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垂直型基板剝離裝置制造方法

文檔序號:8071514閱讀:121來源:國知局
垂直型基板剝離裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及印刷電路板(PCB)的制造工序中在進行曝光后用藥液清除固化部分的剝離技術(shù),所提供的垂直型基板剝離裝置相關(guān)技術(shù)因在剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板的過程中將藥液噴射于基板來執(zhí)行剝離工序,可以在進行連續(xù)性的剝離作業(yè)的同時縮短剝離工序所消耗的時間,并以垂直狀態(tài)移送基板的同時通過噴射藥液來進行剝離,從而能進一步提高工序生產(chǎn)率,本發(fā)明的實施例的主要構(gòu)成包括:由封閉形態(tài)的剝離室和在所述剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板的搬運裝置、在所述剝離室給垂直移送的基板均勻噴射藥液的噴射裝置、搜集在所述剝離室的內(nèi)部空間給基板噴射的藥液,將藥液泵送到噴射裝置的泵送裝置。
【專利說明】垂直型基板剝離裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及印刷電路板(PCB)的制造工序中在進行曝光后用藥液清除固化部分的 剝離技術(shù)。具體來講,由封閉形態(tài)的剝離室和在所述剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板的搬 運裝置、在所述以垂直狀態(tài)移送的基板上均勻噴射藥液的噴射裝置、給所述噴射裝置泵送 藥液的泵送裝置組成。該垂直型基板剝離裝置(Vertical Substrate detachment system) 在剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板的過程中將藥液噴射于基板來執(zhí)行剝離工序,可以在進 行連續(xù)性的剝離作業(yè)的同時縮短剝離工序所消耗的時間,并在以垂直狀態(tài)移送基板的同時 通過噴射藥液來進行剝離,從而能夠進一步提高工序生產(chǎn)率。

【背景技術(shù)】
[0002] -般而言,印刷電路板(PCB)是電氣、電子產(chǎn)品最為基礎(chǔ)的零部件,在生活當中廣 泛適用于IXD TV、DVD、計算機、筆記本電腦、數(shù)碼相機及Mobile phone、PDA、MP3等電氣、電 子產(chǎn)品。隨著數(shù)字方式的飛速發(fā)展和半導(dǎo)體開發(fā)的尖端化,以小型化、高密度及高性能,印 刷電路板的應(yīng)用度越來越廣。
[0003] 這種印刷電路板(PCB)的制造工序基本上包括曝光(Inner Later Exposing)、DF 顯像(Dry Film Developing)、蝕刻(Etching)、剝離(Stripping)工序,曝光是形成電路的 工序,在Core表面進行鍍膜的LPR INK上包上曝光用Film后照射UV,將必要的部分(被UV 照射的LPR INK)進行光固化的工序。
[0004] 所述DF顯像工序是為了形成電路,在銅箔上以電路版面圖形的形態(tài)留下DF顯像 液的工序,蝕刻工序是用蝕刻液清除未留下DF顯像液的銅箔的工序,剝離工序是蝕刻工序 之后用堿性(Alkali)溶液清除銅箔上殘留的DF顯像液的工序。
[0005] 以前的清除DF顯像液的剝離裝置采用Dip形式,將基板(PCB)浸泡在堿性溶液(藥 液)箱中,在一定時間內(nèi)通過藥液的化學(xué)作用清除銅箔上殘留的DF顯像液以進行剝離的方 式。
[0006] 隨之,以前的Dip形態(tài)的剝離裝置根據(jù)藥箱的大小其浸泡到藥液的基板數(shù)量有 限,且需要發(fā)生化學(xué)作用的時間,剝離工序消耗的時間變長,更換藥箱里的藥液時一次需更 換大量藥液。
[0007] 現(xiàn)有技術(shù)
