專利名稱：利于濺鍍導(dǎo)通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型關(guān)于一種濺鍍制程導(dǎo)通薄膜的結(jié)構(gòu)改良，特別是關(guān)于一種利于濺鍍導(dǎo) 通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)今各種電子相關(guān)產(chǎn)業(yè)中，電磁干擾(EMI, Electromagnetic Interference)/ 靜電放電(ESD，Electrostatic Discharge)的防護(hù)，對(duì)電子相關(guān)產(chǎn)業(yè)而言是重要的課題之 一。目前來(lái)說(shuō)，為了解決EMI防護(hù)效果不佳的問(wèn)題，目前防電磁干擾的工法包括以金屬鐵 片、噴涂導(dǎo)電漆、電鍍、鎂鋁合金及真空濺鍍等方式。然而，其中的真空濺鍍工法可鍍出較薄 且平均的金屬薄膜，相對(duì)防制EMI效果也較其它工法更佳。在環(huán)保上來(lái)說(shuō)，相較金屬鐵片、 電鍍及導(dǎo)電漆需使用大量化學(xué)藥劑，真空濺鍍工法利用物理原理，將金屬原子鍍?cè)谒芰蠙C(jī) 殼表面，制程較為環(huán)保，在成本方面也較其它工法低2 3成，是未來(lái)較具潛力的技術(shù)。藉 由在電子設(shè)備的內(nèi)部組件(例如印刷電路板)及/或電子設(shè)備的塑料外殼的內(nèi)面上，形成 一具低阻抗的遮蔽膜(例如一金屬膜)，或摻混低阻抗材料至塑料外殼中，來(lái)解決電磁干擾 /靜電放電的問(wèn)題。例如，在手機(jī)或筆記型計(jì)算機(jī)的外殼上，運(yùn)用一層遮蔽的復(fù)合材料即是 一種常見(jiàn)的處理方式?？衫谜婵针婂兓蚱渌绞?，在塑料殼內(nèi)部布滿一層如鎳或其它金 屬材質(zhì)之類的屏蔽材質(zhì)，藉此隔絕電磁波的發(fā)散。

實(shí)用新型內(nèi)容為了提高各種電子組件、或筆記型計(jì)算機(jī)、手機(jī)等電子裝置，其塑料外殼電磁干擾 的遮蔽防護(hù)效果。緣此，本實(shí)用新型的一目的即是提供一種利于濺鍍導(dǎo)通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型為解決現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題所采用的技術(shù)手段為一種利于濺鍍導(dǎo)通薄膜 的塑殼結(jié)構(gòu)。在本實(shí)用新型的第一實(shí)施例中，塑殼結(jié)構(gòu)包括一基材，具有一第一表面及一第二 表面；至少一貫孔，開(kāi)設(shè)于該基材的預(yù)定位置以貫通該基材的第一表面及第二表面；一第 一濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材的第一表面；一第二濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材 的第二表面；其特征在于，該基材的貫孔的孔璧鄰近于該第一表面處形成有一第一斜面，且 該第一斜面與該第一表面夾有一第一預(yù)定角度，而該基材的貫孔的孔璧鄰近于該第二表面 處形成有一第二斜面，且該第二斜面與該第二表面夾有一第二預(yù)定角度，其中第一預(yù)定角 度及第二預(yù)定角度較佳為銳角，經(jīng)由該貫孔的孔璧的第一斜面可使該第一濺鍍薄膜在濺鍍 形成時(shí)可延伸包覆至該貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，且經(jīng)由該貫孔的孔璧的第二斜面可使該第 二濺鍍薄膜在濺鍍形成時(shí)可延伸包覆至該貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，使該第一濺鍍薄膜與該 第二濺鍍薄膜彼此接觸。在本實(shí)用新型的第二實(shí)施例中，其組成及結(jié)構(gòu)特征與第一實(shí)施例相似，惟其中貫 孔的第一斜面與第二斜面系交界于一預(yù)定平面。在本實(shí)用新型的第三實(shí)施例中，塑殼結(jié)構(gòu)包括一基材，具有一第一表面及一第二表面；至少一貫孔，開(kāi)設(shè)于該基材的預(yù)定位置以貫通該基材的第一表面及第二表面；一第 一濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材的第一表面；一第二濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材 的第二表面；其特征在于，該基材的貫孔的孔璧形成有一第一斜面，且該第一斜面與該第一 表面夾有一第一預(yù)定角度，其中第一預(yù)定角度較佳為銳角，經(jīng)由該貫孔的孔璧的第一斜面 可使該第一濺鍍薄膜在濺鍍形成時(shí)可延伸包覆至該貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，使該第一濺鍍 薄膜與該第二濺鍍薄膜彼此接觸。
