本實(shí)用新型涉及等離子介質(zhì)阻擋放電電路。
背景技術(shù):
在液晶面板制造和柔性PCB板制造業(yè)中需要用到離子工業(yè)清洗設(shè)備,離子工業(yè)清洗設(shè)備需要設(shè)計(jì)等離子介質(zhì)阻擋放電電路,以產(chǎn)生等離子體。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的在于提供一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路,其可以產(chǎn)生等離子體,可應(yīng)用在離子工業(yè)清洗設(shè)備上。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路,包括介質(zhì)板和高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路;
所述介質(zhì)板的一側(cè)表面設(shè)有高電壓電極,
所述介質(zhì)板的另一側(cè)表面設(shè)有接地電極;
所述高電壓電極與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的高壓輸出端連接,
所述接地電極與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的接地端連接;
所述高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路設(shè)有控制高壓輸出的脈寬調(diào)制模塊。
優(yōu)選的,所述介質(zhì)板為云母片。
優(yōu)選的,所述高電壓電極和接地電極為合金片。
優(yōu)選的,所述脈寬調(diào)制模塊包括用于產(chǎn)生脈沖信號(hào)的555定時(shí)器。
優(yōu)選的,所述脈寬調(diào)制模塊包括作為控制高壓輸出開關(guān)的BUZ11開關(guān)管。
優(yōu)選的,所述高電壓電極、介質(zhì)板和接地電極在高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的驅(qū)動(dòng)下產(chǎn)生等離子體,放電過程發(fā)生在封閉大氣體里,放電間隙為4mm。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于:提供一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路,其可以產(chǎn)生等離子體,可應(yīng)用在離子工業(yè)清洗設(shè)備上。
本實(shí)用新型采用云母片作為介質(zhì),放在兩片合金片上,這個(gè)合金片就是電極,放電過程可發(fā)生在封閉大氣體里,高壓交流電頻率為30kHz上下,放電間隙為4mm. 等離子體就在介質(zhì)表面產(chǎn)生了。
本實(shí)用新型可用于等離子工業(yè)清洗設(shè)備,在液晶面板制造和柔性PCB板制造業(yè)中有廣泛的應(yīng)用。
本實(shí)用新型克服了市場上很多產(chǎn)品高壓不穩(wěn)控制頻率不穩(wěn)的特點(diǎn)。
本實(shí)用新型可以產(chǎn)生穩(wěn)定的10kv高壓,以及15kHz的頻率調(diào)制。
附圖說明
圖1是高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的示意圖;
圖2是高電壓電極、介質(zhì)板和接地電極的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案,而不能以此來限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
本實(shí)用新型具體實(shí)施的技術(shù)方案是:
如圖1和圖2所示,一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路,包括介質(zhì)板1和高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路;
所述介質(zhì)板1的一側(cè)表面設(shè)有高電壓電極2,
所述介質(zhì)板1的另一側(cè)表面設(shè)有接地電極3;
所述高電壓電極2與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的高壓輸出端連接,
所述接地電極3與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的接地端連接;
所述高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路設(shè)有控制高壓輸出的脈寬調(diào)制模塊。
所述介質(zhì)板1為云母片。
所述高電壓電極2和接地電極3為合金片。
所述脈寬調(diào)制模塊包括用于產(chǎn)生脈沖信號(hào)的555定時(shí)器。
所述脈寬調(diào)制模塊包括作為控制高壓輸出開關(guān)的BUZ11開關(guān)管。
所述高電壓電極2、介質(zhì)板1和接地電極3在高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的驅(qū)動(dòng)下產(chǎn)生等離子體,放電過程發(fā)生在封閉大氣體里,放電間隙為4mm。
以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。