專利名稱：一種地下滴灌壓力補償式滴頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及滴灌設備中的滴頭，尤其涉及一種地下滴灌壓力補償式滴頭。
背景技術(shù)：
目前，地下滴灌是微灌技術(shù)的典型應用形式之一。由于灌水過程中對土壤結(jié)構(gòu)擾動較小，有利于保持作物根層疏松通透的環(huán)境條件，并可減少土面蒸發(fā)損失，故地下滴灌技術(shù)具有明顯的節(jié)水增產(chǎn)效益。地下滴灌常出現(xiàn)的問題主要是它的沿程出水量不夠均勻，一般距離水源遠的地方出水量較??；由于植物根的生長具有向水性，容易導致根侵入滴頭孔引起堵塞。為了保證不同滴頭下各滴頭單位時間內(nèi)滴水量基本一致和抗根侵技術(shù)，目前人們研制不同形式的補償?shù)晤^。當水壓大時，水流速度快，但流道進水口截面積?。划斔畨盒r，水流速度慢，但流道進水口截面積相對較大，這樣就可有效保證在不同滴頭單位時間內(nèi)的滴頭滴水量基本相同，從而實現(xiàn)壓力和流量的補償。如何防止植物根侵造成堵塞一直是 國內(nèi)外學者研究的難點和熱點。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種具有較好壓力補償性能、抗根侵、出水均勻性能好的地下滴灌壓力補償式滴頭。為解決上述問題，本實用新型所述的一種地下滴灌壓力補償式滴頭，包括位于滴頭上蓋和滴頭下蓋之間的硅膠片；所述滴頭上蓋設有一端設有出水口的流道；所述滴頭下蓋設有進水口，其特征在于所述出水口處設有銅片。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點I、由于本實用新型中設有銅片，而銅是植物生命活動所需的微量元素，每種植物對銅的需求均在一定的范圍內(nèi)，低濃度銅促進植物生長，高濃度銅對植物造成一定的傷害，表現(xiàn)為抑制作用，因此，利用重金屬脅迫對植物傷害的作用原理，將銅作用于根系抑制根系的生長，起到保護滴頭不被根系堵塞的目的。植物生長過程中，根系的不同部位分泌或溢泌一些無機離子及有機化合物，這些物質(zhì)統(tǒng)稱為根系分泌物。分泌物中含有大量多種有機酸，有機酸與銅片接觸反應釋放出銅離子。銅片滴頭工作原理為植物根系自然分泌有機酸，有機酸可以使銅片從接觸面上分離出銅離子。根尖生長受到銅離子的抑制作用，阻止侵入滴頭的根系生長。根尖銅離子不會影響植物其它部位的生長，讓植物其它部分健康生長。2、由于本實用新型中設有硅膠片，且硅膠片具有一定的彈性，因此，當水壓發(fā)生變化時，通過硅膠片與滴頭上蓋之間的流道作用調(diào)節(jié)流量，即當水壓增大時，硅膠片與流道的作用力大，流道面積減少，出水量減少；當水壓減少時，流道面積增大，出流量增加；從而保證出水均勻性能好。

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以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細的說明。圖I為本實用新型的裝配圖。圖中I一滴頭下蓋2—進水口 3—娃膠片 4一滴頭上蓋5—出水口 6—流道7—銅片。
具體實施方式
如圖I所示，一種地下滴灌壓力補償式滴頭，包括位于滴頭上蓋4和滴頭下蓋I之間的硅膠片3。滴頭上蓋4設有一端設有出水口 5的流道6，出水口 5處設有銅片7 ;滴頭 下蓋I設有進水口 2。工作原理水流通過滴頭下蓋I中的進水口 2進入滴頭,通過滴頭上蓋4的流道6后，由出水口 5流出。
權(quán)利要求1.一種地下滴灌壓力補償式滴頭，包括位于滴頭上蓋(4)和滴頭下蓋(I)之間的硅膠片(3 );所述滴頭上蓋(4 )設有一端設有出水口( 5 )的流道(6 );所述滴頭下蓋(I)設有進水口(2)，其特征在于所述出水口(5)處設有銅片(7)。
專利摘要本實用新型涉及一種地下滴灌壓力補償式滴頭，包括位于滴頭上蓋和滴頭下蓋之間的硅膠片；所述滴頭上蓋設有一端設有出水口的流道；所述滴頭下蓋設有進水口，其特征在于所述出水口處設有銅片。本實用新型利用重金屬脅迫對植物傷害的作用原理，將銅作用于根系抑制根系的生長，起到保護滴頭不被根系堵塞的目的，同時具有較好壓力補償性能、出水均勻性能好。
文檔編號A01G25/02GK202524845SQ2012200454
公開日2012年11月14日 申請日期2012年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月13日
發(fā)明者安勝鑫, 戰(zhàn)國隆, 茹作崇, 門旗 申請人:甘肅大禹節(jié)水集團股份有限公司