在本實(shí)用新型的第四實(shí)施例中，其組成及結(jié)構(gòu)特征與第三實(shí)施例相似，惟其中貫 孔的第一斜面交界于該基材的第二表面。經(jīng)由本實(shí)用新型所采用的技術(shù)手段，可使在基材上、下表面的濺鍍薄膜在濺鍍制 程中易于延伸包覆至貫孔中，且可利用調(diào)整其孔徑大小、基材厚度以及第一斜面或第二斜 面的角度，控制濺鍍制程中濺鍍膜層包覆至貫孔孔璧的深度，無(wú)須再以銀膠或其它導(dǎo)電材 質(zhì)填充于貫孔中，即可達(dá)到電性連接的效果。此外，亦可簡(jiǎn)化制程的步驟，并節(jié)省銀膠或其 它導(dǎo)電材質(zhì)所耗費(fèi)的成本，在未來(lái)可應(yīng)用于各種相關(guān)電子產(chǎn)品及電子組件的塑料外殼上。

圖1為現(xiàn)有濺鍍裝置的示意圖；圖2為現(xiàn)有塑殼結(jié)構(gòu)的貫孔局部立體圖；圖3為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的剖視圖；圖4為本實(shí)用新型第二實(shí)施例的剖視圖；圖5為本實(shí)用新型第三實(shí)施例的剖視圖；圖6為本實(shí)用新型第四實(shí)施例的剖視圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明1濺鍍裝置10真空腔體11抽真空出口12氣體入口2金屬靶材3 載具4標(biāo)的工件5、5a、5b、5c、5d 塑殼結(jié)構(gòu)50 基材51第一表面511 第一斜面52第二表面521 第二斜面53 貫孔531 孔璧61第一濺鍍薄膜62第二濺鍍薄膜[0034]63導(dǎo)電材料64預(yù)定平面P 原子V高壓電源θ 1第一預(yù)定角度θ 2第二預(yù)定角度
具體實(shí)施方式
參閱圖1，其為現(xiàn)有濺鍍裝置的示意圖。濺鍍裝置1包括一真空腔體10，真空腔體 10具有一抽真空出口 11及一氣體入口 12，抽真空出口 11用以將真空腔體1內(nèi)部的氣體抽 出以保持真空狀態(tài)，而氣體入口 12用以輸入一工作氣體，例如氬氣。真空腔體1中配置有 一金屬靶材2及一載具3。載具3與金屬靶材2保持一預(yù)定間距，且金屬靶材2連接于一高 壓電源V的陰極端，而載具3連接于高壓電源V的陽(yáng)極端，高壓電源V可以是一直流電源或 交流電源，端視所欲使用的濺鍍方式而定。在進(jìn)行濺鍍時(shí)，利用電極間的高電位差將使通入 的氬氣游離，氬氣離子即向陰極撞擊，而將金屬靶材2的原子P撞擊出來(lái)，使金屬靶材2的 原子P沉積于置放于載具3的標(biāo)的工件4上形成金屬薄膜。參閱圖2，其為現(xiàn)有塑殼結(jié)構(gòu)的貫孔局部立體圖。如圖所示，塑殼結(jié)構(gòu)5包括有一 基材50，基材50可以是各種電子組件、或筆記型計(jì)算機(jī)、手機(jī)等電子裝置的塑料外殼?；?50具有一第一表面51及一第二表面52，且開(kāi)設(shè)有一貫孔53。在基材50的第一表面51及 第二表面52上，分別濺鍍形成一第一濺鍍薄膜61以及一第二濺鍍薄膜62。在貫孔53中填 塞有一導(dǎo)電材料63 (如銀膠)，用以導(dǎo)通在第一表面51及第二表面52上的第一濺鍍薄膜 61以及第二濺鍍薄膜62。一般而言，經(jīng)由濺鍍技術(shù)在基材兩面所形成的膜層，仍須在貫孔中填塞銀膠等導(dǎo) 電材料以達(dá)成導(dǎo)通的目的。然而，本實(shí)用新型利用改變貫孔的結(jié)構(gòu)特征，并搭配以精密的濺 鍍制程，可達(dá)成免去填塞銀膠的優(yōu)點(diǎn)。本實(shí)用新型的實(shí)施例將描述如后，惟各個(gè)實(shí)施例僅系 用以說(shuō)明，并非局限本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。