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具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):10770544閱讀:234來(lái)源:國(guó)知局
具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括:半導(dǎo)體襯底;電介質(zhì)層,位于所述半導(dǎo)體襯底表面;金屬層,位于所述電介質(zhì)層表面;第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層內(nèi);第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層表面。通過(guò)將用于連接通孔對(duì)準(zhǔn)的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)置于金屬層表面,避免了所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記帶電情況的發(fā)生,進(jìn)而提高了CD-SEM量測(cè)的可靠性;通過(guò)將所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的中心為對(duì)稱中心,對(duì)稱地分布于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的四周,保證了量測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的一致性。
【專利說(shuō)明】
具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)領(lǐng)域,特別是涉及一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展,半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)及工藝變得越來(lái)越復(fù)雜,在半導(dǎo)體工藝過(guò)程中,為保證工藝的精確,對(duì)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的對(duì)準(zhǔn)量測(cè)是必要的一環(huán);CD(關(guān)鍵尺寸)_SEM(掃描電子顯微鏡)量測(cè)是較常用的一種量測(cè)手段。
[0003]現(xiàn)有的一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)如圖1及圖2所示,由圖1及圖2可知,所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括:半導(dǎo)體襯底10、位于所述半導(dǎo)體襯底10表面的電介質(zhì)層11、位于所述電介質(zhì)層11表面的金屬層12、位于所述金屬層12內(nèi)的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13、位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13表面的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14;所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13及所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14的形狀均為十字形;所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13為貫穿所述金屬層12的溝道,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13的底部位于所述電介質(zhì)層11的表面,適于所述金屬層12的對(duì)準(zhǔn);所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14為由多個(gè)連接通孔15構(gòu)成的十字形標(biāo)記,所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14為在芯片的連接通孔的光刻工藝步驟中形成于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14的表面,適于連接通孔的對(duì)準(zhǔn)。
[0004]在連接通孔的光刻工藝的潤(rùn)濕工藝(Rinse process)中,若所述金屬層12內(nèi)形成有開(kāi)口區(qū)域,電荷很容易聚集在所述金屬層12內(nèi)的開(kāi)口中并很難被去除,如圖3所示,由圖3可知,在潤(rùn)濕工藝中,電荷容易通過(guò)光刻膠層17中的開(kāi)口,穿過(guò)抗反射涂層16聚集在所述金屬層12的開(kāi)口內(nèi);由于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13為形成于所述金屬層12內(nèi)的溝道,而所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記13的表面,即位于所述金屬層12的溝道內(nèi),這樣的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)使得所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14非常容易帶電;所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記14容易帶電,在CD-SEM過(guò)程中造成散光,使得SEM圖形變得模糊不清,無(wú)法實(shí)現(xiàn)精確的對(duì)準(zhǔn),從而導(dǎo)致無(wú)法進(jìn)行量測(cè)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本實(shí)用新型的目的在于提供一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),用于解決現(xiàn)有技術(shù)中由于用于連接通孔對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在CD-SEM過(guò)程中容易帶電,使得量測(cè)過(guò)程中無(wú)法對(duì)標(biāo)記圖形進(jìn)行精確對(duì)準(zhǔn),從而無(wú)法進(jìn)行量測(cè)的問(wèn)題。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本實(shí)用新型提供一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),所述具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)至少包括:
[0007]半導(dǎo)體襯底;
[0008]電介質(zhì)層,位于所述半導(dǎo)體襯底表面;
[0009]金屬層,位于所述電介質(zhì)層表面;
[0010]第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層內(nèi);
[0011 ]第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層表面。
[0012]作為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選方案,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為貫穿所述金屬層的溝道,且所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的底部位于所述電介質(zhì)層表面。
[0013]作為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選方案,所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的中心為對(duì)稱中心,對(duì)稱地分布于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的四周。
[0014]作為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選方案,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀與所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀相同。
[0015]作為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選方案,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀為十字形,十字形的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括相互垂直的第一支部,適于所述金屬層的對(duì)準(zhǔn);
[0016]所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀為十字形,十字形的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括由多個(gè)連接通孔組成的、相互垂直的第二支部,適于連接通孔的對(duì)準(zhǔn)。
[0017]作為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選方案,位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記四周的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量為四個(gè),四個(gè)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分別位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的上下兩端及左右兩側(cè),且位于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的一所述第二支部與位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的一所述第一支部位于同一直線上,位于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的另一所述第二支部與位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的另一所述第一支部相平行。
[0018]作為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選方案,所述金屬層為
TiNjlo
[0019]如上所述,本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),通過(guò)將用于連接通孔對(duì)準(zhǔn)的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)置于金屬層表面,避免了所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記帶電情況的發(fā)生,進(jìn)而提高了 CD-SEM量測(cè)的可靠性;通過(guò)將所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的中心為對(duì)稱中心,對(duì)稱地分布于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的四周,保證了量測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的一致性。
【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1顯示為現(xiàn)有技術(shù)中的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖2顯示為圖1沿AA方向的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖3顯示為現(xiàn)有技術(shù)中的光刻工藝的潤(rùn)濕工藝中,電荷在金屬層開(kāi)口中聚集結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖4顯示為本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖5顯示為圖4沿BB方向的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]元件標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0026]10 半導(dǎo)體襯底
[0027]11電介質(zhì)層
[0028]12 金屬層
[0029]13第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記
[0030]14第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記
[0031]15連接通孔
[0032]16 抗反射涂層
[0033]17光刻膠層
[0034]18電荷
[0035]20 半導(dǎo)體襯底
[0036]21電介質(zhì)層
[0037]22金屬層
[0038]23第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記
