技術(shù)編號(hào)：11100420
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件制造設(shè)備，即離子注入機(jī)，特別是一種引出電極驅(qū)動(dòng)裝置，屬半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域。背景技術(shù)隨著集成電路工藝技術(shù)的提高，對(duì)離子注入設(shè)備提出了更高的要求，離子注入元素的種類更多，離子注入設(shè)備的應(yīng)用范圍更廣，其可應(yīng)用于各種材料改性、半導(dǎo)體器件制造以及大功率器件如SiC電子器件制造等領(lǐng)域，并要求離子注入設(shè)備自動(dòng)化程度較高，操作簡(jiǎn)單方便，工作穩(wěn)定。現(xiàn)有的引出電極驅(qū)動(dòng)裝置可實(shí)現(xiàn)大部分離子元素的引出，其運(yùn)動(dòng)密封方式大多采用滑動(dòng)密封，本引出電極驅(qū)動(dòng)裝置采用焊接波紋管連接密封方式，具有運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)可靠，真...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。