參閱圖3，其為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的剖視圖。塑殼結(jié)構(gòu)5a，包括一基材50，基 材50具有一第一表面51及一第二表面52。在基材50的預(yù)定位置開(kāi)設(shè)有一貫孔53，系貫 通基材50的第一表面51及第二表面52。在基材50的第一表面51上濺鍍形成有一第一濺 鍍薄膜61。相似地，在基材50的第二表面52上濺鍍形成有一第二濺鍍薄膜62。與前述現(xiàn)有結(jié)構(gòu)不同之處在于，在進(jìn)行鉆孔步驟時(shí)，基材50的貫孔53之孔璧531 在鄰近于第一表面51處形成有一第一斜面511，且第一斜面511與第一表面51夾有一第一 預(yù)定角度θ 1，且第一預(yù)定角度θ 1系為銳角。而基材50的貫孔53的孔璧531鄰近于第 二表面52處形成有一第二斜面521，且第二斜面521與第二表面52夾有一第二預(yù)定角度 Θ2，且第二預(yù)定角度Θ2系為銳角。經(jīng)由貫孔53的第一斜面511的設(shè)計(jì)，可使第一濺鍍薄 膜61在濺鍍形成時(shí)可延伸包覆至貫孔53內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度。同時(shí)，經(jīng)由貫孔53的第二斜 面521可使第二濺鍍薄膜62在濺鍍形成時(shí)可延伸包覆至貫孔53內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度。透過(guò) 此種手段，可使第一濺鍍薄膜61與第二濺鍍薄膜62彼此接觸，達(dá)到電性導(dǎo)通的目的。參閱圖4，其為本實(shí)用新型第二實(shí)施例的剖視圖。如圖所示，本實(shí)施例的塑殼結(jié)構(gòu)
55b與第一實(shí)施例相似，相同的組成組件在此不再重復(fù)說(shuō)明。本實(shí)施例主要不同之處在于， 貫孔53中的第一斜面511與第二斜面521系交界于一預(yù)定平面64。其交界的預(yù)定平面64 在本實(shí)施例中大約位于基材50的一半厚度的位置，但實(shí)際上交界深度可視實(shí)際需要進(jìn)行 調(diào)整，并非僅限于本實(shí)施例所揭露的情況。參閱圖5，其為本實(shí)用新型第三實(shí)施例的剖視圖。本實(shí)施例的塑殼結(jié)構(gòu)5c與前述 實(shí)施例相似，相同的組成組件在此不再重復(fù)說(shuō)明。本實(shí)施例中，其結(jié)構(gòu)上主要不同之處在于 僅在貫孔53內(nèi)形成單一的斜面結(jié)構(gòu)。亦即在進(jìn)行鉆孔步驟時(shí)，僅在基材50的貫孔53的孔 璧531在鄰近于第一表面51處形成一第一斜面511，且第一斜面511與第一表面51夾有一 第一預(yù)定角度θ 1，且第一預(yù)定角度θ 1為銳角。僅藉由此種單一的斜面結(jié)構(gòu)，即可使第一 濺鍍薄膜61在濺鍍形成時(shí)，延伸包覆至貫孔53內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，使第一濺鍍薄膜61與 第二濺鍍薄膜62彼此接觸，同樣可達(dá)成電性導(dǎo)通的目的。參閱圖6，其為本實(shí)用新型第四實(shí)施例的剖視圖。本實(shí)施例的塑殼結(jié)構(gòu)5d與第三 實(shí)施例較為相似，相同的組成組件在此不再重復(fù)說(shuō)明。本實(shí)施例的貫孔53內(nèi)同樣具有單一 的斜面結(jié)構(gòu)，即圖中所示的第一斜面511，惟在鉆孔步驟時(shí)可鉆出較深的斜面結(jié)構(gòu)，其使第 一斜面511交界于基材50的第二表面52。然而，其仍具有與第三實(shí)施例相同的效果，可達(dá) 成電性導(dǎo)通的目的。由以上的實(shí)施例可知，本實(shí)用新型所提供的利于濺鍍導(dǎo)通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)確具產(chǎn) 業(yè)上的利用價(jià)值，惟以上的敘述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例說(shuō)明，凡精于此項(xiàng)技藝者當(dāng) 可依據(jù)上述的說(shuō)明而作其它種種的改良，惟這些改變?nèi)詫儆诒緦?shí)用新型的精神及以下所界 定的專利范圍中。
