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硅酸鎵鑭系列晶體高溫零溫度補償切型及應用的制作方法

文檔序號:8137721閱讀:560來源:國知局
專利名稱:硅酸鎵鑭系列晶體高溫零溫度補償切型及應用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種硅酸鎵鑭系列晶體高溫零溫度補償切型及應用,使用于航空航
天、冶金鉆井等需要用于高溫傳感的場所,屬于高溫傳感器領(lǐng)域。
背景技術(shù)
硅酸鎵鑭系列晶體具有優(yōu)良的壓電性能,廣泛應用于無線電頻率的控制器件(共 振器)核選擇器件(濾波器),是電子設(shè)備,遙測導航和通訊等系統(tǒng)中的關(guān)鍵元器件,隨著傳 感技術(shù)的發(fā)展以及航空航天技術(shù)的發(fā)展,石英,鈮酸鋰等晶體已經(jīng)不能滿足寬溫度范圍內(nèi) (< 900°C )的傳感技術(shù)要求。該系列晶體包括La3Ga5.sNbOA4(LGN) ,La3Ga5.5Ta。.5014(LGT), La3Ga5Si014(LGS) , Ca3TaGa3Si2014 (CTGS) , Ca3NbGa3Si2014 (CNGS) , Sr3TaGa3Si2014 (STGS)和 Sr3NbGa3Si2014(SNGS)。關(guān)于該系列晶體的頻率溫度補償,現(xiàn)有報道為(1)-40°C _200°C 溫度范圍以內(nèi);(2)采用Y切零度片和雙旋轉(zhuǎn)角度切型。參見P.A.Senjushenkov等 人,TEMPERATURE CHARACTERISTICS OF LANGANITE BULK WAVE VIBRATIONS,1996IEEE INTERNATIONAL FREQUENCY CONTROL SYMPOSIUM, 137-140 ;Shen Jen等人,EXPERMENTAL INVESTIGATION OF THE BAW DEVICE POTENTIALS OF SINGLEROTATED Y-CUT ORDERED LANGASITE-STRUCTURE CRYSTALS,2002IEEEInternational Frequency Control Symposium and PDA Exhibition,348_352. Mauricio Pereira daCunha等人,BAW TEMPERATURE SENSITIVITY AND COUPING IN LANGANITE,1999IEEE ULTRASONICS SYMPOSIUM,883-886。
高溫環(huán)境下的硅酸鎵鑭系列晶體的零溫度補償未見報道。

發(fā)明內(nèi)容
為了滿足航空航天,冶煉鉆井等對高溫傳感器件的要求,本發(fā)明提供了可以實現(xiàn)
高頻率溫度穩(wěn)定性,高機電耦合系數(shù)溫度穩(wěn)定性的硅酸鎵鑭系列晶體切型。該硅酸鎵鑭系
列晶體切型可以使傳感器件的使用溫度范圍有較大的提高(> 500°C ),滿足國防與民用傳
感器要求。
術(shù)語解釋 1.零溫度補償晶體的彈性常數(shù)隨溫度是變化的,若某一切型的有效彈性系數(shù)是 某些彈性常數(shù)的線形組合,并且各個彈性常數(shù)的溫度系數(shù)彼此可以抵消,從而使有效彈性 常數(shù)的溫度系數(shù)接近于零,那么該切型就是零溫度補償切型。
2. (126激發(fā)的厚度切變振動模式下的諧振反諧振頻率在Y方向上加電場E,由壓電
應變常數(shù)d26激發(fā)產(chǎn)生沿厚度方向T6的切變振動模式得到彈性常數(shù)c66對應的諧振反諧振 頻率。 本發(fā)明所述的硅酸鎵鑭系列晶體具有32點群結(jié)構(gòu),選自La3Ga5.5Nb。.5014(LGN), La3Ga5.5Ta0.5014 (LGT) , La3Ga5Si014 (LGS) , Ca3TaGa3Si2014 (CTGS) , Ca3NbGa3Si2014 (CNGS), Sr3TaGa3Si2014(STGS)和Sr3NbGa3Si2014 (SNGS) , Ca3NbAl3Si2014 (CNAS) , Ca3TaAl3Si2014 (CTAS) 或用鋁取代鎵的任一種公知的同類32點群結(jié)構(gòu)的高溫壓電晶體。
