專利名稱：具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種電漿產(chǎn)生裝置，更特定言之，本發(fā)明是關(guān) 于一種具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置。
背景技術(shù)：
電漿的使用目前已經(jīng)商業(yè)化而可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與
TFT-LCD制程中的蝕刻、清洗與光阻灰化等步驟以及輔助化學(xué) 氣相沉積反應(yīng)中的氮化硅膜、非晶硅膜、微晶硅膜、二氧化硅膜、 鉆石膜、類鉆膜以及納米碳管成長制程。此外，于其它一般民生 用品的制造工業(yè)中，電漿更可應(yīng)用于防與排汗布料的表面處理。
一般較常使用的電漿產(chǎn)生方式是采用直流放電制程、包含低 頻及中頻的射頻放電制程與微波放電制程，其中低頻及中頻放電 所利用的頻率范圍是自數(shù)KHz至數(shù)MHz之間，微波放電所采用 的頻率則通常是2.45GHz,且微波放電制程因所須的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)成 本較低而較受產(chǎn)業(yè)界所采行。
送天線提供微波而制造電漿，進(jìn)而于輔助化學(xué)氣相沉積反應(yīng)中產(chǎn) 生如鉆石膜或類鉆膜的鍍膜，其中由于在輔助化學(xué)氣相沉積過程 中所產(chǎn)生的該鍍膜很容易會(huì)附著于處理腔室的內(nèi)部腔壁，并造成 處理腔室中微波輸入端的有效泄露區(qū)間縮減而導(dǎo)至電漿有效強(qiáng) 度相應(yīng)減小，因此為了能維持電漿的有效強(qiáng)度而獲得良好品質(zhì)的 鍍膜，需要使造成微波有效泄露區(qū)間縮減的鍍膜得以被及時(shí)清 除。
職是之故，由于目前電漿產(chǎn)生方式具上述缺失，因此本案申
請(qǐng)人有鑒于已知技術(shù)問題改善的所需，乃經(jīng)悉心試驗(yàn)與研究，并 一本鍥而不舍的精神，終于創(chuàng)作出本案"具清潔功能的電漿產(chǎn)生 裝置"。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明一方面提供一種電漿產(chǎn)生裝置以提供一 電漿以清潔 一絕緣板，該電漿產(chǎn)生裝置包含至少一電磁波產(chǎn)生器與一可動(dòng)部 件，該電磁波產(chǎn)生器用以透過該絕緣板以產(chǎn)生該電漿，該可動(dòng)部 件則可結(jié)合于該絕緣板并形成一封閉空間而容置該電漿，以使該 電漿清潔該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件連接于一幫浦抽氣系統(tǒng)，該電漿 與該絕緣板表面的污垢產(chǎn)生物理性或化學(xué)性作用，而將該污垢由 該絕緣板表面剝離成 一 氣態(tài)產(chǎn)物，以經(jīng)由該幫浦抽氣系統(tǒng)將該氣 態(tài)產(chǎn)物排出于該封閉空間之外，而達(dá)到清潔該絕緣板的作用。
根據(jù)上述構(gòu)想，該電漿產(chǎn)生裝置，更包含一處理腔室，其中 該絕緣板是嵌于該處理腔室的 一 側(cè)壁，該電磁波產(chǎn)生器是設(shè)置于 該處理腔室之外，而該可動(dòng)部件則是設(shè)置于該處理腔室之內(nèi)，且 一氣體是通入于該封閉空間中。
根據(jù)上述構(gòu)想，該電漿產(chǎn)生裝置，更包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)， 其結(jié)合于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的 一 側(cè)以在該處理腔室外形成一 外掛式屏蔽空間，其中該電磁波產(chǎn)生器可產(chǎn)生 一 電磁波于該外掛
