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自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子及其設(shè)備的制造方法

文檔序號:10081727閱讀:423來源:國知局
自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子及其設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種轉(zhuǎn)子,特別涉及一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子及其設(shè)備,屬于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的自動(dòng)噴淋旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,其結(jié)構(gòu)如圖1所示,在轉(zhuǎn)子本體1上一般只開有一個(gè)槽位,即第一槽位12,該槽位內(nèi)可安裝一個(gè)晶舟盒2,工作時(shí),通過噴淋旋干設(shè)備對第一槽位12內(nèi)的晶片3進(jìn)行噴淋旋干作業(yè);另外為了提高轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)效率,一般在轉(zhuǎn)子本體1的一側(cè)開若干圓洞11來減輕轉(zhuǎn)子自重,減輕馬達(dá)負(fù)荷。
[0003]使用中發(fā)現(xiàn),由于轉(zhuǎn)子本體1上僅開有一個(gè)槽位,因此每次噴淋作業(yè)時(shí)僅能清洗一盒25張2英寸的晶片,使噴淋旋干作業(yè)效率較低,且原有轉(zhuǎn)子本體中晶舟盒固定效果差,在高速旋轉(zhuǎn)的過程中,晶舟盒會有些許變形,偶爾會發(fā)生晶舟盒變形導(dǎo)致晶片甩出的情況,造成碎片,嚴(yán)重影響了晶片的旋干質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本實(shí)用新型提供一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,可同時(shí)旋轉(zhuǎn)五盒晶片,有效提高晶片的噴淋旋干效率,還可將晶舟盒很好的固定在轉(zhuǎn)子本體上,減少甩片,避免碎片的產(chǎn)生。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,包括可安裝在噴淋式旋干設(shè)備上的轉(zhuǎn)子本體、設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體上用于放置晶舟盒及晶片的若干槽位及設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體上的若干圓洞;
[0006]所述的槽位包括第一槽位、第二槽位、第三槽位、第四槽位和第五槽位,第三槽位設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體的中心,所述的第一槽位與第四槽位對稱設(shè)置在第三槽位兩側(cè),所述的第二槽位與第五槽位對稱設(shè)置在第三槽位兩側(cè),第一槽位、第二槽位、第四槽位、第五槽位規(guī)則排列在第三槽位的外圍;
[0007]所述每個(gè)槽位內(nèi)均設(shè)有用于固定晶舟盒的固定塊及用于固定晶片的擋桿,所述固定塊設(shè)置在晶舟盒底部,擋桿設(shè)置在晶片頂部。
[0008]作為改進(jìn),所述固定塊的數(shù)量為兩個(gè),兩個(gè)固定塊對稱設(shè)置在晶舟盒底部的兩端,所述擋桿的數(shù)量為一個(gè)。
[0009]作為改進(jìn),所述的固定塊采用SUS316不銹鋼制成,所述擋桿由特氟龍包裹SUS316不銹鋼制成。
[0010]作為改進(jìn),所述的固定塊的截面形狀為L形。
[0011]作為改進(jìn),所述的圓洞具有六個(gè),六個(gè)圓洞以第一槽位與第四槽位所在直線對稱設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體上。
[0012]作為改進(jìn),所述的六個(gè)圓洞對稱設(shè)置在第一槽位的兩側(cè),每側(cè)為三個(gè)。
[0013]另外,本實(shí)用新型還提供了一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備,包括轉(zhuǎn)子,該轉(zhuǎn)子為上述任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果是:在不更換馬達(dá)的前提下,原廠轉(zhuǎn)子只可以旋轉(zhuǎn)一盒晶片,而改進(jìn)后的轉(zhuǎn)子,可以同時(shí)旋轉(zhuǎn)五盒晶片,直接提高產(chǎn)能400%,并且通過轉(zhuǎn)子槽位內(nèi)的擋桿和固定塊,有效起到固定晶舟盒,減少甩片,避免碎片的作用,通過對馬達(dá)功率的計(jì)算,轉(zhuǎn)子重量的計(jì)算,完全達(dá)到馬達(dá)的負(fù)荷,可以正常使用。
