一種設(shè)有v型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)及大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及紡織機(jī)械領(lǐng)域，尤其涉及一種用于大圓機(jī)上的設(shè)有V型凹槽的轉(zhuǎn)盤(pán)及大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]大圓機(jī)是通過(guò)送紗、喂紗、編織和落布工藝將一卷卷的紗線編織成筒狀的布匹，其中轉(zhuǎn)盤(pán)和大齒輪是大圓機(jī)的重要組成部分，大齒輪設(shè)置在轉(zhuǎn)盤(pán)上，通過(guò)電機(jī)帶動(dòng)大齒輪旋轉(zhuǎn)，使大齒輪上的編織針對(duì)紗線進(jìn)行編織。
[0003]傳統(tǒng)的轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有矩形凹槽，凹槽的底部設(shè)有耐磨片，由于矩形凹槽與矩形凸臺(tái)之間有一定的間隙，所以其定位效果并不理想。再且耐磨片在長(zhǎng)時(shí)間的使用過(guò)程當(dāng)中容易磨損，而且每個(gè)部位的磨損程度都不一樣，這樣會(huì)造成大齒輪在旋轉(zhuǎn)時(shí)出現(xiàn)跳動(dòng)現(xiàn)象，在高速編織時(shí)尤為嚴(yán)重。大齒輪在跳動(dòng)時(shí)會(huì)偏離原來(lái)的旋轉(zhuǎn)路徑，由于沒(méi)有受到矩形凹槽的定位和制約作用，所以大齒輪的中心會(huì)不停地晃動(dòng)，最終造成編織出來(lái)的布匹疏密不均，嚴(yán)重影響廣品的品質(zhì)。
[0004]另一種傳統(tǒng)的轉(zhuǎn)盤(pán)上同樣設(shè)有矩形凹槽，不同的是，矩形凹槽內(nèi)設(shè)有鋼珠，大齒輪設(shè)置在鋼珠上，通過(guò)滑動(dòng)摩擦在矩形凹槽內(nèi)旋轉(zhuǎn)。這種形式的轉(zhuǎn)盤(pán)雖然一定程度上緩解了大齒輪跳動(dòng)情況的發(fā)生，但并沒(méi)有完全解決大齒輪旋轉(zhuǎn)中心晃動(dòng)以及定位精度不理想的技術(shù)問(wèn)題。
[0005]因此這種設(shè)有矩形凹槽的傳統(tǒng)轉(zhuǎn)盤(pán)需要進(jìn)一步改進(jìn)和完善。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的在于提供一種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)及大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，旨在解決傳統(tǒng)轉(zhuǎn)盤(pán)容易造成大齒輪旋轉(zhuǎn)中心晃動(dòng)、定位精度不理想的技術(shù)問(wèn)題。
[0007]本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的技術(shù)方案如下:
[0008]—種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其中，包括本體、用于與大齒輪配合的第一凹槽、V型塊和耐磨片；所述第一凹槽設(shè)置在本體上；所述V型塊與本體一體設(shè)置，包括第一斜塊和第二斜塊，所述第一斜塊和第二斜塊相對(duì)設(shè)置，所述第一斜塊設(shè)置在第一凹槽內(nèi)部的一邊，第二斜塊設(shè)置在第一凹槽內(nèi)部的另一邊，組成V型槽，所述耐磨片設(shè)置在第一斜塊和第二斜塊相對(duì)的斜面上。
[0009]所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其中，所述V型塊之間為間隔設(shè)置。
[0010]所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其中，所述第一凹槽內(nèi)設(shè)有潤(rùn)滑油，所述潤(rùn)滑油在V型塊上形成一層油膜。
[0011]所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其中，所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)還包括用于收集溢出的潤(rùn)滑油的第二凹槽和排油口，所述第二凹槽與第一凹槽相鄰設(shè)置，位于第一凹槽靠近轉(zhuǎn)盤(pán)中心的一側(cè)；所述排油口設(shè)置在第二凹槽內(nèi)，通過(guò)管道與收集桶連通。
[0012]所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其中，所述耐磨片通過(guò)膠水粘貼在第一斜塊和第二斜塊的斜面上，所述耐磨片覆蓋整個(gè)斜面。
[0013]—種大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，其中，所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置包括所述的轉(zhuǎn)盤(pán)和大齒輪，所述大齒輪設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)上，所述大齒輪上設(shè)有與所述V型塊配合使用的V型凸臺(tái)，所述V型凸臺(tái)與第一斜塊和第二斜塊的斜面接觸。