式屏蔽空間，且該電；茲波穿透該絕緣;板以進(jìn)入該處理腔室，而解 離該處理腔室中的該氣體以產(chǎn)生該電漿。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件的 一側(cè)邊是連接于該側(cè)壁而使該 可動(dòng)部件為可擺動(dòng)以結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件是沿垂直于該絕緣板的 一路徑方 向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板鄰近于該電漿的 一 側(cè)。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件是沿平行于該絕緣板的 一路徑方
向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板鄰近于該電漿的 一 側(cè)。
根據(jù)上述構(gòu)想，該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的 一 側(cè)具有 一 電；茲波控 制板，該電磁波控制板包含至少一開口及用以遮蔽該開口的一遮 蔽板，且該遮蔽板相對(duì)于該電磁波控制板的位置是可以纟皮調(diào)整而 改變?cè)撻_口 #皮遮蔽的面積，以控制 一 電f茲波沿該電》茲波控制纟反長 軸方向的 一 強(qiáng)度。
本發(fā)明 一 方面提供 一 種電漿產(chǎn)生裝置，以提供 一 電漿以清潔 一絕緣板，該電漿產(chǎn)生裝置包含至少一電漿源與一可動(dòng)部件，該 電漿源是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的 一 第 一 側(cè)而用以透過該絕 緣板而產(chǎn)生該電漿，該可動(dòng)部件則是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿源 的 一第二側(cè)，以結(jié)合于該絕緣板并形成一封閉空間而容置該電 漿，以使該電漿清潔該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該電漿產(chǎn)生裝置更包含一處理腔室 絕緣板是嵌于該處理腔室的 一 側(cè)壁，且該絕緣板的該第 于該處理腔室之外。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件的 一 側(cè)邊是連接于該側(cè)壁而使該 可動(dòng)部件為可擺動(dòng)以結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件是沿垂直于該絕緣板的 一路徑方 向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件是沿平行于該絕緣板的 一路徑方 向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該電漿產(chǎn)生裝置更包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)，以 結(jié)合于該絕緣板而容置該電漿源。
根據(jù)上述構(gòu)想，該電漿源可為一天線，該電漿源與該絕緣板 之間具有 一 電》茲波控制板，且該電^茲波控制^反包含至少 一 開口 ， 以控制該電磁波沿該電磁波控制板長軸方向的 一 強(qiáng)度。
本發(fā)明 一 方面提供一種具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置，用以提 供一 電漿以清潔 一絕緣板，該電漿產(chǎn)生裝置包含用以提供一 第一