【附圖說明】
[0015]圖1為現(xiàn)有轉(zhuǎn)子的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖2為本實(shí)用新型的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)示意圖;
[0017]圖中:1、轉(zhuǎn)子本體,11、圓洞,12、第一槽位,121、擋桿,122、固定塊,13、第二槽位,
14、第三槽位,15、第四槽位,16、第五槽位,2、晶舟盒,3、晶片。
【具體實(shí)施方式】
[0018]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明了,下面通過附圖中及實(shí)施例,對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。此外,在以下說明中,省略了對公知結(jié)構(gòu)和技術(shù)的描述,以避免不必要地混淆本實(shí)用新型的概念。本文中的“第一、第二”等用語僅是為了便于描述,以區(qū)分具有相同名稱的不同組成部件,并不表示先后或主次關(guān)系。
[0019]如圖2所示,一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,包括可安裝在噴淋式旋干設(shè)備上的轉(zhuǎn)子本體1、設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體1上用于放置晶舟盒2及晶片3的若干槽位及設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體1上的若干圓洞11;
[0020]所述的槽位包括第一槽位12、第二槽位13、第三槽位14、第四槽位15和第五槽位16,第三槽位14設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體1的中心,所述的第一槽位12與第四槽位15對稱設(shè)置在第三槽位14兩側(cè),所述的第二槽位13與第五槽位16對稱設(shè)置在第三槽位14兩側(cè),第一槽位12、第二槽位13、第四槽位15、第五槽位16規(guī)則排列在第三槽位14的外圍;
[0021]所述每個(gè)槽位內(nèi)均設(shè)有用于固定晶舟盒2的固定塊122及用于固定晶片3的擋桿121,所述固定塊122設(shè)置在晶舟盒2底部,擋桿121設(shè)置在晶片3頂部。
[0022]作為實(shí)施例的改進(jìn),所述固定塊122的數(shù)量為兩個(gè),兩個(gè)固定塊122對稱設(shè)置在晶舟盒2底部的兩端,所述擋桿121的數(shù)量為一個(gè),通過固定塊122和擋桿121的配合,對晶片3起到很好的緩沖,防止晶片3發(fā)生碰撞,避免在高速旋轉(zhuǎn)過程中,晶舟盒2發(fā)生形變以及晶片3甩出的情況。
[0023]作為實(shí)施例的改進(jìn),所述的固定塊122采用SUS316不銹鋼制成,所述擋桿121由特氟龍包裹SUS316不銹鋼制成,特氟龍材料具有抗酸抗堿、抗各種有機(jī)溶劑的特點(diǎn)、耐高溫,且摩擦系數(shù)極低,可減少和晶片3的摩擦,從而避免傷及晶片3的邊緣;同時(shí)在自動(dòng)噴淋旋干設(shè)備運(yùn)行過程中,有效避免水分或硫酸、熱氮?dú)鈱鯒U121中金屬部分的腐蝕。
[0024]作為實(shí)施例的改進(jìn),所述的固定塊122的截面形狀為L形,固定效果好,更好的起到穩(wěn)固晶舟盒2的作用。
[0025]作為實(shí)施例的改進(jìn),所述的圓洞11具有六個(gè),六個(gè)圓洞11以第一槽位12與第四槽位15所在直線對稱設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體1上,主要目的是減輕轉(zhuǎn)子本體的總重量,從而減輕馬達(dá)的運(yùn)轉(zhuǎn)負(fù)荷,并起到平衡作用。因轉(zhuǎn)子在設(shè)備內(nèi)部安裝,需要傾斜一定的角度,防止在晶片3高速運(yùn)轉(zhuǎn)過程中甩出,為了使轉(zhuǎn)子運(yùn)行完停止時(shí)角度為固定角度,方便晶舟盒取放,所以設(shè)計(jì)采用六個(gè)圓洞11。
[0026]作為實(shí)施例的改進(jìn),所述的六個(gè)圓洞11對稱設(shè)置在第一槽位12的兩側(cè),每側(cè)為三個(gè)。
[0027]另外,本實(shí)用新型還提供了一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備,包括轉(zhuǎn)子,該轉(zhuǎn)子為上述任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子,該轉(zhuǎn)子每次可以同時(shí)清洗5盒,每盒有25張晶片,每次可以同時(shí)清洗125張2英寸的晶片,效率提尚明顯。
