噴出的鹵化銀粉末，經(jīng)超音速噴管(8)并以500～1000m/s噴出，將鹵化銀填充在步驟4得到的SiO2玻璃片的凹槽內(nèi)，得到含鹵化銀的SiO2玻璃片；步驟6，重復(fù)步驟1和步驟2，在由步驟5得到的鹵化銀填充后SiO2玻璃片上噴涂SiO2，當(dāng)表面沉積的SiO2的厚度達(dá)到1mm時(shí)停止噴涂；步驟7，再次利用研磨機(jī)將步驟6得到的整個(gè)SiO2玻璃片拋光，得到含銀偏振玻璃。
全文摘要
一種含銀偏振玻璃的制備方法，屬于光纖通信、光電顯示領(lǐng)域。在制備含銀偏振玻璃時(shí)，首先，在玻璃片上噴涂一層SiO₂，經(jīng)切割研磨后，通過光學(xué)模和光刻使其表面出現(xiàn)微槽。光刻凹槽的寬度及間隔由均勻相位掩模板決定，然后，對(duì)微槽進(jìn)行噴涂附著鹵化銀，最后，利用等離子技術(shù)制作一層SiO₂玻璃材料，將微槽覆蓋，再次研磨得到含銀偏振玻璃。本發(fā)明不同于以往常見的溶膠-凝膠含銀偏振玻璃的制作方法，工藝流程容易控制，產(chǎn)品的工作性能穩(wěn)定，生產(chǎn)周期較短，而且采用研磨拋光、刻槽以及銀粒子噴涂附著技術(shù)，不僅實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)便，更能達(dá)到比較高的幾何精度?？傮w而言，本發(fā)明簡(jiǎn)單實(shí)用，易于實(shí)現(xiàn)，具有較強(qiáng)的可重復(fù)性和靈活性。
文檔編號(hào)C03C17/02GK101544463SQ20091008188
公開日2009年9月30日 申請(qǐng)日期2009年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月15日
發(fā)明者寧提綱, 延鳳平, 帆 張, 晶 李, 王春燦, 偉 簡(jiǎn), 麗 裴 申請(qǐng)人:北京交通大學(xué)