專利名稱：呈現(xiàn)極佳的光學(xué)明亮度的切割寶石的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及呈現(xiàn)極佳的光學(xué)明亮度(brilliance)的切割寶石以及制造切割寶石 的方法。具體地，本發(fā)明涉及具有比工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的公主方型(princess cut)鉆石的光學(xué)性能 優(yōu)越的光學(xué)性能的公主方型鉆石以及切割這種鉆石的方法。
背景技術(shù)：
公主方型鉆石為鉆石的第二種最流行的切割形狀，僅次于圓形明亮型切割鉆石。 公主方型鉆石的頂部被切割為方形或矩形形狀，且總體形狀類似于具有四個(gè)斜側(cè)面的倒金 字塔的形狀。公主方型鉆石為相對(duì)新的鉆石切割，其創(chuàng)建于20世紀(jì)70年代。公主方型鉆 石在近年來(lái)廣為流行，作為傳統(tǒng)圓形明亮型切割的較有特色的替代，其中鉆石的頂部(稱 為冠部)切割為圓形，而底部(稱為下部)形成類似圓錐體的尖端。鉆石的主要特性之一是光亮性能。光亮性能級(jí)別越高，鉆石的明亮度和火彩 (fire)越好。光亮性能受切割鉆石上的刻面的數(shù)量、形狀、角度和布置及其它影響。通常的 公主方型鉆石包含49至61個(gè)刻面。但是，即使具有該數(shù)量的刻面，與圓形明亮型切割鉆石 相比，消費(fèi)者常用的通常的公主方型鉆石缺乏火彩(有色光)和明亮度(白光)。此外，公主方型鉆石通常沒(méi)有相同克拉重量的圓形明亮型切割鉆石昂貴，這是因 為與僅保留約50%的未加工鉆石的圓形明亮型切割鉆石相比，公主方型鉆石保留約80% 的原始未加工鉆石。保留較多的晶體重量的能力使得公主方型鉆石在鉆石切割器中受歡 迎。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提高公主方型鉆石的明亮度，使得它們可與理想切割圓形明亮型 鉆石的明亮度和光亮性能匹敵。本發(fā)明的公主方型鉆石包括大致矩形的腰部；冠部，其在第一方向上從腰部延 伸；以及下部，其在與第一方向相反的第二方向上從腰部延伸。公主方型鉆石具有65個(gè)獨(dú) 特布置和成角度的刻面，其中的25個(gè)位于冠部，40個(gè)位于下部。冠部的高度優(yōu)選地在寶石 寬度的9又1/2至13又1/2%之間，寶石的總深度優(yōu)選地在寶石寬度的63-70. 9%之間，而 頂部切平面的寬度優(yōu)選地在寶石寬度的60-68%之間。冠部具有四個(gè)側(cè)面、頂部切平面和四個(gè)斜刻面，每個(gè)斜刻面定位在冠部的一個(gè)相 應(yīng)的角部。冠部的四個(gè)側(cè)面中的每一個(gè)具有從腰部朝向頂部切平面延伸的第一斷層、從第 一斷層朝向頂部切平面延伸的第二斷層、從第二斷層朝向頂部切平面延伸的第三斷層、以 及設(shè)置在第三斷層和冠部的相應(yīng)側(cè)面的每個(gè)角部處的斜刻面之間的一對(duì)星形刻面。
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在優(yōu)選實(shí)施方式中，第一斷層以約35-45度的角度切割，第二斷層以約30-40度的 角度切割，第三斷層以約25-35度的角度切割，并且斜刻面以約20-30度的角度切割。所有 這些角度是相對(duì)于與頂部切平面的表面平行的平面而言的。下部的40個(gè)刻面包括在寶石的每個(gè)相應(yīng)側(cè)面上的四個(gè)下部刻面，在四個(gè)下部刻 面中的每個(gè)之間的主刻面；以及在每個(gè)主刻面和每個(gè)下部刻面之間的四個(gè)V形刻面。優(yōu)選 地，四個(gè)下部刻面每個(gè)相對(duì)于與腰部的面平行的平面成約53-65度的角，而主刻面每個(gè)相 對(duì)于與腰部的面平行的平面成約35-39度的角。在又一實(shí)施方式中，腰部的角部被斜切到下述程度，S卩，不影響寶石的明亮度，且 使得被斜切的斜切部從至少10英寸的距離用肉眼不能觀察到。因此，優(yōu)選地，角部被斜切 到在寶石的任何書(shū)面證書(shū)中不導(dǎo)致標(biāo)記的程度。本發(fā)明的角度和刻面化的獨(dú)特組合產(chǎn)生了無(wú)與倫比的火彩和明亮度。具體而言， 按照寶石鑒定和保證實(shí)驗(yàn)室(GCAL)，本發(fā)明使用獨(dú)特的刻面化和角度實(shí)現(xiàn)了平均94% (“極佳的”)光亮性能。與使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的49-61個(gè)刻面的標(biāo)準(zhǔn)公主方型鉆石不同，本發(fā) 明使用65個(gè)刻面的獨(dú)特組合(冠部25個(gè)，以及下部40個(gè))。


