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一種低照度cmos信噪比測試裝置的制造方法

文檔序號:9649251閱讀:779來源:國知局
一種低照度cmos信噪比測試裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種微光測試技術,特別是一種低照度CMOS信噪比測試裝置。
【背景技術】
[0002]與其他固體微光器件相比,低照度CMOS圖像傳感器具有成本、功耗及體積優(yōu)勢,是固體微光器件發(fā)展的重要方向。低照度CMOS的信噪比是評價低照度CMOS噪聲性能的主要參數(shù)。
[0003]在國內(nèi),已經(jīng)有一些單位開展了低照度CMOS性能參數(shù)測試的研究工作,但是還沒有建立低照度CMOS性能參數(shù)的標準,也沒有關于低照度CMOS信噪比測試裝置的相關文獻。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種低照度CMOS信噪比測試裝置,該裝置結(jié)構(gòu)簡單、易于操作,可以方便、快捷地測得低照度CMOS的信噪比值。
[0005]測試裝置包括測試暗箱和與測試暗箱前端連接的積分球,積分球設有兩個入光孔,還包括兩個光源,連接第一光源和積分球第一入光孔的第一雙光闌機構(gòu),一前置積分球,連接第二光源和前置積分球入光孔的第二雙光闌機構(gòu),連接前置積分球出光孔和積分球第二入光孔的單光闌調(diào)節(jié)機構(gòu),設置于測試暗箱入射孔處的透鏡調(diào)焦機構(gòu),連接透鏡調(diào)焦機構(gòu)和積分球出光孔的靶標機構(gòu),及設置于測試暗箱后側(cè)光路上的CMOS探測面;所述前置積分球的尺寸小于積分球。
[0006]采用上述的測試裝置,所述雙光闌機構(gòu)包括與光源連接的右端蓋、隔板、與積分球或前置積分球入光孔連接的左端蓋、兩光闌;所述右端蓋、隔板、左端蓋組成一光路通道;所述右端蓋與隔板之間,左端蓋與隔板之間設有光闌縫隙,兩光闌分別置于兩光闌縫隙中;所述右端蓋、隔板、左端蓋、兩光闌通過長螺釘連接。
[0007]采用上述的測試裝置,所述單光闌調(diào)節(jié)機構(gòu)包括與前置積分球出光孔連接的右端蓋、與積分球入光孔連接的左端蓋、光闌、調(diào)節(jié)環(huán);所述右端蓋、左端蓋組成一光路通道;所述右端蓋、左端蓋之間設有光闌縫隙,光闌置于光闌縫隙中;所述調(diào)節(jié)環(huán)位于光闌縫隙中且沿光闌周向設置,且與調(diào)節(jié)光闌通光孔的手柄固定連接;所述右端蓋、左端蓋、光闌通過螺釘連接。
[0008]采用上述的測試裝置,所述靶標機構(gòu)包括固定筒、半月靶、標靶;所述標靶為一薄板,其表面設置圓形通光孔,通光孔上覆蓋有一帶圓形刻度環(huán)的透光薄片;所述半月靶為一薄板,其表面設置一半圓形通光孔;所述固定筒沿周向設置兩條靶縫,所述半月靶和標靶設置于靶縫中,且標靶上的圓形通光孔在半月靶上的投影與半圓形通光孔圓心重合。
[0009]采用上述的測試裝置,所述透鏡調(diào)焦機構(gòu)包括套筒、底座、后板、第一鏡頭、第二鏡頭、傳動裝置。底座固定于套筒前端且與靶標機構(gòu)連接,底座設置入光孔;固定于套筒后端且與測試暗箱入光孔連接的后板,后板設置出光孔;第一鏡頭設置于底座入光孔處;第二鏡頭設置于后板出光口處的;傳動裝置調(diào)節(jié)第二鏡頭成像位置;所述第一鏡頭的圓心在第二鏡頭上的投影與第二鏡頭圓心重合。所述傳動裝置包括:與第二鏡頭上的齒輪嚙合的小齒輪,驅(qū)動小齒輪旋轉(zhuǎn)的齒輪軸,設置于套筒外部的錐齒輪軸,及連接錐齒輪軸和齒輪軸的錐齒輪組。
