專利名稱：用于向板涂料的方法和裝置的制作方法
根據(jù)各獨(dú)立權(quán)利要求的前序部分本發(fā)明涉及用于向板涂料的一種方法和一種裝置。
有效而快速地向板涂澆注的材料越來越重要，尤其對(duì)印刷電路板單面或雙面涂料例如涂釬焊材料更是如此。為此，例如使用了廣泛公知的澆注簾方法，其基本的操作方式在EP-A-0 022 040中并在許多其它保護(hù)的權(quán)利中得到描述。澆注簾方法基本通過在一澆口下傳送要涂料的板(例如上述印刷電路板)而進(jìn)行。澆口垂直于正在涂料的板的傳送方向設(shè)置。澆注的材料(例如釬焊抗蝕劑)以澆注簾的方式從澆口降下并基本沿垂直于傳送方向的一條直線落在位于澆口之下的板上，而板同時(shí)在傳送。板通過澆注簾并在其下的連續(xù)傳送使整個(gè)板可以涂上澆注的材料。
此方法工作十分有效，而且它與其幾種變化用在向印刷電路涂料的印刷電路板制造工業(yè)中。因?yàn)榫哂谐善贩浅Ｐ〉内厔?shì)以及印刷電路板在每個(gè)成品中非常少和小的趨勢(shì)，在兩側(cè)上印刷的電路板已大量地使用以及在很多場(chǎng)合是標(biāo)準(zhǔn)的。這種在兩側(cè)上印刷的電路板通常具有所謂的貫穿鍍層。
當(dāng)正在對(duì)這種印刷電路板涂料時(shí)，澆注簾以及澆注的材料還自然落在設(shè)有這種貫穿鍍層的板的區(qū)域上。結(jié)果，在板的另一側(cè)上以及在它們自己的貫穿鍍層中形成所謂的“涂料團(tuán)”，它必須通過相應(yīng)漫長而麻煩的沖洗去除。此外，當(dāng)板使用常規(guī)的澆注簾方法涂料時(shí)，澆注的材料沿澆注簾的沖擊線以及沿整個(gè)板的寬度在板上的分布不總是非常均勻。
相應(yīng)地，本發(fā)明的目的是提供用于向板涂料、尤其用于向印刷電路板涂例如釬焊抗獨(dú)劑的一種方法和一種裝置，其中上述缺點(diǎn)不再出現(xiàn)或只存在很小的程度。
至于此方法，本發(fā)明的目的如下獲得下降的澆注簾在落在板上之前以形成在偏致表面和澆注簾的平面之間的角度落在一平面的偏致表面上，以形成在偏致表面和澆注簾的平面之間的角度，此偏致表面在其下端有一截止邊，使得澆注的材料在落在偏致表面上后向下沿此偏致表面向截止邊行進(jìn)并落在板上。結(jié)果，例如當(dāng)印刷電路板正在涂釬焊材料時(shí)，可以避免或大小減少在印刷電中板另一側(cè)上或在貫穿鍍層中形成的涂料團(tuán)。結(jié)果，使得隨后的仍然形成的涂料團(tuán)的清洗不再麻煩。此外，澆注的材料的分布即例如釬焊材料的分布沿板上的沖擊線并沿整個(gè)板的寬度則十分均勻。
在本方法的一優(yōu)選變化形式中，形成在偏致表面的平面和澆注簾的平面之間的角度在14°至16°的范圍中并尤其約為15°。結(jié)果，可以取得特別好的只形成少量涂料團(tuán)以在板的寬度范圍上澆注的材料分布特別均勻的效果。
在另一優(yōu)選變化形式中，在截止邊的平面和垂直于偏致表面的平面之間形成一個(gè)銳角。此措施同樣可以取得只形成少量涂料團(tuán)以及在板的寬度范圍上澆注的材料分布均勻的特別好的效果。
在此方法變化形式的一特別優(yōu)選改進(jìn)方式中，形成在截止邊和垂直于偏致表面的平面之間的角度在30°至45°的范圍中并尤其約為30°。
在此方法的進(jìn)一步的變化中，從截止邊降到板上的澆注的材料從40mm至65mm的高度落到正在涂料的板上。結(jié)果本發(fā)明方法的上述優(yōu)點(diǎn)進(jìn)一步得到增強(qiáng)。