[0028]使用時(shí),根據(jù)現(xiàn)有轉(zhuǎn)子的結(jié)構(gòu),以及腔體內(nèi)部空間大小,通過合理的布局和規(guī)劃,將轉(zhuǎn)子本體1的尺寸直徑增加5厘米,然后在其表面均勻設(shè)有五個(gè)槽位,包括位于中心的一個(gè)及外圍的四個(gè),通過對現(xiàn)場設(shè)備的實(shí)際測量,主要是腔體內(nèi)徑的測量,新設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)子完全可以適應(yīng)現(xiàn)有設(shè)備,作業(yè)效率高,且對晶片的噴淋旋干效果好。
[0029]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換或改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,包括可安裝在噴淋式旋干設(shè)備上的轉(zhuǎn)子本體(1)、設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體(1)上用于放置晶舟盒(2)及晶片(3)的若干槽位及設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體(I)上的若干圓洞(11),其特征在于: 所述的槽位包括第一槽位(12)、第二槽位(13)、第三槽位(14)、第四槽位(15)和第五槽位(16),第三槽位(14)設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體(1)的中心,所述的第一槽位(12)與第四槽位(15)對稱設(shè)置在第三槽位(14)兩側(cè),所述的第二槽位(13)與第五槽位(16)對稱設(shè)置在第三槽位(14)兩側(cè),第一槽位(12)、第二槽位(13)、第四槽位(15)、第五槽位(16)規(guī)則排列在第三槽位(14)的外圍; 所述每個(gè)槽位內(nèi)均設(shè)有用于固定晶舟盒(2)的固定塊(122)及用于固定晶片(3)的擋桿(121),所述固定塊(122)設(shè)置在晶舟盒(2)底部,擋桿(121)設(shè)置在晶片(3)頂部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,其特征在于,所述固定塊(122)的數(shù)量為兩個(gè),兩個(gè)固定塊(122)對稱設(shè)置在晶舟盒(2)底部的兩端,所述擋桿(121)的數(shù)量為一個(gè)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,其特征在于,所述的固定塊(122)采用SUS316不銹鋼制成,所述擋桿(121)由特氟龍包裹SUS316不銹鋼制成。4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,其特征在于,所述的固定塊(122)的截面形狀為L形。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,其特征在于,所述的圓洞(II)具有六個(gè),六個(gè)圓洞(11)以第一槽位(12)與第四槽位(15)所在直線對稱設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體⑴上。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,其特征在于,所述的六個(gè)圓洞(11)對稱設(shè)置在第一槽位(12)的兩側(cè),每側(cè)為三個(gè)。7.一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備,包括轉(zhuǎn)子,其特征在于,所述的轉(zhuǎn)子為權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種自動(dòng)噴淋式旋干設(shè)備用轉(zhuǎn)子,屬于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,包括轉(zhuǎn)子本體(1)、若干槽位及若干圓洞(11),槽位包括第一槽位(12)、第二槽位(13)、第三槽位(14)、第四槽位(15)和第五槽位(16),第三槽位設(shè)置在轉(zhuǎn)子本體的中心,第一槽位與第四槽位對稱設(shè)置在第三槽位兩側(cè),第二槽位與第五槽位對稱設(shè)置在第三槽位兩側(cè),第一槽位、第二槽位、第四槽位、第五槽位規(guī)則排列在第三槽位的外圍;每個(gè)槽位內(nèi)均設(shè)有固定塊(122)及(121),固定塊設(shè)置在晶舟盒(2)底部,擋桿設(shè)置在晶片(3)頂部;本實(shí)用新型還提供了一種裝有上述轉(zhuǎn)子的設(shè)備。該轉(zhuǎn)子可有效增加產(chǎn)能,有效起到固定晶舟盒,減少甩片,避免碎片的作用。
【IPC分類】H01L21/02
【公開號】CN204991653
【申請?zhí)枴緾N201520485873
【發(fā)明人】呂承鵬, 魏明德, 王樂浩, 于玉齋, 呂康理, 張黎明
【申請人】徐州同鑫光電科技股份有限公司
【公開日】2016年1月20日
【申請日】2015年7月7日
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