,其中該 一側(cè)是位 電磁波的至少 一 第 一 天線、用以提供 一 第二電磁波的至少 一 第二 天線與 一 可動(dòng)部件，其中該第 一 電；茲波與該第二電f茲波相互耦合 于該第 一 天線與該第二天線的 一 重迭區(qū)域而產(chǎn)生該電漿，且該第 一天線與該第二天線是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的 一 第 一 側(cè)而 該可動(dòng)部件則位于該絕緣板遠(yuǎn)離該第 一 天線與該第二天線的一 第二側(cè)，以結(jié)合于該絕緣板并形成一封閉空間而容置該電漿，以 使該電漿清潔該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該電漿產(chǎn)生裝置更包含一處理腔室，其中該 絕緣板是嵌于該處理腔室的 一 側(cè)壁，且該絕緣板的該第 一 側(cè)是位 于該處理腔室之外。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件的 一 側(cè)邊是連接于該側(cè)壁而使該 可動(dòng)部件為可擺動(dòng)以結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件是沿垂直于該絕緣板的 一路徑方 向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該可動(dòng)部件是沿平行于該絕緣板的 一路徑方 向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板。
根據(jù)上述構(gòu)想，該重迭區(qū)域與該絕緣板之間可具有 一 電磁波 控制板，且該電^茲波控制板包含至少 一 開口 ，以控制該第 一 電；茲 波與該第二電磁波沿該電磁波控制板長軸方向的 一 強(qiáng)度。
本案提供的一種具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置，是利用電漿源 與可動(dòng)部件而產(chǎn)生具有均勻強(qiáng)度的電漿以清潔絕緣板，其改善已 用技術(shù)中，電漿產(chǎn)生裝置在輔助化學(xué)氣相沉積過程中所產(chǎn)生的鍍 膜很容易附著于處理腔室的內(nèi)部腔壁而造成處理腔室中電磁波 輸入端的絕緣板的有效泄露區(qū)間縮減并導(dǎo)至電漿有效強(qiáng)度相應(yīng) 減小的現(xiàn)象，制造成本極低而應(yīng)用性極高，實(shí)具產(chǎn)業(yè)的價(jià)值。


圖1為本案第一較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置
的透視圖。
圖2為本案第二較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置 的透視圖。
圖3為本案第三較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置 的透視圖。
圖4為本案第四較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置 的透視圖。
具體實(shí)施例方式
以下針對(duì)本案電漿產(chǎn)生裝置的較佳實(shí)施例進(jìn)行描述，請(qǐng)參考 附圖，但實(shí)際的配置及所采行的方法并不必須完全符合所描述的 內(nèi)容，熟習(xí)本技藝者當(dāng)能在不脫離本案的實(shí)際精神及范圍的情況
下，做出種種變化及修改。
請(qǐng)參閱圖1，其為本案第一較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿 產(chǎn)生裝置的透視圖。該電漿產(chǎn)生裝置IO主要是包含了一處理腔 室20、 一絕緣板12、 一可動(dòng)部件14與一電^茲波產(chǎn)生器13，其 中該絕緣板12是嵌于該處理腔室20的一側(cè)壁21，該電》茲波產(chǎn) 生器13是設(shè)置于該處理腔室20之外，以透過該絕緣板12產(chǎn)生 一電漿11 ，而該可動(dòng)部件14則是設(shè)置于該處理腔室20之內(nèi)， 因此該可動(dòng)部件14可結(jié)合于該絕緣板12并形成一封閉空間15 而容置該電漿11;進(jìn)一步地，該封閉空間15中可包含一個(gè)以上 可由外部進(jìn)行開關(guān)控制的通氣閥，該通氣閥連接于管路以適時(shí)通 入必要的制程氣體于該封閉空間15內(nèi)的特定或非特定區(qū)域，而 所通入的制程氣體在封閉空間15中被電磁波產(chǎn)生器13所產(chǎn)生 的電磁波解離成高能活性粒子的電漿態(tài)，高能活性粒子則可對(duì)絕 緣板12表面產(chǎn)生物理性或化學(xué)性作用，將污染物由絕緣板12 表面剝離成氣態(tài)產(chǎn)物，再藉由該可動(dòng)部件14所另包含的連接于 一可控制開關(guān)的活動(dòng)閥門的一幫浦抽氣系統(tǒng)50,而將在封閉空