至于所述裝置，本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的在澆口之下設(shè)置一偏致表面，它在其下端具有一截止邊并設(shè)置成在偏致表面和澆注簾的平面之間形成一銳角而且從澆口向正在涂料的板降下的澆注簾落在偏致表面上，結(jié)果澆注的的材料在落到偏致表面上后沿此偏致表面向截止邊行進(jìn)并隨后降至板上。這樣一種裝置的優(yōu)點(diǎn)相應(yīng)于上述本發(fā)明方法的優(yōu)點(diǎn)。
在本發(fā)明裝置的一優(yōu)選實(shí)施例中，形成在偏致表面的平面與澆注簾的平面之間的角度在14°至16°的范圍中并尤其約為15°。結(jié)果，可以取得只形成少量涂料團(tuán)以及在板寬度范圍內(nèi)澆注的材料分布均勻的特別好的效果。
在本發(fā)明裝置的一進(jìn)一步的優(yōu)選實(shí)施例中，在截止邊的平面和垂直于偏致表面的平面的一平面之間形成一銳角。此措施同樣可以取得只形成少量涂料團(tuán)并在板整個(gè)寬度范圍內(nèi)澆注的材料分布均勻的特別好的效果。在本發(fā)明裝置此實(shí)施例的一優(yōu)選變化形式中，形成在截止邊和垂直于偏致表面的平面之間的角度在30°和45°的范圍中并尤其約為30°。結(jié)果本發(fā)明方法的上述優(yōu)點(diǎn)進(jìn)一步得到增強(qiáng)。
在本發(fā)明裝置的進(jìn)一步的優(yōu)選實(shí)施例中，截止邊相距正在澆口下傳送的板的平面40mm和65mm的距離設(shè)置。結(jié)果本發(fā)明方法的上述優(yōu)點(diǎn)進(jìn)一步得到增強(qiáng)。
在本發(fā)明裝置的進(jìn)一步的優(yōu)選實(shí)施例中，偏致表面構(gòu)造成為一擋板的一部分，擋板設(shè)在澆口下但與澆口相連。此實(shí)施例使此裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單并不需要使偏致表面相對(duì)于澆注簾進(jìn)行特別的安裝或?qū)R，因?yàn)槠卤砻婵偸桥c澆口一同設(shè)置并且由于它同澆口相連，因此偏致表面自動(dòng)與澆注簾對(duì)齊。
下面參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明，其中

圖1示出了用于向例如印刷電路板涂例如釬焊抗蝕劑的本發(fā)明裝置的基本部件的一實(shí)施例；圖2示出偏致表面的一實(shí)施例的一側(cè)視圖；而圖3示出向例如印刷電路板兩面涂例如釬焊抗蝕劑的一設(shè)備的一實(shí)施例。
圖1示出本發(fā)明裝置基本部件的一實(shí)施例?？梢钥匆娨粷部?，其中澆注材料如釬焊抗蝕劑L容裝在一容器10中。澆口在其下側(cè)有一槽形11的出口，通過此出口釬焊抗蝕劑L可以流出此容器并以澆注簾LV的形式落下。在澆口1下設(shè)有一平面的偏致表面20，在圖1中此表面20是一擋板2的一部分。此擋板2連在澆口1上。圖1還示出了兩個(gè)澆注葉片3，葉片起在側(cè)面限制澆注簾LV的作用而且每個(gè)葉片具有一導(dǎo)流槽口30。還示出一板4，板4在澆口1下在箭頭T方向中傳送。
此實(shí)施例的操作方式如下進(jìn)行通過槽11(出口)流出澆口1的容器10的釬焊抗蝕劑首先以簾狀下降至擋板2的偏致表面20上并沿此偏致表面20向下行進(jìn)直到到達(dá)偏致表面20下端的截止邊21。從這里，釬焊抗蝕劑以澆注簾LV的形式下降。在兩個(gè)澆注葉片3之間的區(qū)域中，澆注簾LV基本沿一沖擊線落在板4(例如一印刷電路板)上，而此區(qū)域外的釬焊抗蝕劑澆注簾LV進(jìn)入導(dǎo)流槽口30，在此它可以被接收并送至一收集槽(未示出)，以此槽接收到的釬焊抗蝕劑要么排干，或者要么重新處理并回到注口1的容器10中(圖3)。
