轉盤式晶粒清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及致冷件生產【技術領域】的設備，是轉盤式晶粒清洗裝置，其特征是：它包括一個底座，在底座上有一個傾斜設置的固定盤，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱，在凸出棱上還有有上面的進料口和下面的出料口，進料口上面安裝進料斗，出料口下面安裝出料斗，在固定盤上面有電機連接的旋轉盤，固定盤和旋轉盤相對的面上都設有軟質層，在進料口上面設有進水管，所述的出料口處的底面設置有篩網(wǎng)，所述的出料口外的后面對著烘干設備，這樣的轉盤式晶粒清洗裝置具有節(jié)省勞動力、清洗效率高的優(yōu)點。
【專利說明】轉盤式晶粒清洗裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及致冷件生產【技術領域】的設備，特別是涉及晶粒清洗裝置。

【背景技術】
[0002]在晶粒生產過程中，晶粒外面會沾上灰塵和油污，除去這些灰塵和油污是保證下一步生產產品質量的條件，現(xiàn)有技術中，除去這些灰塵和油污使用的是人工清洗，它具有浪費勞動力資源，清洗效率低的缺點。


【發(fā)明內容】

[0003]本實用新型的目的就是針對上述缺點，提供一種節(jié)省勞動力，清洗效率高的晶粒清洗裝置--轉盤式晶粒清洗裝置。
[0004]本實用新型的技術方案是這樣實現(xiàn)的:轉盤式晶粒清洗裝置，其特征是:它包括一個底座，在底座上有一個傾斜設置的固定盤，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱，在凸出棱上還有有上面的進料口和下面的出料口，進料口上面安裝進料斗，出料口下面安裝出料斗，在固定盤上面有電機連接的旋轉盤，固定盤和旋轉盤相對的面上都設有軟質層，在進料口上面設有進水管。
[0005]進一步地講，所述的出料口處的底面設置有篩網(wǎng)。
[0006]進一步地講，所述的出料口外的后面對著烘干設備。
[0007]本實用新型的有益效果是:這樣的轉盤式晶粒清洗裝置具有節(jié)省勞動力、清洗效率高的優(yōu)點。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的側面的結構示意圖。
[0009]圖2是本實用新型固定盤的結構示意圖
[0010]其中:1、底座 2、固定盤 3、凸出棱 4、進料口 5、出料口 6、進料斗7、出料斗 8、旋轉盤 9、軟質層 10、進水管11、篩網(wǎng) 12、烘干設備。

【具體實施方式】
[0011]下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。
[0012]如圖1、2所示，轉盤式晶粒清洗裝置，其特征是:它包括一個底座1，在底座1上有一個傾斜設置的固定盤2，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱3，在凸出棱上還有有上面的進料口 4和下面的出料口 5，進料口上面安裝進料斗6，出料口下面安裝出料斗7，在固定盤上面有電機連接的旋轉盤8，固定盤和旋轉盤相對的面上都設有軟質層9，在進料口上面設有進水管10。
[0013]這樣，進料斗的原料從進料口進入，同時加水，經(jīng)過旋轉揉搓，可以對晶粒清洗，這樣比單純的前進、后退方式的揉搓效果更好，所述的軟質層有利于晶粒的保護。
[0014]進一步地講，所述的出料口處的底面設置有篩網(wǎng)11，這樣可以對廢水和晶粒進行分咼。
[0015]進一步地講，所述的出料口外的后面還對著烘干設備12，這樣可以及時對晶粒進行烘干。
[0016]以上所述僅為本實用新型的具體實施例，但本實用新型的結構特征并不限于此，任何本領域的技術人員在本實用新型的領域內，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實用新型的專利范圍內。
【權利要求】
1.轉盤式晶粒清洗裝置，其特征是:它包括一個底座，在底座上有一個傾斜設置的固定盤，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱，在凸出棱上還有有上面的進料口和下面的出料口，進料口上面安裝進料斗，出料口下面安裝出料斗，在固定盤上面有電機連接的旋轉盤，固定盤和旋轉盤相對的面上都設有軟質層，在進料口上面設有進水管。
2.根據(jù)權利要求1所述的轉盤式晶粒清洗裝置，其特征是:所述的出料口處的底面設置有篩網(wǎng)。
3.根據(jù)權利要求1所述的轉盤式晶粒清洗裝置，其特征是:所述的出料口外的后面對著烘干設備。
【文檔編號】B08B3/10GK204134968SQ201420583405
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年10月11日 優(yōu)先權日:2014年10月11日
【發(fā)明者】陳磊, 劉栓紅, 趙麗萍, 錢俊有, 張文濤, 蔡水占, 郭晶晶, 張會超, 陳永平 申請人:河南鴻昌電子有限公司