附圖僅用于示意的目的且沒(méi)有必要按比例繪制。但是，本發(fā)明本身可通過(guò)參照結(jié) 合附圖時(shí)給出的詳細(xì)描述而被最好地理解，在附圖中圖1是根據(jù)本發(fā)明的寶石的側(cè)視圖；圖2是圖1中所示的寶石的俯視圖；圖3是圖1的寶石的仰視圖；以及圖4是根據(jù)本發(fā)明的半透明寶石的俯視圖。
具體實(shí)施例方式接下來(lái)參考

本發(fā)明。這些圖用于示意而不是限制，并且在此被包括以便 于解釋本發(fā)明的實(shí)施方式的示例性特征。除非另外注明，否則這些圖沒(méi)有按比例繪制，且無(wú) 意于用作工程圖?，F(xiàn)在參考附圖，圖1是根據(jù)本發(fā)明的切割鉆石1的側(cè)視圖。盡管接下來(lái)的描述涉 及公主方型鉆石，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員容易明白，此處描述的獨(dú)特角度和刻面能適應(yīng)于任
何貴重或次貴重的寶石。如圖1中所示，切割鉆石1包括大致矩形的腰部2、從腰部2向上延伸的冠部3，以 及從腰部2向下延伸的下部4。優(yōu)選地，切割鉆石1具有1 1.05的最大長(zhǎng)寬比，且腰部的 厚度從“薄到厚”。冠部3具有寶石的寬度W的約9又1/2至13又1/2%的高度CH(所有 的百分比是基于寶石寬度W等于100% )。寶石的總深度D約為寶石寬度W的63-70.9%。圖2為示出圖1的切割鉆石的冠部3的俯視圖。如圖2中所示，冠部3包括25個(gè) 具獨(dú)特角度和布置的刻面和斷層(break)。這25個(gè)刻面/斷層包括頂部切平面6、沿冠部 3的每個(gè)相應(yīng)側(cè)面的一組三個(gè)斷層8、10、12、定位在冠部3的每個(gè)相應(yīng)角部處的四個(gè)斜刻面 14，以及設(shè)置在斜刻面14的頂部18和第三斷層12的頂部/中間20之間的一對(duì)星形刻面 16。如圖1中所示，頂部切平面6的寬度TW在寶石寬度W的60-68%之間。
從腰部2開(kāi)始，冠部3被分成三個(gè)單獨(dú)的斷層8、10和12。第一斷層8優(yōu)選地以相 對(duì)于與頂部切平面6的表面平行的平面成約35-45°的角度切割。第二斷層10優(yōu)選地以相 對(duì)于與頂部切平面6的表面平行的平面成約30-40°的角度切割，而第三斷層12優(yōu)選地以 相對(duì)于與頂部切平面6的表面平行的平面成約25-35°的角度切割。冠部3還包括在冠部的每個(gè)角部處的四個(gè)斜刻面14。這些斜刻面14優(yōu)選地以相 對(duì)于與頂部切平面6的表面平行的平面成約20-30° (即，優(yōu)選地比第三斷層12小5° ) 的角度切割。在每個(gè)斜刻面14的頂部18和第三斷層12的頂部/中間20之間設(shè)有一對(duì)星形刻 面16。這些星形刻面16被設(shè)置為關(guān)于冠部對(duì)稱，以實(shí)現(xiàn)“極佳的”光亮性能分級(jí)。這些星 形刻面16的特定形狀、尺寸和相對(duì)于與頂部切平面6的表面平行的平面的角度將取決于正 被切割的寶石的對(duì)稱性和尺寸，且通常延伸并覆蓋從斜刻面14的中心到頂部切平面6的中 心的區(qū)域。給出所有冠部刻面的上述布置，且如圖2中所示，冠部3的每個(gè)相應(yīng)的側(cè)面由兩個(gè) 相應(yīng)的斜刻面14界定和限定。第一斷層8位于這兩個(gè)相應(yīng)的斜刻面14之間并從腰部2朝 向頂部切平面6延伸。第二斷層10也位于這兩個(gè)相應(yīng)的斜刻面14之間并從第一斷層8朝 向頂部切平面6延伸。第三斷層12也位于這兩個(gè)相應(yīng)的斜刻面14之間并從第二斷層10 朝向頂部切平面6延伸。此外，冠部3的每個(gè)相應(yīng)的側(cè)面包括兩個(gè)星形刻面16。