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—、硅酸鎵鑭系列晶體切型,按以下方法制得 對于32點群的硅酸鎵鑭系列晶體,正的du的方向取為x的正方向,y,z方向根據(jù) 右手螺旋法則確定;晶體厚度方向為Y,長度方向為X,以X方向按右手螺旋法則旋轉(zhuǎn)a角 度,記為YXltw(a),-90° < a <+20° , + a為逆時針旋轉(zhuǎn),-a為順時針旋轉(zhuǎn),如圖l所
示;加工切型尺寸比例為厚度寬度長度=o. 2 2 : 6 12 : 6 12。 本發(fā)明有關(guān)壓電晶體坐標軸以及正負x的方向選擇方法,可參閱美國電子電器工 程師協(xié)會(IEEE)關(guān)于壓電材料的有關(guān)規(guī)定,屬于本領(lǐng)域公知常識。本發(fā)明的關(guān)鍵特點在于 將硅酸鎵鑭系列晶體在繞x軸一次旋轉(zhuǎn)特定角度后所得的切型,都可以得到相似的高頻率 溫度穩(wěn)定性。
優(yōu)選的 對于硅酸鎵鑭(LGS)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-10。 < a <+20° ,
對于鈮酸鎵鑭(LGN)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-10。 < a <+20° ,
對于鉭酸鎵鑭(LGT)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-30° < a <+10° ,對于Ca3TaGa3Si2014 (CTGS)或Ca3NbGa3Si2014 (CNGS)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-40 ° < a
< 0° ,對于Sr3TaGa3Si2014 (STGS)或Sr3NbGa3Si2014 (SNGS)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-90 ° < a
< -30° 。
優(yōu)選的,切型樣品尺寸比例為厚度寬度長度=1.5 : 9 : 9。 二、本發(fā)明硅酸鎵鑭系列晶體零溫度補償切型的應用,用于航空航天、冶金或鉆井 領(lǐng)域的高溫傳感器中作為頻率器件。應用方法如下 在上述硅酸鎵鑭系列晶體零溫度補償切型厚度方向上鍍鉑金電極,電極厚度為
200-220nm。利用d26激發(fā)的厚度切變振動模式下的諧振反諧振頻率,在800°C以內(nèi),晶片諧 振頻率的溫度穩(wěn)定性可以控制在30ppm/°C以內(nèi)。 優(yōu)選的,以上系列晶體的使用溫度范圍如下LGS、 LGN或LGT使用溫度< 600°C ; CTGS、 CNGS、 STGS、 SNGS、 CNAS或CTAS使用溫度< 900°C 。 本發(fā)明的硅酸鎵鑭系列晶體高溫零溫度補償切型和頻率器件具有頻率穩(wěn)定性高, 適應溫度范圍廣,晶片加工簡單的特點。 本發(fā)明硅酸鎵鑭系列晶體零溫度補償切型可滿足高溫應用,并具有單次旋轉(zhuǎn)、加 工簡單的優(yōu)點,此外本發(fā)明的切型應用的頻率器件還具有以下優(yōu)點 1.具有較高的頻率溫度穩(wěn)定性,能夠很容易地達到頻率溫度穩(wěn)定性30ppm/°C以 內(nèi)。 2.具有較低的機械損耗,較高的機電耦合系數(shù)溫度穩(wěn)定性。 3.在硅酸鎵鑭系列晶體適宜的使用溫度范圍內(nèi)都具有較高的電阻率,電阻率大于 106Q cm。


圖1是本發(fā)明樣品旋轉(zhuǎn)角度示意圖。 圖2是本發(fā)明實施例1的LGT零溫度補償切型50(TC范圍內(nèi)阻抗_頻率隨溫度變 化圖。
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圖3是本發(fā)明實施例1-3的LGT零溫度補償切型50(TC范圍內(nèi)頻率相對變化值 隨溫度的變化關(guān)系圖,縱坐標是頻率相對變化值,橫坐標是溫度。圖3中三條線分別對 應于a+10° , a+0° , a-5°的樣品,其中a =-20° ,三條線代表的切型角度即為 a+10° =-10° , a+0° =-20° , a-5° =-25° 。圖3中500°C時的頻率溫度穩(wěn)定性 是縱坐標500°C的數(shù)值2*0. 001 (標度)除以對應的橫坐標的溫度變化(500-18(TC拐點) =6. 3ppm廣C得到的;400"時的頻率溫度穩(wěn)定性=縱坐標0. 5*0. 