[0008] 專利文獻
[0009] (專利文獻1)韓國注冊專利第10-1019154號。
[0010](專利文獻2)韓國注冊專利第10-1103767號。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011](一)要解決的技術(shù)問題
[0012] 本發(fā)明以改進原先的基板玻璃系統(tǒng)其玻璃工序消耗的時間長,藥液噴射不均勻, 剝離效率和工序效率明顯低落等問題為出發(fā)點,提供一種在剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基 板的過程中將藥液均勻地噴射于基板上,在保持工序連續(xù)性的同時縮短剝離工序所消耗的 時間,且因采用以垂直狀態(tài)移送基板的過程中噴射藥液來進行剝離,其剝離效率和工序生 產(chǎn)率得到進一步提高的垂直型基板剝離裝置為目的。
[0013] (二)技術(shù)方案
[0014] 為實現(xiàn)所述目的,本發(fā)明的構(gòu)成包括:
[0015] 封閉空間的框架式剝離室和在所述剝離室的內(nèi)部空間以垂直方式移送基板的搬 運裝置、給在所述剝離室的內(nèi)部空間以垂直方式移送的基板均勻噴射藥液的噴射裝置、搜 集在所述剝離室的內(nèi)部空間給基板噴射的藥液,將藥液泵送到噴射裝置的泵送裝置。
[0016] 在本發(fā)明的實施例中搬運裝置的特征在于,由通過傳達過來的馬達驅(qū)動力進行旋 轉(zhuǎn),以一定間隔安裝的多數(shù)驅(qū)動輪和放置于所述多數(shù)驅(qū)動輪上水平移送,以上下垂直狀構(gòu) 成框架的Jig、安裝于所述Jig的上下位置,以垂直狀態(tài)把持基板的多數(shù)夾具組成。
[0017] 在本發(fā)明的實施例中噴射裝置由采用四角架形狀,在兩側(cè)組成的一對框架和以一 定間隔安裝于所述框架上,并裝有多個噴嘴的噴射管、以上下垂直方式安裝在所述框架兩 側(cè)的導(dǎo)軌、安裝在所述框架兩側(cè)并可進行轉(zhuǎn)動,沿著導(dǎo)軌動作的導(dǎo)輪、在所述框架的上方和 驅(qū)動軸結(jié)合起來,上下啟動驅(qū)動軸以上下移動框架的驅(qū)動部組成。
[0018] (三)有益效果
[0019] 本發(fā)明的實施例提供的垂直型基板玻璃裝置,其構(gòu)成包括:封閉形態(tài)的剝離室和 在所述剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板的搬運裝置、在所述以垂直狀態(tài)移送的基板上均勻 噴射藥液的噴射裝置、給所述噴射裝置泵送藥液的泵送裝置。因為在剝離室內(nèi)部以垂直狀 態(tài)移送基板的過程中將藥液噴射于基板來執(zhí)行剝離工序,具有在進行連續(xù)性的剝離作業(yè)的 同時縮短剝離工序消耗時間的效果。
[0020] 不僅如此,本發(fā)明的實施例采用以垂直狀態(tài)移送基板的過程中將藥液均勻噴射于 基板來執(zhí)行剝離工序的方式,在進一步提高剝離效率和工序生產(chǎn)率的同時,搜集噴射到基 板的藥液,經(jīng)過濾后還能循環(huán)使用,藥液的使用時間長,效率也高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0021] 圖1為本發(fā)明實施例的剝離裝置構(gòu)成圖。
[0022] 圖2為本發(fā)明實施例的安裝狀態(tài)側(cè)面圖。
[0023] 圖3為本發(fā)明實施例的安裝狀態(tài)正面圖。
[0024] 圖4為本發(fā)明實施例的移送裝置和噴射裝置側(cè)面圖。
[0025] 圖5為本發(fā)明實施例的噴射裝置正面圖。
[0026] 圖6為本發(fā)明實施例的移送裝置側(cè)面圖。
[0027] 圖7為本發(fā)明實施例的基板玻璃狀態(tài)平面圖。
[0028] 圖8至圖9為本發(fā)明的噴射裝置動作狀態(tài)正面圖。
[0029] 附圖標記說明
[0030] 10:剝離室 11:框架
[0031] 20:搬運裝置 21:驅(qū)動輪