第一星形 刻面16設(shè)置在界定并限定了冠部3的側(cè)面的兩個(gè)相應(yīng)的斜刻面中的一個(gè)的頂部18和第三 斷層的頂部/中間20之間。類似地，第二星形刻面16設(shè)置在界定并限定了冠部3的側(cè)面 的兩個(gè)相應(yīng)的斜刻面中的第二個(gè)的頂部18和第三斷層的頂部/中間20之間。另外，優(yōu)選地，切割鉆石的角部22被斜切(削刮)以防止碎裂。這些被斜切的角 部22僅被略微切割，從而不影響或不改變寶石的明亮度或其認(rèn)證。優(yōu)選地，角部被斜切成 使得被斜切的角部從至少10英寸的距離處不能用肉眼察覺(jué)到?，F(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖3，其示出了圖1的切割鉆石1的下部4。下部4包括40個(gè)形成獨(dú)特角 度和布置的刻面。所述40個(gè)刻面包括在切割鉆石1的每個(gè)相應(yīng)側(cè)面上的四個(gè)下部(或半 月形)刻面24。這些下部刻面24優(yōu)選地以相對(duì)于與腰部2的面平行的平面成約53-65° 的角度切割。在四個(gè)下部刻面24中的每一個(gè)之間，設(shè)有主底部刻面26(總共四個(gè)(4)主底部刻 面26)。這些主底部刻面26優(yōu)選地以相對(duì)于與腰部2的面平行的平面成約35-39°的角度 切割。在每一個(gè)主底部刻面26和其相應(yīng)的下部刻面24之間，鉆石被四個(gè)(4)V形刻面28 相等地分割(總共32個(gè)V形刻面)。這些V形刻面28的特定形狀、尺寸和相對(duì)于與腰部2 的面平行的平面的角度將取決于于正被切割的特定寶石的對(duì)稱性和尺寸。現(xiàn)在參考圖4，其中相同的附圖標(biāo)記表示相似的部件，其示出了根據(jù)本發(fā)明的半透 明寶石100的俯視圖。具體地，圖4示出當(dāng)通過(guò)半透明寶石100的冠部觀察時(shí)，冠部3和下 部4的刻面化的獨(dú)特交互作用。實(shí)線示出了冠部3的刻面化，而虛線示出了下部4的刻面 化。本發(fā)明的角度和刻面化的獨(dú)特組合產(chǎn)生了無(wú)與倫比的火彩和明亮度。具體而言， 按照寶石鑒定和保證實(shí)驗(yàn)室(GCAL)，本發(fā)明的獨(dú)特的刻面化和角度的使用和布置實(shí)現(xiàn)了平均94% (“極佳的”)光亮性能。因此，與使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的49-61個(gè)刻面的標(biāo)準(zhǔn)公主方型鉆 石不同，本發(fā)明使用65個(gè)刻面的獨(dú)特組合(冠部25個(gè)，以及下部40個(gè))。
盡管已經(jīng)關(guān)于本發(fā)明的特定實(shí)施方式描述了本發(fā)明，但是對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員， 許多其它變化和修改將變得明顯。因而，本發(fā)明不應(yīng)由此處的具體公開(kāi)內(nèi)容來(lái)限定，而應(yīng)僅 由所附權(quán)利要求限定。例如，盡管關(guān)于切割鉆石描述了本發(fā)明，但是獨(dú)特的角度和刻面化能 同等地應(yīng)用于所有貴重或次貴重的寶石，以實(shí)現(xiàn)提高的明亮度和光亮性能。
權(quán)利要求
一種寶石，包括大致矩形的腰部；冠部，其在第一方向上從所述腰部延伸，所述冠部具有頂部切平面、四個(gè)側(cè)面以及四個(gè)斜刻面，每個(gè)斜刻面定位在所述冠部的一個(gè)相應(yīng)角部處，四個(gè)側(cè)面中的每一個(gè)側(cè)面包括第一斷層，其從所述腰部朝向所述頂部切平面延伸；第二斷層，其從所述第一斷層朝向所述頂部切平面延伸；第三斷層，其從所述第二斷層朝向所述頂部切平面延伸；以及第一星形刻面，其設(shè)置在所述第三斷層和所述四個(gè)斜刻面的第一斜刻面之間；以及第二星形刻面，其設(shè)置在所述第三斷層和所述四個(gè)斜刻面的第二斜刻面之間；以及下部，其在與第一方向相反的第二方向上從所述腰部延伸。
2.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述第一斷層以相對(duì)于與所述頂部切平面的表面平 行的平面成約35° -45°的角度切割。