[0039]231第一支部
[0040]24第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記[0041 ]241第二支部
[0042]25連接通孔
【具體實(shí)施方式】
[0043]以下通過(guò)特定的具體實(shí)例說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施方式,本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說(shuō)明書(shū)所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本實(shí)用新型還可以通過(guò)另外不同的【具體實(shí)施方式】加以實(shí)施或應(yīng)用,本說(shuō)明書(shū)中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用,在沒(méi)有背離本實(shí)用新型的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0044]請(qǐng)參閱圖4至圖5。需要說(shuō)明的是,本實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本構(gòu)想,雖圖示中僅顯示與本實(shí)用新型中有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制,其實(shí)際實(shí)施時(shí)各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變,且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0045]請(qǐng)參閱圖4至圖5,本實(shí)用新型提供一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),所述具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)至少包括:半導(dǎo)體襯底20;電介質(zhì)層21,所述電介質(zhì)層21位于所述半導(dǎo)體襯底20表面;金屬層22,所述金屬層22位于所述電介質(zhì)層21表面;第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23位于所述金屬層22內(nèi);第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24,所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24位于所述金屬層22表面。
[0046]作為示例,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23為貫穿所述金屬層22的溝道,且所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23的底部位于所述電介質(zhì)層21表面;即所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23為通過(guò)刻蝕所述金屬層22以在所述金屬層22內(nèi)形成溝道作為所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23。
[0047]作為示例,所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24以所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23的中心為對(duì)稱中心,對(duì)稱地分布于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23的四周。
[0048]作為示例,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23與所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24的形狀可以根據(jù)實(shí)際需要設(shè)計(jì),所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23與所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24的形狀可以相同,也可以不同,優(yōu)選地,本實(shí)施例中,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23與所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24的形狀相同。
[0049]作為示例,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23的形狀可以為但不僅限于十字形,所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23適于所述金屬層22的對(duì)準(zhǔn);作為示例,所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24的形狀可以為但不僅限于十字形,十字形的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24由多個(gè)連接通孔25構(gòu)成。
[0050]需要說(shuō)明的是,所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24由多個(gè)所述連接通孔25組成,所述連接通孔25的外圍并無(wú)圖4中所示的虛線結(jié)構(gòu),圖4中是為了更清楚的標(biāo)識(shí)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24,在所述連接通孔25外圍人為增加了所述虛線。
[0051 ]作為示例,十字形的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23包括相互垂直的第一支部231,十字形的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24包括相互垂直的第二支部241。
[0052]作為示例,位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23四周的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24的數(shù)量為四個(gè),四個(gè)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24分別位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23的上下兩端及左右兩側(cè),且位于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24中的一所述第二支部241與位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23中的一所述第一支部231位于同一直線上,位于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記24中的另一所述第二支部241與位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記23中的另一所述第一支部231相平行。
[0053]作為示例,所述金屬層22可以為但不僅限于TiN層。
[0054]綜上所述,本實(shí)用新型的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),所述具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)至少包括:半導(dǎo)體襯底;電介質(zhì)層,位于所述半導(dǎo)體襯底表面;金屬層,位于所述電介質(zhì)層表面;第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層內(nèi);第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層表面。通過(guò)將用于連接通孔對(duì)準(zhǔn)的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)置于金屬層表面,避免了所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記帶電情況的發(fā)生,進(jìn)而提高了⑶-SEM量測(cè)的可靠性;通過(guò)將所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的中心為對(duì)稱中心,對(duì)稱地分布于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的四周,保證了量測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的一致性。
[0055]上述實(shí)施例僅例示性說(shuō)明本實(shí)用新型的原理及其功效,而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下,對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此,舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變,仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)至少包括: 半導(dǎo)體襯底; 電介質(zhì)層,位于所述半導(dǎo)體襯底表面; 金屬層,位于所述電介質(zhì)層表面; 第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層內(nèi); 第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,位于所述金屬層表面。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為貫穿所述金屬層的溝道,且所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的底部位于所述電介質(zhì)層表面。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的中心為對(duì)稱中心,對(duì)稱地分布于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的四周。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀與所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀相同。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于: 所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀為十字形,十字形的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括相互垂直的第一支部,適于所述金屬層的對(duì)準(zhǔn); 所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀為十字形,十字形的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括由多個(gè)連接通孔組成的、相互垂直的第二支部,適于連接通孔的對(duì)準(zhǔn)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記四周的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量為四個(gè),四個(gè)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分別位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的上下兩端及左右兩側(cè),且位于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的一所述第二支部與位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的一所述第一支部位于同一直線上,位于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的另一所述第二支部與位于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的另一所述第一支部相平行。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:所述金屬層為T(mén)iN層。
【文檔編號(hào)】H01L23/544GK205452279SQ201620224289
【公開(kāi)日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年3月22日
【發(fā)明人】鄧國(guó)貴, 賀開(kāi)庭
【申請(qǐng)人】中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司, 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司
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