001 (縱坐標標度)除以 (400-180。C拐點)=2. 3卯m,C。 圖4是本發(fā)明實施例4CTGS零溫度補償切型80(TC范圍內(nèi)阻抗_頻率隨溫度的變 化圖。 圖5是本發(fā)明實施例5的CTGS零溫度補償切型80(TC范圍內(nèi)頻率相對變化值隨 溫度的變化關(guān)系圖,縱坐標是頻率相對變化值,橫坐標是溫度。圖5中三條線分別對應于 a+10° , a+0° , a-5°的樣品,此處a =-20° ,則a+10° =-10° , a+0° =-20° , a -5° = -25° 。 圖6是本發(fā)明實施例9的STGS,實施例6的CNGS,實施例7的LGN零溫度補償切 型80(TC范圍內(nèi)機電耦合系數(shù)(縱坐標)隨溫度的變化圖。
具體實施例方式
實驗儀器說明HP4284阻抗分析儀,美國惠普公司生產(chǎn),型號4294。
實施例1 :鉭酸鎵鑭晶體零溫度補償切型 1.如圖l所示,鉭酸鎵鑭晶體正的dn的方向取為X的正方向,Y,Z方向根據(jù)右手 螺旋法則確定。YXltw(a)即厚度方向為Y,長度方向為X,以長度方向,即X方向按右手螺 旋法則旋轉(zhuǎn)a角度,a =-20° ,按以上方法加工LGT切型樣品YXltw(-20° ),樣品尺寸 為1. 5X9. 0X9. Omm3。 2.在LGT切型樣品厚度方向上鍍鉑金電極,電極厚度為200nm,將鍍鉑金的樣品器 件置于程序控制升溫爐中測試頻率溫度特性,消除電磁干擾,溫度范圍設(shè)為20-500°C。使 用HP4284阻抗分析儀測定由壓電常數(shù)d26激發(fā)的厚度切變振動模式,準確測量彈性常數(shù)c66 的諧振反諧振頻率,記錄晶片在溫度范圍內(nèi)的阻抗,諧振反諧振頻率隨溫度的變化,有關(guān)數(shù) 據(jù)繪制為圖2所示。 重復以上步驟,分別加工LGT切型樣品YXltw(+10 ° ) 、 YXltw(-5 ° )、 YXltw(-15° )、YXltw(-30° )進行測定,結(jié)果證明在-30°《a《+10°時,在20-500。C 范圍內(nèi),頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控在20卯m廣C以內(nèi)。
實施例2 : 如實施例1,所不同的是,還采用YXltw(-25 ° )切型,樣品尺寸為 0. 6X 12. OX 12. 0mm3的頻率器件,20-50(TC范圍內(nèi)測定其頻率隨溫度的變化,得到頻率器 件的溫度穩(wěn)定性在8ppm廣C以內(nèi),參見圖3所示。
實施例3 : 如實施例1,所不同的是,樣品角度加工為YXltw(-lO。),樣品尺寸為 0. 6X9. 0X9. 0mm3的頻率器件,20-500°C范圍內(nèi)測定其頻率隨溫度的變化,得到頻率器件 的溫度穩(wěn)定性在15卯m廣C以內(nèi),參見圖3所示。
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實施例4 : 如實施例l,所不同的是晶片樣品為CTGS,加工YXltw(a ) , a = -20° ,CTGS晶片 尺寸為1. OX 10. OX 10. 0mm 封裝成頻率器件,20-80(TC范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器 件的溫度穩(wěn)定性可控在15卯m廣C以內(nèi),參見圖4所示。
實施例5 : 如實施例4,所不同的是,力n工CTGS樣品YXltw(-25 ° ),晶片尺寸 0. 6X 12. OX 12. 0mm 20-80(TC范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控 在18卯m廣C以內(nèi),參見圖5所示。 同樣的方法加工CTGS樣品YXltw(-20° )禾P CTGS樣品YXltw (-10° ) , 20-800°C 范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控在30ppm/°C以內(nèi),參見圖5所示。
實施例6 : 如實施例4,所不同的是,加工CNGS樣品YXltw(-25 ° ) , 1. 5X9. 0X9. Omm3, 20-80(TC范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控在30ppm/°C以內(nèi)。機電 耦合系數(shù)隨溫度的變化率如圖6所示。