[0014]綜上所述，本實(shí)用新型所提供的一種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)及大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，所述轉(zhuǎn)盤(pán)包括本體、第一凹槽、V型凸臺(tái)、V型塊和耐磨片，其中V型塊設(shè)置在第一凹槽內(nèi)，包括相對(duì)設(shè)置的第一斜塊和第二斜塊，以保證大齒輪在轉(zhuǎn)盤(pán)上能高精度地定位對(duì)中。另夕卜，在V型塊的斜面上全面覆蓋耐磨片，使V型塊受力均勻，耐磨片磨損均勻。此外，V型塊之間間隔設(shè)置，減小了與大齒輪的接觸面積，同時(shí)也降低啟動(dòng)時(shí)所需扭矩，很好地解決傳統(tǒng)轉(zhuǎn)盤(pán)容易造成大齒輪旋轉(zhuǎn)中心晃動(dòng)、定位精度不理想的技術(shù)問(wèn)題。
【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型所提供的轉(zhuǎn)盤(pán)的立體示意圖一。
[0016]圖2是本實(shí)用新型所提供的轉(zhuǎn)盤(pán)的立體示意圖二。
[0017]圖3是本實(shí)用新型所提供的V型塊的截面示意圖。
[0018]圖4是本實(shí)用新型所提供的轉(zhuǎn)盤(pán)的部分截面示意圖。
[0019]圖5是本實(shí)用新型所提供的V型塊和V型凸臺(tái)配合使用的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚、明確，以下參照附圖并舉實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0021]如圖1和圖5所示，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，該轉(zhuǎn)盤(pán)用于支撐和引導(dǎo)大齒輪繞大圓機(jī)中心高速旋轉(zhuǎn)。其中所述的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)包括本體A00、用于與大齒輪配合的第一凹槽A10、V型塊和耐磨片A30。所述第一凹槽AlO在本體AOO上設(shè)置為一圈。所述V型塊與本體一體設(shè)置，包括第一斜塊A21和第二斜塊A22，所述第一斜塊A21和第二斜塊A22相對(duì)設(shè)置，所述第一斜塊A21設(shè)置在第一凹槽AlO內(nèi)部的一邊，第二斜塊A22設(shè)置在第一凹槽AlO內(nèi)部的另一邊，組成V型槽。所述耐磨片設(shè)置在第一斜塊A21和第二斜塊A22相對(duì)的斜面上。
[0022]本實(shí)用新型還公開(kāi)了一種大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，其中，所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置包括所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)和大齒輪。所述大齒輪設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)上，所述大齒輪上設(shè)有與所述V型塊配合使用的V型凸臺(tái)A50，所述V型凸臺(tái)A50與第一斜塊A21和第二斜塊A22的斜面接觸。通過(guò)第一斜塊A21和第二斜塊A22對(duì)V型凸臺(tái)A50的限位對(duì)中作用，來(lái)限制大齒輪旋轉(zhuǎn)時(shí)中心的晃動(dòng)，保證轉(zhuǎn)盤(pán)的定位精度。所述耐磨片A30設(shè)置在V型塊上，具體的，如圖3所示，所述耐磨片A30設(shè)置在第一斜塊A21和第二斜塊A22的斜面上，該斜面是V型塊與大齒輪接觸的面。
[0023]進(jìn)一步，為了減小V型塊與大齒輪的摩擦面積，減小啟動(dòng)時(shí)所需力矩。所述V型塊之間為間隔設(shè)置。
[0024]進(jìn)一步，為了使大齒輪在V型塊上受力均勻，同時(shí)減輕耐磨片A30的磨損程度，延長(zhǎng)使用壽命，確保V型塊的對(duì)中精度。所述耐磨片A30通過(guò)膠水粘貼在第一斜塊A21和第二斜塊A22上，并完全覆蓋第一斜塊A21和第二斜塊A22的整個(gè)斜面。
[0025]進(jìn)一步，為了減小大齒輪旋轉(zhuǎn)時(shí)的摩擦力，使大齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)更順暢，更平穩(wěn)，所述第一凹槽AlO內(nèi)設(shè)有潤(rùn)滑油，所述潤(rùn)滑油在大齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)的時(shí)候，使V型凸臺(tái)A50和V型塊之間形成一層油膜。
[0026]優(yōu)選的，為了避免大齒輪高速旋轉(zhuǎn)時(shí)潤(rùn)滑油溢出到地上，結(jié)合圖2、圖3和圖4所示，所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)還包括用于收集溢出的潤(rùn)滑油的第二凹槽A40和排油口 A41。所述第二凹槽A40與第一凹槽AlO相鄰設(shè)置，位于第一凹槽AlO靠近轉(zhuǎn)盤(pán)中心的一側(cè)。所述排油口 A41設(shè)置在第二凹槽A40內(nèi)。當(dāng)潤(rùn)滑油從第一凹槽AlO內(nèi)溢出到第二凹槽A40后，經(jīng)過(guò)排油口 A41流到收集桶內(nèi)。