權(quán)利要求一種利于濺鍍導(dǎo)通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)，包括一基材，具有一第一表面及一第二表面；至少一貫孔，開(kāi)設(shè)于該基材的預(yù)定位置以貫通該基材的第一表面及第二表面；一第一濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材的第一表面；一第二濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材的第二表面；其特征在于，該基材的貫孔的孔璧鄰近于該第一表面處形成有一第一斜面，且該第一斜面與該第一表面夾有一第一預(yù)定角度，而該基材的貫孔的孔璧鄰近于該第二表面處形成有一第二斜面，且該第二斜面與該第二表面夾有一第二預(yù)定角度，經(jīng)由該貫孔的孔璧的第一斜面可使該第一濺鍍薄膜在濺鍍形成時(shí)可延伸包覆至該貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，且經(jīng)由該貫孔的孔璧的第二斜面可使該第二濺鍍薄膜在濺鍍形成時(shí)可延伸包覆至該貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，使該第一濺鍍薄膜與該第二濺鍍薄膜彼此接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的塑殼結(jié)構(gòu)，其特征在于，該貫孔的第一斜面與該第一表面所夾 的第一預(yù)定角度為銳角。
3.如權(quán)利要求1所述的塑殼結(jié)構(gòu)，其特征在于，該貫孔的第二斜面與該第二表面所夾 的第二預(yù)定角度為銳角。
4.如權(quán)利要求1所述的塑殼結(jié)構(gòu)，其特征在于，該貫孔的第一斜面與第二斜面交界于 一預(yù)定平面。
5.一種利于濺鍍導(dǎo)通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)，包括一基材，具有一第一表面及一第二表面；至少一貫孔，開(kāi)設(shè)于該基材的預(yù)定位置以貫通該基材的第一表面及第二表面；一第一濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材的第一表面；一第二濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于該基材的第二表面；其特征在于，該基材的貫孔的孔璧形成有一第一斜面，且該第一斜面與該第一表面夾 有一第一預(yù)定角度，經(jīng)由該貫孔的孔璧的第一斜面可使該第一濺鍍薄膜在濺鍍形成時(shí)可延 伸包覆至該貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，使該第一濺鍍薄膜與該第二濺鍍薄膜彼此接觸。
6.如權(quán)利要求5所述的塑殼結(jié)構(gòu)，其特征在于，該貫孔的第一斜面與該第一表面所夾 的第一預(yù)定角度系為銳角。
7.如權(quán)利要求5所的塑殼結(jié)構(gòu)，其特征在于，該貫孔的第一斜面交界于該基材的第二 表面。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種利于濺鍍導(dǎo)通薄膜的塑殼結(jié)構(gòu)，包括一基材，具有一第一表面及一第二表面，并開(kāi)設(shè)有一貫孔；一第一濺鍍薄膜及一第二濺鍍薄膜，經(jīng)由濺鍍形成于基材的第一表面及第二表面；其特征在于基材的貫孔具有一第一斜面及一第二斜面，且第一斜面與第一表面夾有一第一預(yù)定角度，而第二斜面與第二表面夾有一第二預(yù)定角度，可使第一濺鍍薄膜及第二濺鍍薄膜在濺鍍時(shí)可延伸包覆至貫孔內(nèi)達(dá)到一預(yù)定深度，使第一濺鍍薄膜與第二濺鍍薄膜彼此接觸，以達(dá)成電性導(dǎo)通的目的。
文檔編號(hào)H05K5/00GK201733529SQ20102019419
公開(kāi)日2011年2月2日 申請(qǐng)日期2010年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月11日
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