入的未反應(yīng)制程氣體經(jīng)由可控制開關(guān)的活動(dòng)閥門與所連接的幫 浦抽氣系統(tǒng)50排除于該封閉空間15之外，達(dá)到清潔該絕緣板
12的作用。
較佳地，為可簡易地進(jìn)一步保養(yǎng)該絕緣板12,該電漿產(chǎn)生 裝置10更可相應(yīng)包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)16，其可結(jié)合于該絕緣板 12遠(yuǎn)離該電漿11的一第一側(cè)以形成一外掛式屏蔽空間17,因此 該電磁波產(chǎn)生器13便可產(chǎn)生一電i茲波于該外掛式屏蔽空間17， 以使該電；茲波可透過該絕緣板12產(chǎn)生該電漿11于可結(jié)合于該 絕緣板12的該可動(dòng)部件14所形成的該封閉空間15中而清潔該 絕緣板12,其中本發(fā)明所具有一特點(diǎn)為，根據(jù)該電漿產(chǎn)生裝置 10的該處理腔室20中實(shí)際配置的所需，該可動(dòng)部件14可以是 藉由一升降機(jī)構(gòu)40而沿垂直于該絕緣板12的一路徑方向22移 動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板12鄰近于該電漿11的一第二側(cè)以形成該 封閉空間15;進(jìn)一步地，于圖1中沿觀測(cè)方向41,已結(jié)合于該 絕緣板12的該可動(dòng)部件14及該可拆卸式結(jié)構(gòu)16可為圖4所示。
請(qǐng)進(jìn)一步參閱圖1,為使所產(chǎn)生的該電漿11可具有均勻的 強(qiáng)度而清潔該絕緣板12，該絕緣板12遠(yuǎn)離該電漿11的該第一 側(cè)亦包含可位于該可拆卸式結(jié)構(gòu)16內(nèi)的 一 電-茲波控制斧反18，其 中該電i茲波控制板18包含至少 一開口 19,以控制該電磁波產(chǎn)生 器13所提供的該電磁波沿該電磁波控制板18長軸方向的強(qiáng)度， 以達(dá)到藉由具有均勻強(qiáng)度的該電漿11而有效清潔該絕緣板12 的目的。
請(qǐng)參閱圖2，其為本案第二較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿 產(chǎn)生裝置的透視圖。該電漿產(chǎn)生裝置10可用以產(chǎn)生一電漿11 而清潔一絕緣板12,該電漿產(chǎn)生裝置IO主要是包含了一處理腔 室20、該絕緣板12、 一可動(dòng)部件14與適用于直流;故電制程、射 頻放電制程與微波放電制程其中之一的至少一電漿源51,其中 該絕緣板12是嵌于該處理腔室20的一側(cè)壁21,該電漿源51可
設(shè)置于該絕緣板12遠(yuǎn)離該電漿11的 一第 一側(cè)，以透過該絕緣板
12產(chǎn)生 一 電漿11,而該可動(dòng)部件14則是可位于該絕續(xù)4反12遠(yuǎn) 離該電漿源51的 一 第二側(cè)而設(shè)置于該處理腔室20之內(nèi)，因此該 可動(dòng)部件14可結(jié)合于該絕緣板12遠(yuǎn)離該電漿源51的該第二側(cè) 以形成 一封閉空間15而容置該電漿11，進(jìn)而^f吏該電漿11清潔 該絕緣板12。
較佳地，為可簡易地進(jìn)一步保養(yǎng)該絕緣板12,該電漿產(chǎn)生 裝置10更可相應(yīng)包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)16,其結(jié)合于該絕緣板12 遠(yuǎn)離該電漿11的該第一側(cè)以形成一外掛式屏蔽空間17而容置 該電漿源51，以使該電漿源51所產(chǎn)生的 一 電-茲波可透過該絕緣 板12產(chǎn)生該電漿11于該封閉空間15中而清潔該絕緣板12,其 中本發(fā)明所具有一特點(diǎn)為，根據(jù)該電漿產(chǎn)生裝置10的該處理腔 室20中實(shí)際配置的所需，該可動(dòng)部件14可以是沿平行于該絕緣 板12的 一路徑方向22移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板12遠(yuǎn)離該電漿源 51的該第二側(cè)以形成該封閉空間15而容置該電漿11。