3.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述第二斷層以相對(duì)于與所述頂部切平面的表面平 行的平面成約30° -40°的角度切割。
4.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述第三斷層以相對(duì)于與所述頂部切平面的表面平 行的平面成約25° -35°的角度切割。
5.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述斜刻面以相對(duì)于與所述頂部切平面的表面平行 的平面成約20° -30°的角度切割。
6.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述第一斷層以相對(duì)于與所述頂部切平面的表面平 行的平面成約35° -45°的角度切割，所述第二斷層以相對(duì)于所述平面成約30° -40°的 角度切割，所述第三斷層以相對(duì)于所述平面成約25° -35°的角度切割，且所述斜刻面以 相對(duì)于所述平面成約20° -30°的角度切割。
7.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述一對(duì)星形刻面延伸并覆蓋從所述斜刻面的中心 到所述頂部切平面的中心的區(qū)域。
8.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述腰部的角部被斜切。
9.如權(quán)利要求8所述的寶石，其中所述角部被斜切成不影響所述寶石的明亮度的程度。
10.如權(quán)利要求8所述的寶石，其中所述角部被斜切使得斜切部用人眼從至少10英寸 的距離不可觀察到。
11.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述寶石具有1 1.05的最大長(zhǎng)寬比。
12.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述冠部的高度在寶石的寬度的9又1/2%至13 又1/2%之間。
13.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述寶石的深度在所述寶石的寬度的63-70.9%之間。
14.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述頂部切平面的寬度在所述寶石的寬度的 60-68%之間。
15.如權(quán)利要求1所述的寶石，其中所述下部包括40個(gè)刻面。
16.如權(quán)利要求15所述的寶石，其中所述40個(gè)刻面包括在所述寶石的每個(gè)相應(yīng)側(cè)面上 的四個(gè)下部刻面、在所述四個(gè)下部刻面的每個(gè)之間的主刻面；以及在每個(gè)所述主刻面和每個(gè)所述下部刻面之間的四個(gè)V形刻面。
17.如權(quán)利要求16所述的寶石，其中所述四個(gè)下部刻面均相對(duì)于與所述腰部的面平行 的平面成約53-65°的角度。
18.如權(quán)利要求16所述的寶石，其中所述主刻面均相對(duì)于與所述腰部的面平行的平面 成約35-39°的角度。
19.一種寶石，包括 大致矩形的腰部；冠部，其在第一方向上從所述腰部延伸，所述冠部具有25個(gè)刻面；以及 下部，其在與所述第一方向相反的第二方向上從所述腰部延伸，所述下部具有40個(gè)刻面。
20.一種公主方型鉆石，包括具有僅65個(gè)刻面的本體。
全文摘要
一種寶石具有65個(gè)獨(dú)特布置和成角度的刻面，其中的25個(gè)刻面位于冠部，40個(gè)刻面位于下部。冠部的高度優(yōu)選地在寶石寬度的9又1/2％至13又1/2％之間，寶石的總深度優(yōu)選地在寶石寬度的63-70.9％之間，而寶石頂部切平面的寬度優(yōu)選地在寶石寬度的60-68％之間。
文檔編號(hào)A44C17/00GK101873813SQ200980101099
公開(kāi)日2010年10月27日 申請(qǐng)日期2009年1月22日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月22日
發(fā)明者赫茲·哈森費(fèi)爾德 申請(qǐng)人:哈森費(fèi)爾德-斯泰因公司