[0027]綜上所述，本實(shí)用新型所提供的一種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)及大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，所述轉(zhuǎn)盤(pán)包括本體AOO、第一凹槽AlO、V型凸臺(tái)A50、V型塊和耐磨片A30，其中V型塊設(shè)置在第一凹槽AlO內(nèi)，包括相對(duì)設(shè)置的第一斜塊A21和第二斜塊A22，以保證大齒輪在轉(zhuǎn)盤(pán)上能高精度地定位對(duì)中。另外，在V型塊的斜面上全面覆蓋耐磨片A30，使V型塊受力均勻，耐磨片A30磨損均勻。此外，V型塊之間間隔設(shè)置，減小了與大齒輪的接觸面積，同時(shí)也降低啟動(dòng)時(shí)所需扭矩，很好地解決傳統(tǒng)轉(zhuǎn)盤(pán)容易造成大齒輪旋轉(zhuǎn)中心晃動(dòng)、定位精度不理想的技術(shù)問(wèn)題。
[0028]應(yīng)當(dāng)理解的是，本實(shí)用新型的應(yīng)用不限于上述的舉例，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)上述說(shuō)明加以改進(jìn)或變換，例如，對(duì)本實(shí)用新型中的各部分的連接方式的替換等，所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其特征在于，包括本體、用于與大齒輪配合的第一凹槽、V型塊和耐磨片；所述第一凹槽設(shè)置在本體上；所述V型塊與本體一體設(shè)置，包括第一斜塊和第二斜塊，所述第一斜塊和第二斜塊相對(duì)設(shè)置，所述第一斜塊設(shè)置在第一凹槽內(nèi)部的一邊，第二斜塊設(shè)置在第一凹槽內(nèi)部的另一邊，組成V型槽，所述耐磨片設(shè)置在第一斜塊和第二斜塊相對(duì)的斜面上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其特征在于，所述V型塊之間為間隔設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其特征在于，所述第一凹槽內(nèi)設(shè)有潤(rùn)滑油，所述潤(rùn)滑油在V型塊上形成一層油膜。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其特征在于，所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)還包括用于收集溢出的潤(rùn)滑油的第二凹槽和排油口，所述第二凹槽與第一凹槽相鄰設(shè)置，位于第一凹槽靠近轉(zhuǎn)盤(pán)中心的一側(cè)；所述排油口設(shè)置在第二凹槽內(nèi)，通過(guò)管道與收集桶連通。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)，其特征在于，所述耐磨片通過(guò)膠水粘貼在第一斜塊和第二斜塊的斜面上，所述耐磨片覆蓋整個(gè)斜面。6.一種大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，其特征在于，所述大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置包括如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)盤(pán)和大齒輪，所述大齒輪設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)上，所述大齒輪上設(shè)有與所述V型塊配合使用的V型凸臺(tái)，所述V型凸臺(tái)與第一斜塊和第二斜塊的斜面接觸。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種設(shè)有V型凹槽的大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)及大圓機(jī)轉(zhuǎn)盤(pán)裝置，其中，所述轉(zhuǎn)盤(pán)包括本體、用于與大齒輪配合的第一凹槽、V型塊和耐磨片；所述第一凹槽設(shè)置在本體上；所述V型塊與本體一體設(shè)置，包括第一斜塊和第二斜塊，所述第一斜塊和第二斜塊相對(duì)設(shè)置，組成V型槽,所述耐磨片設(shè)置在第一斜塊和第二斜塊相對(duì)的斜面上。本方案中的第一斜塊和第二斜塊相對(duì)設(shè)置，保證大齒輪在轉(zhuǎn)盤(pán)上能高精度地定位對(duì)中。另外，在V型塊的斜面上全面覆蓋耐磨片，使V型塊受力均勻，耐磨片磨損均勻。此外，V型塊之間間隔設(shè)置，減小了與大齒輪的接觸面積，同時(shí)也降低啟動(dòng)時(shí)所需扭矩，很好地解決傳統(tǒng)轉(zhuǎn)盤(pán)容易造成大齒輪旋轉(zhuǎn)中心晃動(dòng)、定位精度不理想的技術(shù)問(wèn)題。
【IPC分類】D04B15/18
【公開(kāi)號(hào)】CN204898243
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520479214
【發(fā)明人】蒙福勇
【申請(qǐng)人】蒙福勇
【公開(kāi)日】2015年12月23日
【申請(qǐng)日】2015年7月3日