此外，當(dāng)該電漿源5 1為 一 天線時(shí)，為使所產(chǎn)生的該電漿11 可具有均勻的強(qiáng)度而清潔該絕緣板12,該絕緣板12與該電漿源 5 1之間包含可位于該可拆卸式結(jié)構(gòu)16內(nèi)的 一 電》茲波控制寺反1 8 , 其中該電；茲波控制4反18包含至少 一開口 19,且該開口 19的面 積是可通過外部控制裝置或經(jīng)由人為操作而被調(diào)整，以控制該電 漿源51所提供的該電磁波沿該電磁波控制板18長軸方向的強(qiáng) 度，以達(dá)到藉由具有均勻強(qiáng)度的該電漿11而有效清潔該絕緣板 12的目的。
請(qǐng)參閱圖3,其為本案第三較佳實(shí)施例中具清潔功能的電漿 產(chǎn)生裝置的透視圖。具清潔功能的該電漿產(chǎn)生裝置10可用以產(chǎn) 生一電漿11而清潔一絕緣板12，具清潔功能的該電漿產(chǎn)生裝置 10主要是包含了 一處理腔室20、該絕緣^反12、 一可動(dòng)部件14、 用以產(chǎn)生 一 第 一 電磁波的至少 一 第 一 天線26與用以產(chǎn)生 一 第二 電磁波的至少一第二天線27，其中該絕緣板12是嵌于該處理腔
室20的 一 側(cè)壁21,該第 一 天線26與該第二天線27分別是電連 接于一電磁波產(chǎn)生器13且設(shè)置于該絕緣板12遠(yuǎn)離該電漿11的 一第 一 側(cè)，而該第 一 電^茲波與該第二電磁波是相互耦合于該第一 天線26與該第二天線27的一重迭區(qū)域28，以透過該絕纟彖才反12 產(chǎn)生該電漿11，而該可動(dòng)部件14則是位于該絕緣板12遠(yuǎn)離該 第一天線26與該第二天線27的一第二側(cè)而設(shè)置于該處理腔室 20之內(nèi)，因此該可動(dòng)部件14可結(jié)合于該絕緣板12鄰近該電漿 11的該第二側(cè)以形成一封閉空間15而容置該電漿11 ，進(jìn)而4吏該 電漿11清潔該絕緣板12。
較佳地，為可簡易地進(jìn)一步保養(yǎng)該絕緣板12,該電漿產(chǎn)生 裝置IO更可相應(yīng)包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)16,其結(jié)合于該絕緣板12 遠(yuǎn)離該電漿11的該第 一 側(cè)以形成 一 外掛式屏蔽空間17而容置 該第一天線26與該第二天線27,而耦合于該重迭區(qū)域28的該 第一電,茲波26與該第二電磁波27可透過該絕緣板12產(chǎn)生該電 漿11于該封閉空間15中而清潔該絕緣板12;其中本發(fā)明所具 有 一 特點(diǎn)為，根據(jù)該電漿產(chǎn)生裝置10的該處理腔室20中實(shí)際配 置的所需，該可動(dòng)部件14的一側(cè)邊29可以是連接于處理腔室 20的該側(cè)壁21而使該可動(dòng)部件14為可沿一3各徑方向22擺動(dòng)以 結(jié)合于該絕緣板12遠(yuǎn)離該第 一天線26與該第二天線27的該第 二側(cè)，以形成該封閉空間15而容置該電漿11 。
此外，為使所產(chǎn)生的該電漿11可具有均勻的強(qiáng)度而清潔該 絕緣壽反12 ，該絕纟彖寺反12及該重迭區(qū)域28之間亦包含可位于該 可拆卸式結(jié)構(gòu)16內(nèi)的一電》茲波控制^反18,其中該電》茲波控制一反 18包含至少一開口 19,且該開口 19的面積是可通過經(jīng)外部控制 裝置或人為操作所調(diào)整的 一 遮蔽板30而被改變，以控制該第一 天線26與該第二天線27所提供的該第一與第二電磁波沿該電 磁波控制板18長軸方向的強(qiáng)度，以達(dá)到藉由具有均勻強(qiáng)度的該 電漿11而有效清潔該絕緣板12的目的。