圖2示出擋板2的一側(cè)視圖。可以看見在偏致表面20和澆注簾的平面之間形成一銳角α，其中澆注簾的平面在此由一相應(yīng)的垂線LV′表示。角度α在14°至16°之間并最好約15°。在偏致表面20的下端示出一截止邊21。在截止邊21的平面和垂直于偏致表面20的一平面之間形成一銳角β。角度β在30°至45°之間并最好約30°。通過使用這種裝置，在板4的另一側(cè)上或貫穿鍍層中的涂料團(tuán)如上所述可以完全避免或在很大程度上減少以致于可以不用麻煩地隨后進(jìn)行這種團(tuán)塊的沖洗。但總之，可以在板4整個(gè)寬度上也就是說沿板4上的澆注簾LV的沖擊線獲得非常均勻分布的釬焊抗蝕劑。
在圖1和圖2的此裝置的一實(shí)施例中，擋板2設(shè)置在澆口1下并與其相連，角度α為15°而β為30°。偏致表面20的長度m為42mm，而沿此表面澆注的材料向截止邊21行進(jìn)。截止邊21設(shè)置在距板4平面之上約6cm的高度h(圖2)。在通過截止邊21后，澆注簾L則通過高度h降至板4上，板4具有如寬度b為58cm而長度1為60cm。板4以約為1.5m/s的速度在澆注簾LV之下通過，這例如將使得板涂上濕重約為116.6g/m2(＝7g/0.06m2)的涂料。
圖3示出用于對(duì)印刷電路板兩面涂上釬焊抗蝕劑的設(shè)備的實(shí)施例。如圖示出用于未涂料的板的一入口軌道E，板在一預(yù)熱站5中以最適于相應(yīng)的板材料和相應(yīng)的澆注的材料的溫度進(jìn)行預(yù)熱。于是板進(jìn)行預(yù)熱然后根據(jù)參照?qǐng)D1所述的澆注簾方法在一第一涂料站6中進(jìn)行涂料。涂料站6之后為一干燥站7，其中一側(cè)已涂料的板進(jìn)行干燥并同時(shí)翻轉(zhuǎn)，這樣此板的另一側(cè)可以在隨后的一第二涂料站8中根據(jù)參照?qǐng)D1所述的澆注簾方法進(jìn)行涂料。此板隨后在到達(dá)一出口軌道A之前在另一干燥站9中再進(jìn)行干燥。這樣兩側(cè)都進(jìn)行了涂料的此板就可以送至進(jìn)一步的處理階段，例如澆注的材料可以進(jìn)行曝光，曝光后在最終裝備隨后釬焊入的部件之前進(jìn)行沖洗。此外，圖3還示出多個(gè)用于向干燥站和預(yù)熱站提供和排出空氣的通風(fēng)組件。這些通風(fēng)組件順序設(shè)在第一涂料站6和第二涂料站8之上，一方面可以節(jié)省空間，另一方面可以使涂料線路完全封閉起來。但是為了在操作過程中可以觀察到涂料站6和8，涂料站6和8的側(cè)壁可以是透明的，尤其是由有機(jī)玻璃制成。
澆口1的槽11可以調(diào)整以控制將排出的材料的量。
權(quán)利要求
1.一種用于對(duì)板(4)涂澆注的材料(L)、尤其用于對(duì)印刷電路板涂釬焊抗蝕劑的方法，其中要涂料的板(4)通過一澆注材料簾并在其下傳送，澆注材料簾垂直于傳送方向下降且澆注的材料以一澆注簾(LV)的形式下降從而落至板(4)之上，其中下降的澆注簾(LV)在落至板(4)之上之前落在一平面的偏致表面(20)上，在偏致表面(20)和澆注簾(LV)的平面之間形成一銳角(α)，此偏致表面(20)在其下端有一截止邊(21)，結(jié)果澆注的材料在落至偏致表面(20)上之后沿此偏致表面(20)向下向截止邊(21)行進(jìn)并然后降在板(4)上。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在偏致表面的平面和澆注簾的平面之間形成的角度(α)在14°至16°的范圍中并尤其約為15°。