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有機(jī)抗反射的涂層聚合物、包含所述聚合物的抗反射的涂料組合物以及其制備方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3736429

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防止較低膜層的背反射以及消除在通過(guò)使用193nm ArF使用用于平版印刷術(shù)的光致抗蝕劑的制造超細(xì)圖案的方法中由于光致抗蝕劑厚度的變化和光的結(jié)果出現(xiàn)的駐波的有機(jī)抗反射的聚合物及其制備方法已經(jīng)被公開(kāi)。更具體地講,公開(kāi)了可用于制造64M、256M、1G和4G DRAM半導(dǎo)體器件的超細(xì)圖案的有機(jī)抗反射的聚合物。也公開(kāi)了含有這種有機(jī)抗反射聚合物的組合物、由其制得的抗反射涂層及其制備方法。背景技術(shù) 的描述在用于制備半導(dǎo)體器件的超細(xì)圖案的制造方法中,由于晶片上較低膜層的...
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