一種可視化系統(tǒng)及工藝腔室的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開(kāi)的實(shí)施方式通常涉及用于基板(諸如半導(dǎo)體基板)的掩模和對(duì)準(zhǔn)裝置與操作。
【背景技術(shù)】
[0002]在諸如OLED平板的基板上的沉積工藝期間，掩?？杀环胖迷诔练e源與基板之間以防止在基板上的選定位置中的材料沉積。隨著裝置幾何形狀持續(xù)縮小，精確掩模定位和對(duì)準(zhǔn)變得對(duì)于促進(jìn)基板表面上的準(zhǔn)確沉積日益重要。然而，現(xiàn)存的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)可能不具有實(shí)現(xiàn)下一代裝置所需的準(zhǔn)確度。
[0003]因此，存在對(duì)于改進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)裝置和方法的需要。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本公開(kāi)通常涉及相對(duì)于基板對(duì)準(zhǔn)掩模的裝置和方法。在一個(gè)實(shí)施方式中，用于對(duì)準(zhǔn)的可視化系統(tǒng)包括雙光源。雙光源包括用于觀察基板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一光源，和用于觀察掩模上的掩模開(kāi)口或其他對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第二光源?？砂l(fā)生第一光源和第二光源之間的切換以促進(jìn)掩模相對(duì)于基板的對(duì)準(zhǔn)?？梢暬到y(tǒng)也可在Z軸上致動(dòng)以當(dāng)成像掩模時(shí)將可視化系統(tǒng)聚焦，從而促進(jìn)由于掩模整修或影響掩模尺寸的其他因素的相距原始或默認(rèn)位置的掩模位移的確定。
[0005]在一個(gè)實(shí)施方式中，可視化系統(tǒng)包含:第一光源，具有環(huán)狀;第二光源，適合于導(dǎo)引光通過(guò)第一光源的中心;透鏡，定位在第一光源和攝像機(jī)之間，所述攝像機(jī)導(dǎo)引通過(guò)第一光源的中心且適合于通過(guò)透鏡捕獲圖像。
[0006]在另一實(shí)施方式中，工藝腔室包含:基板支撐件，定位在工藝腔室的主體之內(nèi)；一個(gè)或多個(gè)運(yùn)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)元件，用于支撐在所述運(yùn)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)元件上的掩模;和可視化系統(tǒng)，被定位以檢測(cè)掩模與支撐在所述基板支撐件上的基板的對(duì)準(zhǔn)，可視化系統(tǒng)，包含:第一光源，具有環(huán)狀;第二光源，適合于導(dǎo)引光通過(guò)第一光源的中心;透鏡，定位在第一光源和攝像機(jī)之間，所述攝像機(jī)導(dǎo)弓I通過(guò)第一光源的中心且適合于通過(guò)透鏡捕獲圖像。
[0007]在另一實(shí)施方式中，一種處理基板的方法包含:將基板定位在工藝腔室中的基板支撐件上，所述基板相鄰掩模定位;使用可視化系統(tǒng)的攝像機(jī)將基板相對(duì)于掩模對(duì)準(zhǔn)，其中所述掩模先前已經(jīng)受整修;垂直地致動(dòng)攝像機(jī)以將攝像機(jī)聚焦在掩模上，其中在聚焦期間的攝像機(jī)的垂直距離的變化對(duì)應(yīng)于由于整修的掩模位置或厚度中的變化；以及將掩模布置在基板上。
【附圖說(shuō)明】
[0008]因此，以可詳細(xì)地理解本公開(kāi)的上述特征的方式，可參考實(shí)施方式獲得上文簡(jiǎn)要概述的本公開(kāi)的更特定描述，所述實(shí)施方式中的一些實(shí)施方式在附圖中示出。然而，應(yīng)注意，附圖僅示出示例性實(shí)施方式且因此不將附圖視為限制本公開(kāi)的范疇，因?yàn)楸竟_(kāi)可允許其他同等有效的實(shí)施方式。
[0009]圖1A是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的化學(xué)氣相沉積裝置的示意橫截面圖。
[0010]圖1B是圖1A中所示的裝置的一部分的擴(kuò)大示意圖。
[0011 ]圖2A是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的可視化系統(tǒng)的示意圖。
[0012]圖2B是如圖2A中所示的可視化系統(tǒng)的一部分的俯視圖。
[0013]圖3是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的掩模和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的示意等距視圖。
[0014]圖4是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的遮蔽框的底視圖。
[0015]圖5是用于對(duì)準(zhǔn)掩模的方法的流程圖。
[0016]圖6A至圖6D示出在對(duì)準(zhǔn)操作期間的掩模的局部視圖。
[0017]圖7A至圖7C示出使用本公開(kāi)的視覺(jué)系統(tǒng)的測(cè)量可重復(fù)性的圖形。
[0018]圖8示出通過(guò)本公開(kāi)的可視化系統(tǒng)執(zhí)行的焦點(diǎn)測(cè)量的圖形。
[0019]為了便于理解，在可能的情況下，已使用相同元件符號(hào)來(lái)指定對(duì)諸圖共用的相同元件。可以預(yù)期，一個(gè)實(shí)施方式的元件和特征可有利地并入其他實(shí)施方式中而無(wú)需進(jìn)一步敘述。
【具體實(shí)施方式】
[0020]本公開(kāi)通常涉及相對(duì)于基板對(duì)準(zhǔn)掩模的裝置和方法。在一個(gè)實(shí)施方式中，用于對(duì)準(zhǔn)的可視化系統(tǒng)包括雙光源。雙光源包括用于觀察基板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一光源，和用于觀察掩模上的掩模開(kāi)口或其他對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第二光源?？砂l(fā)生第一光源和第二光源之間的切換以促進(jìn)掩模相對(duì)于基板的對(duì)準(zhǔn)?？梢暬到y(tǒng)也可在Z軸上致動(dòng)以當(dāng)成像掩模時(shí)將可視化系統(tǒng)聚焦，從而促進(jìn)由于掩模整修或影響掩模尺寸的其他因素的相距原始或默認(rèn)位置的掩模位移的確定。