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，銳角(β)形成在截止邊(21)的平面和垂直于偏致表面(20)的一平面之間。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，形成在截止邊(21)和垂直于偏致表面(20)的平面之間的角度(β)在30°至45°的范圍中并尤其約為30°。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，從截止邊降到板(4)之上的澆注的材料從40mm至約65mm的高度(h)落在正在涂料的板(4)上。
6.一種用于對(duì)板(4)涂澆注的材料(L)、尤其用于對(duì)印刷電路板涂釬焊抗蝕劑的設(shè)備，具有用于在澆口(1)之下傳送板(4)的傳送裝置，注口(1)設(shè)在正在傳送的板的平面之上并垂直于板(4)的傳送方向，而且為了對(duì)板(4)進(jìn)行涂料，從此澆口(1)澆注的材料以澆注簾(LV)的形式降下，當(dāng)板在澆口(1)下傳送時(shí)澆注的材料落在正在涂料的板上，其中，在澆口(1)之下設(shè)有一偏致表面(20)，偏致表面(20)在其下端設(shè)有一截止邊(21)而且設(shè)置成在偏致表面(20)和澆注簾(LV)的平面之間形成一銳角(α)，并且從澆口(1)向正在涂料的板(4)降下的澆注簾(LV)落在偏致表面(20)上，結(jié)果澆注的材料在落在偏致表面(20)上之后沿此偏致表面(20)向截止邊(21)行進(jìn)并隨后降在板(4)上。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，形成在偏致表面(20)的平面和澆注簾(LV)的平面之間的角度(α)在14°至16°的范圍中并尤其約為15°。
8.如權(quán)利要求6或7所述的裝置，其特征在于，銳角(β)形成在截止邊(21)的平面和垂直于偏致表面(20)的平面的一平面之間。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，形成在截止邊(21)和垂直于偏致表面(20)的平面之間的角度(β)在30°至45°的范圍中并尤其約為30°。
10.如權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，截止邊(21)以40mm至65mm的高度(h)與在澆口(1)之下正在傳送的板(4)的平面相距設(shè)置。
11.如權(quán)利要求6至10中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，偏致表面(20)構(gòu)造成為一擋板(2)的一部分，擋板(2)設(shè)在澆口(1)之下并與注口(1)相連。
全文摘要
一種用于對(duì)板(4)涂澆注的材料(L)、尤其用于對(duì)印刷電路板涂釬焊抗蝕劑的方法,其中要涂料的板(4)通過一澆注材料簾并在其下傳送,澆注材料簾垂直于傳送方向下降且澆注的材料以一澆注簾(LV)的形式下降從而落至板(4)之上,下降的澆注簾在落至板(4)之上之前落在一平面的偏致表面(20)上,在偏致表面(20)和澆注簾(LV)的平面之間形成一銳角(α),此偏致表面(20)在其下端有一截止過(21),結(jié)果澆注的材料在落至偏致表面(20)上之后沿此偏致表面(20)向下向截止過(21)行進(jìn)并然后降在板(4)上。
文檔編號(hào)H05K3/00GK1240567SQ97180684
公開日2000年1月5日 申請(qǐng)日期1997年12月8日 優(yōu)先權(quán)日1997年12月8日
發(fā)明者漢斯－格奧爾格·比洛, 黛安娜·尼澤爾 申請(qǐng)人:希巴特殊化學(xué)控股公司