[0032] 22:軸 23: Jig
[0033] 24:夾具 30:噴射裝置
[0034] 31:框架 32:噴射管
[0035] 33:噴嘴 34:導(dǎo)軌
[0036] 35:導(dǎo)輪 40:泵送裝置
[0037] 41:藥箱 42:集水管
[0038] 42a:集水槽 43:過濾器
[0039] 44:泵

【具體實施方式】
[0040] 本發(fā)明實施例的主要宗旨是在剝離室內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板的過程中將藥液 均勻噴射于基板以執(zhí)行剝離工序,在保持連續(xù)的剝離作業(yè)的同時縮短剝離工序消耗的時 間,因以垂直狀態(tài)移送基板的過程中噴射藥液來進行剝離,從而進一步提高剝離效率和工 序生產(chǎn)率。
[0041] 通過下面的本發(fā)明實施例的附圖可知,主要由框架11式封閉形態(tài)的剝離室10和 在所述剝離室10的內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板P的搬運裝置20、在所述剝離室10內(nèi)給以垂 直狀態(tài)移送的基板P均勻噴射藥液的噴射裝置30、搜集在所述剝離室10的內(nèi)部噴射于基板 P上的藥液,給噴射裝置30泵送藥液的泵送40裝置組成。
[0042] 本發(fā)明實施例的剝離裝置是在剝離室10內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板P的過程中給 基板P噴射藥液以進行剝離的裝置,如圖1至圖3所示,由剝離室10、剝離裝置20、噴射裝 置30、泵送裝置40組成,在剝離室10搜集噴射于基板P的藥液,經(jīng)過濾后通過泵送裝置40 供給給噴射裝置30,從而循環(huán)利用。
[0043] 所述實施例的主要組成中,如圖1至圖3所示,剝離室10是在框架11上以四角架 形態(tài)組成的封閉空間,在所述剝離室10的內(nèi)部安裝后面將要說明的搬運裝置20和噴射裝 置30。
[0044] 所述剝離室10盡可能采用封閉空間且應(yīng)具備一定長度2?5m以便通過搬運裝置 20以一側(cè)方向移送基板P,可安裝玻璃門便于在外部用肉眼觀察剝離室10內(nèi)部的作業(yè)狀 態(tài)。
[0045] 所述實施例的主要構(gòu)件中搬運裝置20是在剝離室10內(nèi)部以垂直狀態(tài)移送基板P 的功能,如圖2至圖4以及圖6所示,所述搬運裝置20由通過傳達過來的馬達驅(qū)動力進行 旋轉(zhuǎn),以一定間隔安裝的多數(shù)驅(qū)動輪21和放置于所述多數(shù)驅(qū)動輪21上水平移送,以上下垂 直狀構(gòu)成框架的Jig23、安裝于所述Jig23的上下位置,以垂直狀態(tài)把持基板P的多數(shù)夾具 24組成。
[0046] 所述驅(qū)動輪21上安裝有和剝離室10的地面保持一定距離且可進行轉(zhuǎn)動的多數(shù)軸 承22,在所述軸承22兩側(cè)結(jié)合安裝有一定距離的多數(shù)驅(qū)動輪21,從一側(cè)驅(qū)動部21a將馬達 的驅(qū)動力傳達給多數(shù)軸承22,以馬達驅(qū)動轉(zhuǎn)動多數(shù)驅(qū)動輪21。
[0047] 此外,所述Jig23通過驅(qū)動輪21上的底盤沿驅(qū)動輪21水平移送,在所述底盤的上 中央部分形成垂直框架的同時,在框架的上下位置安裝多數(shù)夾具24。
[0048] 所述Jig23上組成的框架采用四角架形態(tài)以形成大于基板P的較大空間,所述框 架的上下位置安裝有以垂直狀態(tài)把持基板P的多數(shù)夾具24,所述夾具24把持基板P的邊緣 位置以令基板P置于框架形成的空間內(nèi)。
[0049] 隨之,搬運裝置20其多數(shù)夾具24以垂直狀態(tài)把持基板P,安裝有夾具的24的 Jig23通過多數(shù)驅(qū)動輪21水平移送,以此在剝離室10的內(nèi)部空間以垂直狀態(tài)移送基板P。