[0010]本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比,具有以下優(yōu)點:本發(fā)明有兩個光路,一個光路是經(jīng)過小積分球后再通過大積分球,另一個光路只經(jīng)過大積分球,只通過大積分球可以輸出強光,先經(jīng)過小積分球再通過大積分球出弱光,兩個光路可以實現(xiàn)光強度的大動態(tài)范圍輸出。
[0011]下面結(jié)合說明書附圖對本發(fā)明做進一步描述。
【附圖說明】
[0012]圖1為本發(fā)明整體結(jié)構(gòu)示意圖,其中圖1(a)為主視圖,圖1(b)為俯視圖。
[0013]圖2為本發(fā)明雙光闌調(diào)節(jié)機構(gòu)示意圖,其中圖2(a)為立體圖,圖2(b)為剖視圖。
[0014]圖3為本發(fā)明單光闌調(diào)節(jié)機構(gòu)示意圖,其中圖3(a)為立體圖,圖3(b)為剖視圖。
[0015]圖4為本發(fā)明的靶標結(jié)構(gòu)示意圖,其中圖4(a)為整體軸測圖,圖4(b)為靶標,圖4(c)為半月革巴。
[0016]圖5為本發(fā)明的共輒透鏡調(diào)節(jié)機構(gòu)示意圖,其中圖5(a)為主視圖的剖視圖,圖5(b)為左視圖的剖視圖。
【具體實施方式】
[0017]結(jié)合圖1(a)、(b),一種低照度CMOS信噪比測試裝置,包括兩個光源1、測試暗箱10和與測試暗箱10前端連接的積分球6,積分球6設有兩個入光孔,還包括兩個光源1、前置積分球5、第一雙光闌機構(gòu)2-1、第二雙光闌機構(gòu)2-2、單光闌調(diào)節(jié)機構(gòu)3、透鏡調(diào)焦機構(gòu)9、靶標機構(gòu)7、CM0S探測面。所述第一雙光闌機構(gòu)2-1連接第一光源和積分球6第一入光孔;所述第二雙光闌機構(gòu)2-2連接第二光源和前置積分球5入光孔;單光闌調(diào)節(jié)機構(gòu)3連接前置積分球5出光孔和積分球6第二入光孔,透鏡調(diào)焦機構(gòu)9設置于測試暗箱入射孔處;靶標機構(gòu)7連接透鏡調(diào)焦機構(gòu)9和積分球6出光孔;CMOS探測面設置于測試暗箱10后側(cè)光路上;所述前置積分球5的尺寸小于積分球6。所述光源1為鹵鎢燈。低照度CMOS探測面的后端連接計算機進行視頻采集和信號處理得到信噪比值
[0018]結(jié)合圖2(a) (b),本發(fā)明涉及的雙光闌機構(gòu)包括與光源連接的右端蓋2-1、隔板2_4、與積分球6或前置積分球5入光孔連接的左端蓋2-3、兩光闌2-5。所述右端蓋2-1、隔板2-4、左端蓋2-3分別為圓形板狀結(jié)構(gòu),沿軸向設置通孔,右端蓋2-1、隔板2-4、左端蓋
2-3組成一光路通道。所述右端蓋2-1與隔板2-4之間,左端蓋2-3與隔板2-4之間設有光闌縫隙,兩光闌分別置于兩光闌2-5縫隙中;所述右端蓋2-1、隔板2-4、左端蓋2-3、兩光闌通過長螺釘2-2固定連接。所述光闌2-5通過設置在外側(cè)的旋轉(zhuǎn)把手2-6轉(zhuǎn)動改變通光光闌光束的強度。
[0019]結(jié)合圖3(a) (b),本發(fā)明涉及的單光闌調(diào)節(jié)機構(gòu)3包括與前置積分球5出光孔連接的右端蓋3-1、與積分球6入光孔連接的左端蓋3-5、光闌3-4、調(diào)節(jié)環(huán)3-2。所述右端蓋
3-1、左端蓋3-5組成一光路通道;所述右端蓋3-1、左端蓋3-5之間設有光闌縫隙,光闌3-4置于光闌縫隙中;所述調(diào)節(jié)環(huán)3-2位于光闌縫隙中且沿光闌3-4周向設置,且與調(diào)節(jié)光闌通光孔的手柄3-6固定連接;所述右端蓋3-1、左端蓋3-5、光闌3-4通過螺釘3-3連接。
[0020]結(jié)合圖4(a),所述靶標機構(gòu)7包括固定筒7_1、半月靶7
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