一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造及真空檢漏領(lǐng)域，特別涉及一種LED刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]托盤是LED刻蝕機(jī)中關(guān)鍵部件，在刻蝕、沉積等工藝過程作為晶片的載體，同時(shí)通過托盤上的氣孔，引導(dǎo)氦氣對(duì)晶片進(jìn)行冷卻及溫度控制。托盤結(jié)構(gòu)中對(duì)晶片的上表面的夾持區(qū)域、下表面的密封區(qū)域通常設(shè)計(jì)得非常小，以最大化晶片的利用率，從而增大了托盤的制造難度及氦氣泄漏的可能性。氦氣漏率的高低直接決定了冷卻的效果，影響到工藝品質(zhì)。通過嚴(yán)格控制托盤制造及產(chǎn)品尺寸，保證托盤裝配的精度，可以大大降低氦氣泄漏的概率，但仍不能百分之百避免托盤在使用過程發(fā)生泄漏的可能。需要尋求一套適用的真空測漏裝置用來模擬托盤的裝配和使用關(guān)系，讓用戶和制造者在托盤上機(jī)使用前了解其漏率情況。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置，其結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，制造成本低，用最直觀的方法判斷托盤的氦漏情況，杜絕托盤裝機(jī)使用后發(fā)生氦漏的現(xiàn)象，提尚生廣效率。
[0004]本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置，包括配重塊、真空室，其特征在于:所述的真空室內(nèi)設(shè)置有裝配好的托盤，托盤外圈上面設(shè)置有配重塊，真空室與托盤之間設(shè)置有第一密封圈，真空室頂部通過螺釘固定有真空腔蓋，真空室與真空腔蓋之間設(shè)置有第二密封圈；真空室側(cè)面連接有氦質(zhì)譜檢漏儀；所述的真空室底面中心設(shè)置有氦氣接入口，側(cè)面設(shè)置有抽氣口。所述的真空室底面與托盤外圈對(duì)應(yīng)處設(shè)置有第一密封溝槽，真空室頂面內(nèi)圈設(shè)置有第二密封溝槽。
[0005]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，制造成本低，有效判斷托盤的漏率情況，提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0006]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0007]圖中1、配重塊，2、真空室，3、托盤，4、氦氣接入口，5、第一密封圈，6、第二密封圈，7、抽氣口，8、真空腔蓋。
【具體實(shí)施方式】
[0008]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明:
[0009]參照附圖，一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置，包括配重塊1、真空室2，其特征在于:所述的真空室2內(nèi)設(shè)置有裝配好的托盤3，托盤3外圈上面設(shè)置有配重塊1，真空室2與托盤3之間設(shè)置有第一密封圈5，真空室2頂部通過螺釘固定有真空腔蓋8，真空室2與真空腔蓋8之間設(shè)置有第二密封圈6 ;真空室2側(cè)面連接有氦質(zhì)譜檢漏儀；所述的真空室2底面中心設(shè)置有氦氣接入口 4，側(cè)面設(shè)置有抽氣口 7。所述的真空室2底面與托盤3外圈對(duì)應(yīng)處設(shè)置有第一密封溝槽，真空室2頂面內(nèi)圈設(shè)置有第二密封溝槽。
[0010]具體實(shí)施時(shí)，用不銹鋼材質(zhì)的配重塊壓在裝配后的托盤外圈，托盤在配重塊重力作用下壓縮第一密封圈，形成密封區(qū)，氦氣不會(huì)從托盤與真空室底面泄漏。真空腔蓋在螺釘?shù)淖饔孟聣嚎s第二密封圈，保持真空腔的密閉狀態(tài)。氦質(zhì)譜檢漏儀從真空室側(cè)面抽氣口抽氣，使腔內(nèi)達(dá)到規(guī)定的真空度并讀取、檢測真空度變化；氦氣從氦氣接入口接入，進(jìn)入托盤與真空室底面的密封區(qū)，若托盤內(nèi)部有泄漏，則氦氣從密封區(qū)泄漏進(jìn)入真空腔，并引起氦質(zhì)譜檢漏儀檢測數(shù)據(jù)的變化。操作時(shí)，氦質(zhì)譜檢漏儀先從真空室側(cè)面抽氣口抽氣，使真空腔內(nèi)達(dá)到規(guī)定的真空度要求后，從真空室的底部接入氦氣，觀察氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)變化情況，即可直觀判斷托盤是否發(fā)生氦漏。本實(shí)用新型操作簡單，制造成本低，能有效檢測托盤在使用過程中的泄漏情況，杜絕托盤裝機(jī)使用后發(fā)生氦漏的現(xiàn)象，提高生產(chǎn)效率。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置，包括配重塊(1)、真空室(2)，其特征在于:所述的真空室(2 )內(nèi)設(shè)置有裝配好的托盤(3 )，托盤(3 )外圈上面設(shè)置有配重塊(I)，真空室(2 )與托盤(3)之間設(shè)置有第一密封圈(5)，真空室(2)頂部通過螺釘固定有真空腔蓋(8)，真空室(2)與真空腔蓋(8)之間設(shè)置有第二密封圈(6);真空室(2)側(cè)面連接有氦質(zhì)譜檢漏儀；所述的真空室(2 )底面中心設(shè)置有氦氣接入口( 4)，側(cè)面設(shè)置有抽氣口( 7 )。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置，其特征在于:所述的真空室(2)底面與托盤(3)外圈對(duì)應(yīng)處設(shè)置有第一密封溝槽，真空室(2)頂面內(nèi)圈設(shè)置有第二密封溝槽。
【專利摘要】一種刻蝕機(jī)托盤的真空測漏裝置，包括配重塊、真空室，所述的真空室內(nèi)設(shè)置有裝配好的托盤，托盤外圈上面設(shè)置有配重塊，真空室與托盤之間設(shè)置有第一密封圈，真空室頂部通過螺釘固定有真空腔蓋，真空室與真空腔蓋之間設(shè)置有第二密封圈；真空室側(cè)面連接有氦質(zhì)譜檢漏儀；所述的真空室底面中心設(shè)置有氦氣接入口，側(cè)面設(shè)置有抽氣口。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，制造成本低，有效判斷托盤的漏率情況，提高了生產(chǎn)效率。
【IPC分類】H01L21/67
【公開號(hào)】CN204857682
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520658306
【發(fā)明人】游利
【申請(qǐng)人】靖江先鋒半導(dǎo)體科技有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請(qǐng)日】2015年8月28日