[0050] 所述實施例的主要構(gòu)成中,噴射裝置30的功能是在剝離室10內(nèi)部給以垂直狀態(tài) 移送的基板P均勻地噴射藥液。所述噴射裝置如圖2至圖5以及圖7至圖9所示,噴射裝 置由采用四角架形狀,在兩側(cè)組成的一對框架31和以一定間隔安裝于所述框架31上,并裝 有多個噴嘴33的噴射管32、以上下垂直方式安裝在所述框架31兩側(cè)的導(dǎo)軌34、安裝在所 述框架31兩側(cè)并可進行轉(zhuǎn)動,沿著導(dǎo)軌34動作的導(dǎo)輪35、在所述框架31的上方和驅(qū)動軸 37結(jié)合起來,上下啟動驅(qū)動軸37以上下移動框架31的驅(qū)動部36組成。
[0051] 所述框架31采用大于基板p面積的四角架形態(tài)的大空間,在剝離室10內(nèi)部組成 一對,并和以垂直狀態(tài)移送的基板P兩側(cè)保持一定距離,在框架上31安裝以一定間隔裝有 多數(shù)噴嘴33的噴射管32。
[0052] 所述噴射管32橫跨框架31的內(nèi)部空間以上下一定間隔安裝在兩側(cè)邊緣位置,呈 一側(cè)朝下的傾斜形態(tài),通過后面說明的泵送裝置40供給藥液的同時通過多數(shù)噴嘴33以微 粒子形態(tài)將藥液噴射于基板P上。
[0053] 此外,導(dǎo)軌34從框架31的兩側(cè)到上下支架以垂直狀態(tài)進行安裝,安裝時和框架31 的兩側(cè)隔出一定距離。
[0054] 所述導(dǎo)輪35安裝在框架31兩側(cè)上下,內(nèi)置可以進行轉(zhuǎn)動動作的軸承,沿著框架31 兩側(cè)垂直狀的導(dǎo)輪34上下驅(qū)動。
[0055] 所述驅(qū)動部36起到上下連續(xù)往返移動框架31的功能,可以使用驅(qū)動馬達或液壓 或氣壓氣缸,宜安裝在剝離室10的外側(cè)上方,在框架31的上部安裝通過驅(qū)動部36傳過來 的驅(qū)動力上下動作的驅(qū)動軸37。
[0056] 所述驅(qū)動軸37和安裝在剝離室10外側(cè)上方的驅(qū)動部36和安裝在剝離室10內(nèi)部 的框架31呈垂直狀,驅(qū)動部36啟動時,驅(qū)動軸37的上下動作以帶動框架31的上下連續(xù)往 返移動動作。此時在框架31的兩側(cè),導(dǎo)輪35沿著導(dǎo)軌34上下運轉(zhuǎn),框架31不會晃動,上 下移動非常穩(wěn)定。
[0057] 噴射裝置30通過驅(qū)動部36的動作在框架31上下連續(xù)往返移動的狀態(tài)下通過后 述的泵送裝置40把藥液送到噴射管32通過噴嘴33進行噴射,從而給垂直狀態(tài)移送的基板 P兩側(cè)均勻地噴射藥液。
[0058] 此外,所述實施例的主要組成部分泵送裝置40起到給噴射裝置30泵送藥液的功 能,所述泵送裝置40如圖1至圖3所示,由藥箱41、集水管42、過濾器43、泵44組成,搜集 在剝離室內(nèi)部噴射到基板P上的藥液,用過濾器43過濾藥液后再循環(huán)使用。
[0059] 所述泵送裝置40包括在剝離室10地面向下傾斜安裝的集水槽42a和連接到所述 集水槽42a的集水管42、連接到所述集水管42的過濾器43及藥箱41、泵送所述藥箱41內(nèi) 藥液的泵44。
[0060] 所述集水槽42a以堅向安裝于剝離室10的地面,中央部分向下傾斜以搜集藥液, 所述集水槽42a的下方連接集水管42并安裝在剝離室10的外部,所述集水管42依次連接 到過濾器43和藥箱41上。
[0061] 容納藥液的藥箱41用泵送管依次連接泵44和閥門45,通過所述泵44將藥箱41 的藥液供給給噴射裝置30的噴射管32,因為所述噴射管32上下移動,宜用流動性良好的軟 管連接噴射管32。
[0062] 泵送裝置40通過集水槽42a搜集噴射到剝離室10內(nèi)部基板P上的藥液,搜集的藥 液通過集水管42流入到過濾器43,過濾雜質(zhì)后流入藥箱41,通過泵44將藥箱41內(nèi)的藥液 供應(yīng)給噴射管32并通過噴嘴33進行噴射,從而形成藥液的循環(huán)使用,藥液的使用時間長, 效率高。