[0021 ] 圖1是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposit1n;CVD)裝置100的示意橫截面圖。裝置100包括腔室主體102，所述腔室主體102具有通過(guò)一個(gè)或多個(gè)壁的開(kāi)口 104，以允許一個(gè)或多個(gè)基板106和掩模108被插入到腔室主體102中。在處理期間，基板106被布置在與擴(kuò)散器112相對(duì)的基板支撐件110上。擴(kuò)散器112具有通過(guò)所述擴(kuò)散器形成的一個(gè)或多個(gè)開(kāi)口 114，以允許處理氣體進(jìn)入界定在擴(kuò)散器112和基板106之間的處理空間 116 0
[0022]對(duì)于處理，掩模108被初始地通過(guò)開(kāi)口 104插入到裝置100中，且被布置在多個(gè)運(yùn)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)元件118A至118D(示出了兩個(gè)運(yùn)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)元件)上?；?06隨后被通過(guò)開(kāi)口 104插入且布置在貫穿基板支撐件110的多個(gè)升舉銷(xiāo)120上。隨后，基板支撐件110升高以靠近基板106，以便基板106被布置在基板支撐件110上。
[0023]一旦基板106被布置在基板支撐件110上，一個(gè)或多個(gè)可視化系統(tǒng)122確定掩模108是否在基板106之上適當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn)。如果掩模108沒(méi)有適當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn)，那么對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)396的一個(gè)或多個(gè)致動(dòng)器124(如圖3中所示)移動(dòng)一個(gè)或多個(gè)運(yùn)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)元件118A至118D以調(diào)整掩模108的位置。一個(gè)或多個(gè)可視化系統(tǒng)122隨后再檢查掩模108的對(duì)準(zhǔn)。
[0024]一旦掩模108在基板106之上適當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn)，那么掩模108被降低至基板106上，且隨后基板支撐件110升高桿126，直到遮蔽框128接觸掩模108為止。在被擱在掩模108上之前，遮蔽框128被布置在腔室主體102中的突出部130上，所述突出部130從腔室主體102的一個(gè)或多個(gè)內(nèi)壁延伸?；逯渭蘒1繼續(xù)上升，直到基板106、掩模108和遮蔽框128被布置在與擴(kuò)散器112相對(duì)的處理位置中為止。然后，處理氣體被從一個(gè)或多個(gè)氣體源132傳遞通過(guò)在背板134中形成的開(kāi)口，同時(shí)將偏壓提供到擴(kuò)散器112。
[0025]為了將掩模108在基板106之上適當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn)，可視化系統(tǒng)122通過(guò)從多個(gè)光源(如圖3中所示)朝向基板106和掩模108導(dǎo)引光來(lái)操作。掩模108和基板106的照明促進(jìn)形成在基板106上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記138(諸如，基準(zhǔn)標(biāo)記)相對(duì)于通過(guò)掩模108形成的開(kāi)口 140的定位。當(dāng)通過(guò)基板支撐件110觀察對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記138時(shí)，一個(gè)或多個(gè)可視化系統(tǒng)122將觀察遮蔽框128以及掩模108的開(kāi)口 140的邊界。遮蔽框128和掩模108可由陽(yáng)極化鋁制造。然而，因?yàn)殛?yáng)極化鋁具有灰色，所以一個(gè)或多個(gè)可視化系統(tǒng)122可能具有相對(duì)于遮蔽框128和掩模108觀察對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記138的困難。因此，可視化系統(tǒng)122可被改進(jìn)以在對(duì)準(zhǔn)操作期間清楚地觀察對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記138、掩模開(kāi)口 140和遮蔽框128，如根據(jù)第4圖進(jìn)一步說(shuō)明。
[0026]圖1B是圖1A中所示的裝置100的一部分的擴(kuò)大示意圖。如圖1B中所示，基板支撐件110包括通過(guò)基板支撐件110以容納升舉銷(xiāo)120的第一組開(kāi)口，和用于對(duì)準(zhǔn)元件118A至118D經(jīng)由基板支撐件110延伸的第二組開(kāi)口。開(kāi)口 136也存在于對(duì)應(yīng)于對(duì)準(zhǔn)可視化系統(tǒng)122操作的位置處。應(yīng)將理解，對(duì)準(zhǔn)可視化系統(tǒng)122可被布置在裝置100之外且利用一個(gè)或多個(gè)可視化元件(諸如攝像機(jī)、照明元件、透鏡，和/或窗口)以觀察到裝置100中。對(duì)準(zhǔn)可視化系統(tǒng)122通過(guò)導(dǎo)引在由箭頭“A”所示的方向中的數(shù)個(gè)光源通過(guò)在基板支撐件110中形成的開(kāi)口 136、通過(guò)基板106、通過(guò)在掩模108中形成的開(kāi)口 140，且導(dǎo)引所述數(shù)個(gè)光源在遮蔽框128上的對(duì)準(zhǔn)位置144處來(lái)操作。對(duì)準(zhǔn)可視化系統(tǒng)122通過(guò)執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)測(cè)量和位置校正促進(jìn)在通過(guò)掩模108形成的開(kāi)口 140之內(nèi)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記138的居中定位。
[0027]圖2A是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的可