實施例7 : 如實施例1,所不同的是,加工LGN樣品YXltw(+5 ° ) , 1. 5X9. 0X9. Omm3, 20-50(TC范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控在20ppm/°C以內(nèi),機電 耦合系數(shù)隨溫度的變化率如圖6所示。
實施例8: 如實施例1,所不同的是,加工LGS樣品YXltw(+10° ) , 1. 5X9. 0X9. Omm3, 20-50(TC范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控在15ppm/°C以內(nèi)。
實施例9 : 如實施例1,所不同的是,加工STGS樣品YXltw(-70 ° ) , 1. 5X9. 0X9. Omm3, 20-80(TC范圍內(nèi)測定頻率溫度變化,頻率器件的溫度穩(wěn)定性均可控在30ppm/°C以內(nèi),機電 耦合系數(shù)隨溫度的變化率如圖6所示。
權(quán)利要求
硅酸鎵鑭系列晶體切型,其特征在于,對于32點群的硅酸鎵鑭系列晶體,正的d11的方向取為x的正方向,y、z方向根據(jù)右手螺旋法則確定;晶體厚度方向為Y,長度方向為X,以X方向按右手螺旋法則旋轉(zhuǎn)α角度,記為YXltw(α),-90°<α<+20°,+α為逆時針旋轉(zhuǎn),-α為順時針旋轉(zhuǎn);切型尺寸比例為厚度∶寬度∶長度=0.2~2∶6~12∶6~12;優(yōu)選的,切型樣品尺寸比例為厚度∶寬度∶長度=1.5∶9∶9。
2. 如權(quán)利要求i所述的硅酸鎵鑭系列晶體切型,其特征在于,對于硅酸鎵鑭晶體(LGS),旋轉(zhuǎn)角度-IO。 < a <+20° 。
3. 如權(quán)利要求l所述的硅酸鎵鑭系列晶體切型,其特征在于,對于鈮酸鎵鑭晶體 (LGN),旋轉(zhuǎn)角度-IO。 < a <+20° 。
4. 如權(quán)利要求l所述的硅酸鎵鑭系列晶體切型,其特征在于,對于鉭酸鎵鑭(LGT)晶 體,旋轉(zhuǎn)角度-30° < a < +10° 。
5. 如權(quán)利要求1所述的硅酸鎵鑭系列晶體切型,其特征在于,對于 Ca3TaGa3Si2014(CTGS)或Ca3NbGa3Si2014(CNGS)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-40。 < a < 0° 。
6. 如權(quán)利要求1所述的硅酸鎵鑭系列晶體切型,其特征在于,對于 Sr3TaGa3Si2014(STGS)或Sr3NbGa3Si2014(SNGS)晶體,旋轉(zhuǎn)角度-90。 < a <-30° 。
7. 權(quán)利要求l-6任一項所述的硅酸鎵鑭系列晶體零溫度補償切型的應用,用于高溫傳 感器中作為頻率器件,在硅酸鎵鑭系列晶體零溫度補償切型厚度方向上鍍鉑金電極,電極 厚度為200-220nm。
8. 如權(quán)利要求7所述的硅酸鎵鑭系列晶體零溫度補償切型的應用,其特征在于,硅酸 鎵鑭系列晶體的使用溫度范圍如下LGS、LGN或LGT使用溫度小于600°C;CTGS、CNGS、STGS、 SNGS、 CNAS或CTAS使用溫度小于900°C 。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種硅酸鎵鑭系列晶體高溫零溫度補償切型及應用。對于32點群的硅酸鎵鑭系列晶體,正的d11的方向取為x的正方向,y、z方向根據(jù)右手螺旋法則確定;晶體厚度方向為Y,長度方向為X,以X方向按右手螺旋法則旋轉(zhuǎn)α角度,記為YXltw(α),-90°<α<+20°,+α為逆時針旋轉(zhuǎn),-α為順時針旋轉(zhuǎn);切型尺寸比例為厚度∶寬度∶長度=0.2~2∶6~12∶6~12。本發(fā)明的硅酸鎵鑭系列晶體高溫零溫度補償切型和頻率器件具有頻率穩(wěn)定性高,適應溫度范圍廣,晶片加工簡單的特點。
文檔編號C30B29/34GK101775657SQ20101001181
公開日2010年7月14日 申請日期2010年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月7日
發(fā)明者于法鵬, 尹鑫, 張樹君, 段秀蘭, 潘立虎, 袁多榮, 趙顯 , 郭世義 申請人:山東大學
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