[0063] 本發(fā)明的實施例在剝離室內(nèi)部垂直移送基板的過程中通過噴射管和噴嘴的上下 連續(xù)移動動作將藥液均勻地噴射于基板兩側(cè),從而縮短剝離工序消耗的時間,在進一步提 高剝離效率和工序生產(chǎn)率的同時也能進行連續(xù)性的剝離作業(yè)。
[0064] 此外,本發(fā)明的實施例搜集噴射于剝離室內(nèi)部基板的藥液,用過濾器過濾所集到 的藥液并在藥箱進行存儲后循環(huán)使用,從而延長了藥液的使用時間,提高了效率。
[0065] 作為參考,以本發(fā)明的實施例進行了說明,但并不局限于上述實施例,通過上實施 例在本發(fā)明所屬的【技術(shù)領(lǐng)域】,由具備相關(guān)知識的技術(shù)人員在不超出本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)可 進行多種變更。
【權(quán)利要求】
1. 一種垂直型基板剝離裝置,其特征在于,包括: 框架(11)式封閉形態(tài)的剝離室(10)和在剝離室(10)內(nèi)以垂直狀態(tài)移送基板(P)的搬 運裝置(20)、給所述剝離室(10)內(nèi)以垂直狀態(tài)移送的基板(P)上均勻噴射藥液的噴射裝置 (30)、搜集在所述剝離室(10)內(nèi)部給基板(P)噴射的藥液,將藥液泵送到噴射裝置(30)的 泵送裝置(40)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直型基板剝離裝置,其特征在于,搬運裝置(20)由通過傳 達過來的馬達驅(qū)動力進行旋轉(zhuǎn),以一定間隔安裝的多數(shù)驅(qū)動輪(21)和放置于所述多數(shù)驅(qū)動 輪(21)上水平移送,以上下垂直狀構(gòu)成框架的Jig (23)、安裝于所述Jig (23)的上下位 置,以垂直狀態(tài)把持基板(P)的多數(shù)夾具(24)組成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直型基板剝離裝置,其特征在于,噴射裝置(30)由采用四 角架形狀,在兩側(cè)組成的一對框架(31)和以一定間隔安裝于所述框架(31)上,并裝有多個 噴嘴(33)的噴射管(32)、以上下垂直方式安裝在所述框架(31)兩側(cè)的導(dǎo)軌(34)、安裝在所 述框架(31)兩側(cè)并可進行轉(zhuǎn)動,沿著導(dǎo)軌(34)動作的導(dǎo)輪(35)、在所述框架(31)的上方和 驅(qū)動軸(37)結(jié)合起來,上下啟動驅(qū)動軸(37)來上下移動框架(31)的驅(qū)動部(36)組成。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的垂直型基板剝離裝置,其特征在于,所述框架(31)采用大于 基板(P)面積的四角架形態(tài)的大空間,在剝離室(10)內(nèi)組成一對,并置于和基板(P)的兩側(cè) 保持一定距離的位置,噴射管(32)橫穿框架(31)的內(nèi)部空間在兩側(cè)邊緣位置上下留出一 定間距進行安裝,呈一側(cè)向下傾斜的狀態(tài)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直型基板剝離裝置,其特征在于,泵送裝置(40)由在剝離 室(10 )地面向下傾斜安裝的集水槽(42a)和連接到所述集水槽(42a)的集水管(42 )、連接 到所述集水管(42)的過濾器(43)及藥箱(41)、泵送所述藥箱(41)內(nèi)藥液的泵(44)組成。
【文檔編號】H05K3/06GK104125718SQ201310300816
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2013年7月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月26日
【發(fā)明者】鄭贊洙 申請人:昌晟株式會社
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