技術(shù)編號(hào)：6248915
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明創(chuàng)造提供，該檢測(cè)方法首先通過化學(xué)機(jī)械拋光的方法制備8英寸拋光片；然后通過X熒光光譜儀檢測(cè)硅拋光片中的痕量元素并進(jìn)行數(shù)據(jù)分析；最終得出各痕量元素的種類和含量。本發(fā)明創(chuàng)造具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是采用半導(dǎo)體制造技術(shù)企業(yè)常用設(shè)備全反射X熒光光譜儀對(duì)8英寸拋光片痕量元素，不需要復(fù)雜的樣品前期處理過程，測(cè)定步驟簡(jiǎn)單，高效快速，檢測(cè)結(jié)果準(zhǔn)確度高，有著廣闊的應(yīng)用前景。專利說明 [0001]本發(fā)明創(chuàng)造屬于半導(dǎo)體制造，尤其是涉及。 背景技術(shù) [0002]伴隨著半...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。