技術(shù)編號(hào)：8042701
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種照射裝置，在半導(dǎo)體元件及液晶基板的制造工序中，適合用于晶片及玻璃基板等基板的干式清潔。背景技術(shù)在半導(dǎo)體元件及液晶基板的制造工序中，進(jìn)行硅晶片及玻璃基板等基板的表面上附著的有機(jī)化合物等的除去處理，作為該有機(jī)化合物等的除去處理方法，不使用水及有機(jī)溶劑等的干式清潔法被廣泛利用。作為這種干式清潔法，已知光清潔法，通過對(duì)被處理體的表面照射波長(zhǎng)200nm以下的真空紫外線，由此將該被處理體的表面上附著的有機(jī)化合物分解，并且通過臭氧等活性氧進(jìn)行氧化除去(參照專利文獻(xiàn)1)；以及等離子清潔法，在大氣壓附近的壓力下...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。