綜上所述，本案確實(shí)可提供一種具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝
置，是利用電漿源與可動(dòng)部件而產(chǎn)生異有均勻強(qiáng)度的電漿以清潔 絕緣板，其改善已用技術(shù)中，電漿產(chǎn)生裝置在輔助化學(xué)氣相沉積 過程中所產(chǎn)生的鍍膜很容易附著于處理腔室的內(nèi)部腔壁而造成 處理腔室中電；茲波輸入端的絕緣板的有效泄露區(qū)間縮減并導(dǎo)至 電漿有效強(qiáng)度相應(yīng)減小的現(xiàn)象，而開發(fā)出 一種組合了包含電漿源 與可動(dòng)部件以產(chǎn)生電漿而清潔絕緣板的電漿產(chǎn)生裝置，制造成本 極低而應(yīng)用性極高，實(shí)具產(chǎn)業(yè)的價(jià)值，依法提出發(fā)明專利申請(qǐng)。
以上所述是利用較佳實(shí)施例詳細(xì)說明本案，而非限制本案的 范圍，因此熟知此技藝的人士應(yīng)能明了 ，適當(dāng)而作些微的改變與 調(diào)整，仍將不失本案的要義所在，亦不脫離本案的精神和范圍， 故都應(yīng)視為本案的進(jìn)一步實(shí)施狀況。
權(quán)利要求
1、一種電漿產(chǎn)生裝置，用以提供一電漿以清潔一絕緣板，該電漿產(chǎn)生裝置包含至少一電磁波產(chǎn)生器，用以透過該絕緣板以產(chǎn)生該電漿；以及一可動(dòng)部件，用以結(jié)合于該絕緣板并形成一封閉空間而容置該電漿，以使該電漿清潔該絕緣板。
2 、如權(quán)利要求1所述的電漿產(chǎn)生裝置，其中該可動(dòng)部件連 接于 一 幫浦抽氣系統(tǒng)，該電漿與該絕緣板表面的污垢產(chǎn)生物理性 或化學(xué)性作用，而將該污垢由該絕緣板表面剝離成一氣態(tài)產(chǎn)物， 經(jīng)由該幫浦抽氣系統(tǒng)將該氣態(tài)產(chǎn)物排出于該封閉空間之外，而達(dá) 到清潔該絕緣板的作用。
3 、如權(quán)利要求1所述的電漿產(chǎn)生裝置，更包含 一 處理腔室， 其中該絕緣板是嵌于該處理腔室的 一 側(cè)壁，該電磁波產(chǎn)生器是設(shè) 置于該處理腔室之外，而該可動(dòng)部件則是設(shè)置于該處理腔室之 內(nèi)，且一氣體是通入于該封閉空間中，其中該電漿產(chǎn)生裝置更包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)，其結(jié)合于該絕緣 板遠(yuǎn)離該電漿的 一 側(cè)，以在該處理腔室外形成 一 外掛式屏蔽空 間，其中該電磁波產(chǎn)生器可產(chǎn)生一電磁波于該外掛式屏蔽空間， 且該電磁波穿透該絕緣板以進(jìn)入該處理腔室，而解離該處理腔室 中的該氣體以產(chǎn)生該電漿；及/或該可動(dòng)部件的 一 側(cè)邊是連4妄于該側(cè)壁而 <吏該可動(dòng)部件為可 擺動(dòng)以結(jié)合于該絕緣板。
4、如權(quán)利要求1所述的電漿產(chǎn)生裝置，其中該可動(dòng)部件是沿垂直于該絕緣板的一^各徑方向移動(dòng)而結(jié) 合于該絕緣板鄰近于該電漿的 一側(cè)；該可動(dòng)部件是沿平行于該絕緣板的 一 路徑方向移動(dòng)而結(jié)合于該絕緣板鄰近于該電漿的 一 側(cè)；或該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的 一 側(cè)具有 一 電磁波控制板，該電磁 波控制板包含至少 一 開口及用以遮蔽該開口的 一 遮蔽板，且該遮 蔽板相對(duì)于該電》茲波控制板的位置是可以被調(diào)整而改變?cè)撻_口 被遮蔽的面積，以控制 一 電磁波沿該電磁波控制板長軸方向的一強(qiáng)度。
