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雙層降溫配電柜的制作方法

文檔序號(hào):11211324閱讀:753來源:國(guó)知局
雙層降溫配電柜的制造方法與工藝

本實(shí)用新型涉配電柜技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種雙層降溫配電柜。



背景技術(shù):

配電柜是配電系統(tǒng)的終極設(shè)備,現(xiàn)在的配電柜大多通過向腔內(nèi)輸送氣體進(jìn)行通風(fēng)散熱,而通入的氣流大多會(huì)有粉塵,且氣流不能根據(jù)外界溫度進(jìn)行較好的控制。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

為了解決上述問題,本實(shí)用新型提供一種雙層降溫配電柜。

本實(shí)用新型一種雙層降溫配電柜,包括柜體,所述柜體內(nèi)部設(shè)有設(shè)備腔,設(shè)備腔的外側(cè)設(shè)有通風(fēng)腔,設(shè)備腔側(cè)面設(shè)有多個(gè)送風(fēng)孔,配電柜底部設(shè)有通風(fēng)孔,通風(fēng)孔為與設(shè)備腔相通,各個(gè)通風(fēng)孔設(shè)有防塵罩,所述配電柜主體上方通過支桿連接頂板,頂板的頂部設(shè)有太陽能電池板,底部設(shè)有冷風(fēng)機(jī),冷風(fēng)機(jī)的出口設(shè)有粉塵過濾器,過濾器末端連接多條氣管,在箱體表面有控制氣管輸送氣流的開關(guān),氣管的末端與設(shè)備側(cè)面的送風(fēng)孔密封連接,氣管末端為向下的彎角,所述配電柜主體底部設(shè)有支架。

進(jìn)一步地,氣管末端向下彎角的范圍為60°到90°。

進(jìn)一步地,所述配電柜底部支架高度為10-15cm。

進(jìn)一步地,通風(fēng)孔防塵罩位于遠(yuǎn)離設(shè)備腔的底部。

本實(shí)用新型一種雙層降溫配電柜,與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn):

第一、本實(shí)用新型不需要散熱片結(jié)構(gòu)所以構(gòu)造簡(jiǎn)單;通過粉塵過濾器和氣管的設(shè)計(jì),設(shè)備腔以及通風(fēng)腔都大大降低了粉塵的累計(jì),且底部設(shè)有通風(fēng)孔保證了氣流的流通;通過控制氣管的數(shù)量保證了外界溫度不會(huì)對(duì)內(nèi)部設(shè)備的影響。

第二、氣管彎角的設(shè)置以及底部通過支角實(shí)現(xiàn)底部與地面一定距離,保證冷空氣自上而下的流通。

第三、防塵罩設(shè)置于底部底面上,可以阻止空氣中粉塵通過底部進(jìn)入設(shè)備腔。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖。

圖2為本實(shí)用新型外部結(jié)構(gòu)圖。

圖3為本實(shí)用新型底部結(jié)構(gòu)圖。

圖中1、柜體,2、設(shè)備腔, 3、通風(fēng)腔, 4、送風(fēng)孔 ,5、通風(fēng)孔 ,6、防塵罩 ,7、支桿8、太陽能電池板 9、冷風(fēng)機(jī), 10、過濾器 11、氣管, 12、開關(guān),13、支架。

具體實(shí)施方式

為了更好的理解本實(shí)用新型,下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的描述。

如圖1-3所示一種雙層降溫配電柜,包括柜體1,所述柜體內(nèi)部設(shè)有設(shè)備腔2,設(shè)備腔2的外側(cè)設(shè)有通風(fēng)腔3,設(shè)備腔2側(cè)面設(shè)有多個(gè)送風(fēng)孔4,配電柜底部設(shè)有通風(fēng)孔5,通風(fēng)孔5為與設(shè)備腔相通,各個(gè)通風(fēng)孔設(shè)有防塵罩6,防塵罩6位于遠(yuǎn)離設(shè)備腔2的底部。

所述配電柜主體上方通過支桿7連接頂板,頂板的頂部設(shè)有太陽能電池板8,底部設(shè)有冷風(fēng)機(jī)9,冷風(fēng)機(jī)9的出口設(shè)有粉塵過濾器10,過濾器10末端連接多條氣管11,在箱體表面有控制氣管輸送氣流的開關(guān)12,氣管11的末端與設(shè)備側(cè)面的送風(fēng)孔密封連接,氣管末端為向下的彎角,彎角的范圍為60°到90°。

所述配電柜主體底部設(shè)有支架13,支架高度為10-15cm。

以上對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明,但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例,不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型范圍所作的均等變化與改進(jìn)等,均應(yīng)仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內(nèi)。

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