5、 一種電漿產(chǎn)生裝置，用以提供一電漿以清潔一絕緣板， 該電漿產(chǎn)生裝置包含至少一電漿源，其中該電漿源是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿 的 一 第 一 側(cè)；以及一可動(dòng)部件，位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿源的一第二側(cè)，用 以結(jié)合于該絕緣板，并形成一封閉空間而容置該電漿源所產(chǎn)生的 一電漿，以使該電漿清潔該絕緣板。
6、 如權(quán)利要求5所述的電漿產(chǎn)生裝置，更包含一處理腔室， 其中該絕緣板是嵌于該處理腔室的 一 側(cè)壁，且該絕緣板的該第一 側(cè)是位于該處理腔室之外，其中該可動(dòng)部件的 一 側(cè)邊是連接于該 側(cè)壁而使該可動(dòng)部件為可擺動(dòng)以結(jié)合于該絕緣板。
7、 如權(quán)利要求5所述的電漿產(chǎn)生裝置，其中該電漿產(chǎn)生裝置更包含一可拆卸式結(jié)構(gòu)，以結(jié)合于該絕緣 板而容置該電漿源；或/及該電漿源可為 一 天線，且該電漿源與該絕緣板之間具有一 電^茲波控制板，該電》茲波控制板包含至少一開口 ，以控制該電》茲 波沿該電磁波控制板長軸方向的 一 強(qiáng)度。
8、 一種具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置，用以提供一電漿以清潔一絕緣板，該具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置包含至少一第一天線，用以提供一第一電f茲波；至少一第二天線，用以提供一第二電磁波，其中該第一電 磁波與該第二電磁波相互耦合于該第 一 天線與該第二天線的一 重迭區(qū)域而透過該絕緣板產(chǎn)生該電漿，且其中該第 一 天線與該第 二天線是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的 一 第 一側(cè)；以及一可動(dòng)部件，位于該絕緣板遠(yuǎn)離該第一天線與該第二天線 的 一 第二側(cè)，用以結(jié)合于該絕緣板并形成 一 封閉空間而容置該電 漿，以使該電漿清潔該絕緣板。
9、 如權(quán)利要求8所述的具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置，其中 該可動(dòng)部件是沿 一 第 一 路徑方向與 一 第二路徑方向其中之 一 而 結(jié)合于該絕緣板，該第一路徑方向是垂直于該絕緣板，而該第二 路徑方向是平行于該絕緣板。
10、 如權(quán)利要求8所述的具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置，其中 該重迭區(qū)域與該絕緣板之間具有 一 電》茲波控制板，且該電》茲波控 制板包含至少 一 開口 ，以控制該第 一 電磁波與該第二電磁波沿該 電磁波控制 一反長軸方向的 一 強(qiáng)度。
全文摘要
本案揭示一種具清潔功能的電漿產(chǎn)生裝置，用以提供一電漿以清潔一絕緣板，該電漿產(chǎn)生裝置包含至少一電漿源與一可動(dòng)部件，其中該電漿源是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿的一第一側(cè)以透過該絕緣板而產(chǎn)生該電漿，該可動(dòng)部件則是位于該絕緣板遠(yuǎn)離該電漿源的一第二側(cè)，以結(jié)合于該絕緣板并形成一封閉空間而容置該電漿，進(jìn)而使該電漿清潔該絕緣板。本發(fā)明能有效改善電漿產(chǎn)生裝置在輔助化學(xué)氣相沉積過程中所產(chǎn)生的鍍膜很容易附著于處理腔室的內(nèi)部腔壁而造成處理腔室中電磁波輸入端的絕緣板的有效泄露區(qū)間縮減并導(dǎo)至電漿有效強(qiáng)度相應(yīng)減小的現(xiàn)象。
文檔編號(hào)H05H1/46GK101348899SQ20071013055
公開日2009年1月21日 申請(qǐng)日期2007年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月16日
發(fā)明者俞志杰, 寇崇善, 林瑞堉, 王騰緯, 郭明村, 黃崇杰 申請(qǐng)人:臺(tái)達(dá)電子工業(yè)股份有限公司